玻璃元件的清洗方法技术

本发明专利技术涉及一种玻璃元件的清洗方法，该制备方法包括以下步骤：将抛光后的玻璃元件先置于酸性清洗液中依次进行第一次超声处理和第二次超声处理，然后置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，最后进行水洗、干燥，得到清洗后的玻璃元件；其中，第一次超声处理的频率为10KHz～30KHz，第二次超声处理的频率为40KHz～70KHz。该清洗方法能有效提高玻璃元件的清洗效率，且对玻璃元件无损伤性。

【技术实现步骤摘要】
玻璃元件的清洗方法
本专利技术涉及玻璃清洗领域，特别是涉及一种玻璃元件的清洗方法。
技术介绍
在玻璃元件的生产过程中，为了使玻璃表面的粗糙度降低，需要对玻璃的表面进行抛光处理。在抛光过程中通常会利用抛光粉对玻璃的表面进行抛光加工，在抛光之后会有一部分抛光粉残留在玻璃表面。一方面，残留在玻璃元件表面的抛光粉微粒会对玻璃元件表面产生腐蚀，例如，精密抛光后的光学玻璃元件上残留的抛光粉微粒是影响元件抗激光辐照损伤能力的关键因素之一；另一方面，当将玻璃元件组装到电子产品上之后，玻璃元件表面残留的抛光粉会严重影响电子产品的稳定性和可靠性，甚至导致电子产品失效。而传统的清洗玻璃元件表面抛光粉的方法大都采用碱性清洗剂对玻璃元件表面进行清洗，然而使用碱性清洗剂对玻璃表面抛光粉的去除效果欠佳；还有些技术通过人工刷洗配合各类环保清洗剂的方式清洗玻璃元件，但需要反复多次清洗，排污大、耗材多；加之人工刷洗在操作上具有不确定性，不可避免地会导致玻璃元件表面产生细微的划伤，进而影响玻璃元件的性能。因此，如何提供一种高效且对玻璃无损伤的玻璃元件清洗方法具有重大本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玻璃元件的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：/n提供抛光后的玻璃元件；/n将所述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；/n将经所述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；/n将经所述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗，干燥。/n

【技术特征摘要】
1.一种玻璃元件的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供抛光后的玻璃元件；
将所述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；
将经所述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；
将经所述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗，干燥。


2.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，以所述酸性清洗液的总质量为基准，所述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：





3.如权利要求2所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述有机酸为有机羧酸；所述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。


4.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；和/或
所述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min。


5.如权利要求1所述的玻璃元件的清...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建章，彭晓林，丁雄风，王世军，陈磊，
申请(专利权)人：万津实业赤壁有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42