【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于壳管式设备的抗侵蚀装置
本专利技术涉及一种用于壳管式设备的抗侵蚀装置,且更特别地涉及一种用于壳管式设备的管板的抗侵蚀装置。
技术介绍
当管侧流体的特征在于高速和两相时,因为流体载有固体颗粒或气泡,壳管式设备的入口管板(比如热交换器和化学反应器)可经受损坏和早期磨损。此类流体可引起入口管板上的局部侵蚀。来自用于乙烯生产的蒸汽裂解炉的气体为有害流体的示例:载有焦炭颗粒的处于高温和高速的裂解气体通常借助于壳管式热交换器(也称为“传输线交换器”或TLE)来冷却,该入口管板以及管到管板的接头通常遭受显著的磨损。为了消除或减轻处理侵蚀性管侧流体的壳管式设备的入口管板的磨损,若干解决方案可用:在它们之中,套圈或套筒的使用代表(represent)主要解决方案。套圈或套筒是短管或管道,通常设有特定形状的入口和出口端,其可安装在入口管板孔和管外部或者部分或全部地安装在入口管板孔和管内部。现有技术水平下已知用于面对侵蚀问题的许多类型的套圈或套筒:这里回想它们中的几个。例如,文献FR2508156描述一种管状装置,该管状装置为 ...
【技术保护点】
1.壳管式设备(10),所述壳管式设备(10)包括围绕管束(14)的壳(12),其中所述管束(14)包括多个管(16),其中每个管(16)的至少一端在相应的管板孔(20)处设有与入口管板(18)的接头(26),以用于将流体(F)引入所述壳管式设备(10)中,其中所述入口管板(18)设有第一侧(22)和第二侧(24),所述第一侧(22)从位于所述入口管板(18)上游的入口通道接收所述流体(F),所述第二侧(24)与所述第一侧(22)相反且所述管(16)在所述第二侧(24)上连结,且其中所述入口管板(18)在所述第二侧(24)上连接到所述管束(14)的每个管(16),使得每个管 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171215 EP 17425125.61.壳管式设备(10),所述壳管式设备(10)包括围绕管束(14)的壳(12),其中所述管束(14)包括多个管(16),其中每个管(16)的至少一端在相应的管板孔(20)处设有与入口管板(18)的接头(26),以用于将流体(F)引入所述壳管式设备(10)中,其中所述入口管板(18)设有第一侧(22)和第二侧(24),所述第一侧(22)从位于所述入口管板(18)上游的入口通道接收所述流体(F),所述第二侧(24)与所述第一侧(22)相反且所述管(16)在所述第二侧(24)上连结,且其中所述入口管板(18)在所述第二侧(24)上连接到所述管束(14)的每个管(16),使得每个管(16)不插入到所述相应的管板孔(20)中或部分地插入到所述相应的管板孔(20)中,所述壳管式设备(10)的特征在于,它包括抗侵蚀装置,所述抗侵蚀装置包括用于至少一个对应管(16)的第一外管状元件(30)和第二内管状元件(32),其中所述外管状元件(30)和所述内管状元件(32)两者具有与所述对应管(16)的纵向轴线平行的相应纵向轴线,其中所述外管状元件(30)的第一管状端(34)连接到所述入口管板(18)的第一侧(22),而所述外管状元件(30)的第二自由管状端(36)在所述入口通道中延伸,其中所述内管状元件(32)插入到所述外管状元件(30)中,以便基本覆盖所述外管状元件(30)的整个内表面,且插入到所述对应管(16)的至少一部分中,达到超过所述入口管板(18)的第二侧(24)或所述接头(26)中离所述外管状元件(30)较远者的点,且其中借助于所述内管状元件(32)的至少第一管状部分(42)抵靠所述外管状元件(30)的内表面的机械或液压扩张来使所述内管状元件(32)连结到所述外管状元件(30)。
2.根据权利要求1所述的壳管式设备(10),其特征在于,所述外管状元件(30)的第二自由管状端(36)具有成斜角或漏斗的形状。
3.根据权利要求1或2所述的壳管式设备(10),其特征在于,所述内管状元件(32)具有第一管状端(38)和第二管状端(40),所述第一管状端(38)插入到所述对应管(16)中,所述第二管状端(40)延伸直至达到所述外管状元件(30)的第二自由管状端(36)或超过所述外管状元件(30)的第二自由管状端(36)。
4.根据权利要求3所述的壳管式设备(10),其特征在于,所述内管状元件(32)的所述第一管状端(38)或所述内管状元件(32)的所述第二管状端(40)中的至少一个具有成斜角或漏斗的形状。
5.根据权利要求3或4所述的壳管式设备(10),其特征在于,所述内管状元件(32)的所述第二管状端(40)遵循所述外管状元件(30)的所述第二自由管状端(36)的形状,以便覆盖所述外管状元件...
【专利技术属性】
技术研发人员:G·玛南蒂,
申请(专利权)人:阿法拉伐奥米有限公司,
类型:发明
国别省市:意大利;IT
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