真空低温烹调器制造技术

技术编号:26009182 阅读:28 留言:0更新日期:2020-10-23 19:54
一种真空低温烹调器,具有外壳、附接到外壳以形成第一腔室的隔板、附接到隔板以形成第二腔室的散热器、以及附接到隔板以在散热器的下方形成第三腔室的裙部。TRIAC以导热连通的方式物理地附接到第二腔室中的散热器。所述烹调器还具有:电机;叶轮,位于第三腔室中;驱动轴,至少延伸穿过散热器并且进入第三腔室中并且将电机操作性地连接到叶轮;以及加热元件,位于第三腔室中。

【技术实现步骤摘要】
真空低温烹调器
本申请涉及真空低温(sousvide,低温慢煮)浸入式烹调系统的领域,其中整个外壳被部分地浸没在液体烹调媒介中。
技术介绍
真空低温烹调装置普遍使用于商用及家用厨房中。通过将水或另一种液体媒介加热到预定温度,并将食物浸没到待烹调的液体中来操作真空低温烹调装置。真空低温与简单煮沸等的不同之处在于食物(例如,通过真空包装或塑料袋)与液体隔离,烹调温度通常相对较低(例如,125℉)。典型的专业真空低温烹调器包括加热和循环系统以及独立的浴具(bath)结构。浴具容纳食物,并且加热和循环系统使加热的液体泵入和泵出浴具。加热和循环系统与浴具本身隔离,因此,操作者不太可能与加热元件或液体以外的其他加热组件接触。家用厨房中使用的真空低温烹调器通常是“浸入式”的,其中,真空低温烹调器设置为单一整体式装置,具有加热器和泵。通过将浸入式烹调器部分地浸没在设置于容器(诸如,锅或盆)中的液体浴具中而使用该浸入式烹调器。通常,这种浸入式烹调器配置成通过可调节的夹具等在各种各样不同的容器中工作。虽然浸入式烹调器比典型的专业真空低温系统更加便携本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空低温烹调器,包括:/n外壳,沿纵轴线从上外壳端延伸到下外壳端,并且包括至少一个显示器;/n隔板,具有沿所述纵轴线延伸到所述下外壳端的上隔板端和在所述外壳的下方沿所述纵轴线延伸的下隔板端,在所述隔板与所述外壳之间形成第一腔室;/n散热器,包括金属材料并且具有邻接所述隔板的上散热器端和在所述隔板的下方沿所述纵轴线延伸的下散热器端,在所述散热器与所述隔板之间形成第二腔室;/n裙部,在上裙部端附接到所述隔板并且延伸到位于所述下散热器端的下方的下裙部端,以在所述裙部与所述散热器之间形成第三腔室,所述裙部沿垂直于所述纵轴线的方向围绕所述散热器,并且具有位于所述下散热器端的下方的一个或多个入口开...

【技术特征摘要】
20190412 US 16/382,5341.一种真空低温烹调器,包括:
外壳,沿纵轴线从上外壳端延伸到下外壳端,并且包括至少一个显示器;
隔板,具有沿所述纵轴线延伸到所述下外壳端的上隔板端和在所述外壳的下方沿所述纵轴线延伸的下隔板端,在所述隔板与所述外壳之间形成第一腔室;
散热器,包括金属材料并且具有邻接所述隔板的上散热器端和在所述隔板的下方沿所述纵轴线延伸的下散热器端,在所述散热器与所述隔板之间形成第二腔室;
裙部,在上裙部端附接到所述隔板并且延伸到位于所述下散热器端的下方的下裙部端,以在所述裙部与所述散热器之间形成第三腔室,所述裙部沿垂直于所述纵轴线的方向围绕所述散热器,并且具有位于所述下散热器端的下方的一个或多个入口开口和一个或多个出口开口;
TRIAC,在所述第二腔室中以导热连通的方式被物理性地附接到所述散热器;
叶轮,位于所述第三腔室中;
驱动轴,至少延伸穿过所述散热器并进入所述第三腔室中,且操作性地连接到所述叶轮;
电机,操作性地连接到所述驱动轴;以及
加热元件,位于所述第三腔室内。


2.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述隔板包括位于所述下外壳端与所述上裙部端之间的周向肋,并且所述下外壳端、所述周向肋和所述上裙部端沿所述纵轴线形成沿预定距离连续的壁轮廓。


3.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述散热器包括单片铝。


4.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述加热元件安装到所述散热器上。


5.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述加热元件包括围绕所述驱动轴的线圈。


6.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,还包括至少一个温度传感器或水位传感器,所述至少一个温度传感器或水位传感器安装到所述散热器并且延伸到所述第三腔室中。


7.根据权利要求6所述的真空低温烹调器,其中,所述至少一个温度传感器或水位传感器通过电绝缘体安装到所述散热器,并且还包括由绝缘材料制成的密封件,所述密封件覆盖所述下散热器端并且包围所述至少一个温度传感器或水位传感器。


8.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述TRIAC通过一层热脂附接到所述散热器。


9.根据权利要求1所述的真空低温烹调器,其中,所述第二腔室至少部分地由所述散热器中的凹部形成,所述凹部从所述上散热器端向所述下散热器端延伸。


10.根据权利要求9所述的真空低温烹调器,其中,所述凹部具有圆柱形形状。


11.根据权利要求9所述的真空低温烹调器,其中,所述凹部包括一侧壁,所述侧壁从所述上散...

【专利技术属性】
技术研发人员:C·H·梅塞尔夏雨杰V·L·胡
申请(专利权)人:安诺华应用电子公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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