玻璃元件的清洗方法技术

本发明专利技术涉及一种玻璃元件的清洗方法，该制备方法包括以下步骤：将抛光后的玻璃元件先置于酸性清洗液中依次进行第一次超声处理和第二次超声处理，然后置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，最后进行水洗、干燥，得到清洗后的玻璃元件；其中，第一次超声处理的频率为10KHz～30KHz，第二次超声处理的频率为40KHz～70KHz。该清洗方法能有效提高玻璃元件的清洗效率，且对玻璃元件无损伤性。

【技术实现步骤摘要】
玻璃元件的清洗方法
本专利技术涉及玻璃清洗领域，特别是涉及一种玻璃元件的清洗方法。
技术介绍
在玻璃元件的生产过程中，为了使玻璃表面的粗糙度降低，需要对玻璃的表面进行抛光处理。在抛光过程中通常会利用抛光粉对玻璃的表面进行抛光加工，在抛光之后会有一部分抛光粉残留在玻璃表面。一方面，残留在玻璃元件表面的抛光粉微粒会对玻璃元件表面产生腐蚀，例如，精密抛光后的光学玻璃元件上残留的抛光粉微粒是影响元件抗激光辐照损伤能力的关键因素之一；另一方面，当将玻璃元件组装到电子产品上之后，玻璃元件表面残留的抛光粉会严重影响电子产品的稳定性和可靠性，甚至导致电子产品失效。而传统的清洗玻璃元件表面抛光粉的方法大都采用碱性清洗剂对玻璃元件表面进行清洗，然而使用碱性清洗剂对玻璃表面抛光粉的去除效果欠佳；还有些技术通过人工刷洗配合各类环保清洗剂的方式清洗玻璃元件，但需要反复多次清洗，排污大、耗材多；加之人工刷洗在操作上具有不确定性，不可避免地会导致玻璃元件表面产生细微的划伤，进而影响玻璃元件的性能。因此，如何提供一种高效且对玻璃无损伤的玻璃元件清洗方法具有重大意义。
技术实现思路
基于此，本专利技术提供了一种高效且对玻璃无损伤的玻璃元件的清洗方法。本专利技术的技术方案如下。本专利技术一方面提供了一种玻璃元件的清洗方法，包括如下步骤：提供抛光后的玻璃元件；将上述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；将经上述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；将经上述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗、干燥。在其中一些实施例中，以所述酸性清洗液的总质量为基准，上述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：进一步地，上述有机酸为有机羧酸；上述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；上述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。在其中一些实施例中，上述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；和/或上述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min。在其中一些实施例中，在上述将玻璃元件置于酸性清洗液中的步骤之前，还包括如下步骤：将上述玻璃元件置于酸中浸泡。进一步地，上述酸为柠檬酸；上述浸泡的条件为：于20℃～60℃下浸泡5min～60min。在其中一些实施例中，以所述碱性清洗液的总质量为基准，上述碱性清洗剂包含以下重量百分数的组分：进一步地，上述强碱为无机强碱；上述碱式盐选自碱式硅酸盐、碱式碳酸盐和碱式磷酸盐中的至少一种。在其中一些实施例中，上述第三次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；上述第三次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声时间5min～60min。在其中一些实施例中，上述将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗的步骤中，所述水洗的方式如下：将上述经第三次超声处理后的玻璃元件置于水中，进行漂洗；上述漂洗的条件为：于40℃～80℃下漂洗5min～60min。有益效果本专利技术的玻璃元件的清洗方法中，首先将玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；残留在玻璃元件表面的抛光粉能溶解在酸性清洗液中，在10KHz～30KHz的超声频率下进行第一次超声处理，可以有效除去大颗粒的抛光粉；进一步在40KHz～70KHz的超声频率下进行第二次超声处理，可以除去微细颗粒的抛光粉；通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，且不对玻璃元件产生损伤。然后将经第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，以溶解玻璃元件表面的残留的人体的体液、油污或因外界物质腐蚀产生的破坏层；进而将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗、干燥，得到清洗后的玻璃元件。本专利技术的玻璃元件的清洗方法中，先通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，将玻璃元件上残留的抛光粉清除得干净彻底，避免了在后续采用碱性清洗液对玻璃元件表面进行超声处理过程中残留的抛光粉微粒对玻璃表面产生碎划伤，从而影响玻璃元件的性能导致出现玻璃元件报废的问题，如此该清洗方法高效且对玻璃无损伤。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将对本专利技术进行更全面的描述，并给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本专利技术一实施方式提供了一种玻璃元件的清洗方法，包括如下步骤S100～400。步骤S100、提供抛光后的玻璃元件。步骤S100中，上述玻璃元件可以是普通的玻璃镜片；也可以是光学玻璃元件，如光学玻璃镜片等。进一步地，步骤S100中，抛光所用的抛光粉包括，但不限于：氧化铈、氧化镧、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆和氧化铬等。步骤S200、将步骤S100所得玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，第一次超声处理的频率为10KHz～30KHz；第二次超声处理的频率为40KHz～70KHz。将抛光后的玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；残留在玻璃元件表面的抛光粉能溶解在酸性清洗液中，在10KHz～30KHz的超声频率下进行第一次超声处理，可以有效除去大颗粒的抛光粉；进一步在40KHz～70KHz的超声频率下进行第二次超声处理，可以除去微细颗粒的抛光粉；通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，且不对玻璃元件产生损伤。在其中一些实施例中，以酸性清洗液的总质量为基准，上述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：上述酸性清洗液中，具有特定质量百分数的各组分之间有明显的协同作用；其中，非离子型表面活性剂和阳离子表面活性剂配合可以进一步降低酸性清洗液的表面张力，从而增加了酸性清洗液与玻璃表面的残留的抛光粉的接触面积，进一步提高酸性清洗液的清洗效率。阴离子表面活性剂按其亲水基团的结构主要包括：磺酸盐和硫酸酯盐，此处对阴离子表面活性剂举例，但不限于如下范围：磺化的脂肪酸甘油酯，其中脂肪酸甘油酯为一、二或三酯及其混合物，如己酸、辛酸、癸酸、肉豆蔻酸、月桂酸、棕榈酸、硬脂酸或二十二烷基酸的磺化产物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玻璃元件的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：/n提供抛光后的玻璃元件；/n将所述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；/n将经所述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；/n将经所述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗，干燥。/n

【技术特征摘要】
1.一种玻璃元件的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供抛光后的玻璃元件；
将所述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；
将经所述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；
将经所述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗，干燥。


2.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，以所述酸性清洗液的总质量为基准，所述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：





3.如权利要求2所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述有机酸为有机羧酸；所述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。


4.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；和/或
所述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min。


5.如权利要求1所述的玻璃元件的清...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建章，彭晓林，丁雄风，王世军，陈磊，
申请(专利权)人：万津实业赤壁有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42