具有反光识别区的光掩模夹具制造技术

本实用新型专利技术提供一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，所述光掩模夹具包括：夹具框体；光掩模窗口，位于所述夹具框体中；以及反光识别区，位于所述夹具框体上，并与所述反光识别探测器对准设置。本实用新型专利技术在夹具框体上设置具有高反光率的反光识别区，使得不再需要整个光掩模夹具的材质都具有高反射率，可以使用价格较低的金属替代原来昂贵的高反射金属材质，仅需在反光识别区设置高反射材料即可，从而大大降低了光掩模夹具的材料成本及制造成本。

【技术实现步骤摘要】
具有反光识别区的光掩模夹具
本技术涉及一种光掩模夹具，特别是涉及一种具有反光识别区的光掩模夹具。
技术介绍
光掩模也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形模版，由不透明的遮光金属层在透明基板上形成掩模图形，并通过曝光将图形转印到硅片基板上。光掩模主要由两部分组成：基板和不透光材料。作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密模具，光掩模是半导体制程中非常关键的一环。近年来，光掩模主要应用于集成电路、平板显示(包括LCD、LED、OLED等)等领域，应用较为广泛。现有的光掩模夹具由于其对材质特性(如反光率等)的特殊要求，光掩模夹具的材料成本及制造成本十分高昂。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于解决现有技术中光掩模夹具的材料成本及制造成本过于高昂的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，所述光掩模夹具包括：夹具框体；光掩模窗口，位于所述夹具框体中；以及反光识别区，位于所述夹具框体上，并与所述反光识别探测器对准设置。可选地，所述反光识别区的光反射率不小于80％。进一步地，所述反光识别区的光反射率不小于90％。可选地，所述反光识别区包括包覆或粘附于所述夹具框体上的锡纸。可选地，所述反光识别区包括溅射或电镀于所述夹具框体上的金层。可选地，所述夹具框体的材质包括非磁性金属。可选地，所述夹具框体的材质包括铝合金。可选地，所述光掩模窗口适用于所述光掩模窗口适用于4英寸～6英寸的光掩模。可选地，所述反光识别区的长度介于1.5～2.5英寸之间，宽度介于0.3英寸～0.5英寸之间。可选地，所述夹具框体的边缘上还具有一定位槽，所述反光识别区位于所述定位槽与所述光掩模窗口之间。如上所述，本技术的具有反光识别区的光掩模夹具，具有以下有益效果：本技术的具有反光识别区的光掩模夹具，在夹具框体上设置具有高反光率的反光识别区，该反光识别区并与光掩模工作台上方的反光识别探测器对准设置，使得不再需要整个光掩模夹具的材质都具有高反射率，可以使用价格较低的金属替代原来昂贵的高反射金属材质，仅需在反光识别区设置高反射材料即可，从而大大降低了光掩模夹具的材料成本及制造成本。附图说明图1显示为一种具有反光识别区的光掩模夹具的结构示意图。图2显示为本技术的具有反光识别区的光掩模夹具的结构示意图。元件标号说明101夹具框体102光掩模窗口201夹具框体202光掩模窗口203反光识别区204定位槽具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。如在详述本技术实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本技术保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。为了方便描述，此处可能使用诸如“之下”、“下方”、“低于”、“下面”、“上方”、“上”等的空间关系词语来描述附图中所示的一个元件或特征与其他元件或特征的关系。将理解到，这些空间关系词语意图包含使用中或操作中的器件的、除了附图中描绘的方向之外的其他方向。此外，当一层被称为在两层“之间”时，它可以是所述两层之间仅有的层，或者也可以存在一个或多个介于其间的层。在本申请的上下文中，所描述的第一特征在第二特征“之上”的结构可以包括第一和第二特征形成为直接接触的实施例，也可以包括另外的特征形成在第一和第二特征之间的实施例，这样第一和第二特征可能不是直接接触。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，遂图示中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。如图1所示，本技术首先提供一种光掩模夹具，该光掩模夹具包括框体101及窗口102，该光掩模夹具在应用的过程中，包括以下步骤：第一步，光掩模夹具从大气环境中被传送到真空环境中的工作台上；第二步，工作台上方的反光识别探测器自动判断夹具是否已被传送到工作台上的精确位置，真空环境中的工作台上方有传感器，传感器接收来自夹具上的反射光，从而判断夹具是否精确到位。若光掩模夹具材料本身反光能力达不到要求，真空环境中的传感器接收不到反光信号，则工作台会认为夹具没被传送到工作台(即使夹具就在工作台上)，导致机器不能正常工作。因此，对光掩模夹具的材质和加工要求非常高，导致光掩模夹具的价格十分昂贵。基于以上缺陷，基于分析和试验，发现光掩模工作台的反光识别探测器并不要求整个光掩模夹具均具有高反射率，反光识别探测器仅探测光掩模夹具上的预定区域，只要该预定区域的反射率达到阈值要求，则光掩模工作台就能正常识别及正常工作。如图2所示，本技术又提供一种具有反光识别区203的光掩模夹具，所述光掩模夹具用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，当所述反光识别探测器探测到光掩模夹具的预定区域所反射的光线达到所需阈值时，工作台开始工作。如图2所示所述光掩模夹具包括夹具框体201、光掩模窗口202以及反光识别区203。在本实施例中，所述夹具框体201的材质包括非磁性金属，例如，所述夹具框体201的材质包括铝合金。所述夹具框体201本身的反光率可以低于80％，例如为20％～50％等，也不需要采用特殊的抛光工艺对所述夹具框体201进行抛光，只需要普通的成型工艺制备即可。所述光掩模窗口202位于所述夹具框体201中，例如，所述光掩模窗口202可以位于所述夹具框体201的中部区域。所述光掩模窗口202的形状可以为矩形，如图2所示，可选地，所述光掩模窗口202适用于4英寸～6英寸的光掩模。所述反光识别区203位于所述夹具框体201上，并与所述反光识别探测器对准设置。例如，所述反光识别区203的光反射率不小于80％，以达到所述光掩模工作台的反光识别探测器对光掩模夹具的反光阈值。更优选地，所述反光识别区203的光反射率不小于90％。在一具体的实施例中，所述反光识别区203可以为包覆或粘附于所述夹具框体201上的锡纸，锡纸具有非常高的反射率，并且价格低廉，可以大大降低光掩模夹具的成本。在又一具体的实施例中，所述反光识别区203也可以为溅射或电镀于所述夹具框体201上的金层。采用溅射或电镀制备的金层，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，其特征在于，所述光掩模夹具包括：/n夹具框体；/n光掩模窗口，位于所述夹具框体中；以及/n反光识别区，位于所述夹具框体上，并与所述反光识别探测器对准设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，其特征在于，所述光掩模夹具包括：
夹具框体；
光掩模窗口，位于所述夹具框体中；以及
反光识别区，位于所述夹具框体上，并与所述反光识别探测器对准设置。


2.根据权利要求1所述的具有反光识别区的光掩模夹具，其特征在于：所述反光识别区的光反射率不小于80％。


3.根据权利要求2所述的具有反光识别区的光掩模夹具，其特征在于：所述反光识别区的光反射率不小于90％。


4.根据权利要求1所述的具有反光识别区的光掩模夹具，其特征在于：所述反光识别区包括包覆或粘附于所述夹具框体上的锡纸。


5.根据权利要求1所述的具有反光识别区的光掩模夹具，其特征在于：所述反光识别区包...

【专利技术属性】
技术研发人员：王国荃，
申请(专利权)人：上海凸版光掩模有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31