3D无损抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种3D无损抛光设备，包括两个支撑架、架设在两个支撑架中部的导轨，支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动磁场发生装置的第一电机，导轨上滑动设置可移动磁场端，可移动磁场端穿设丝杠，丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动可移动磁场端沿导轨左右移动，两个支撑架顶部设置储液槽，储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。磁性件为磁针。磁针两端部圆滑过渡。导轨截面呈倒T型，可移动磁场端具有与导轨配合的凹槽。本实用新型专利技术的3D无损抛光设备抛光效率高、不易损伤抛光件，能够对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理。抛光到位、抛光精度较高。

【技术实现步骤摘要】
3D无损抛光设备
本技术涉及一种3D无损抛光设备，属于抛光设备

技术介绍
现有技术中的抛光方式主要有机械式抛光和化学溶液抛光，一般机械抛光是在材料表面进行磨光工序和抛光工序以达到镜面效果。化学溶液抛光是使用化学溶液进行浸泡，去除材料表层的氧化层以达到抛光效果。随着3D打印技术的发展，会出现越来越多结构日趋复杂的异形件。这些异形件有塑料材质、金属材质等。但是3D打印获得的异形件一般都会遗留层纹。一般通过丙酮、砂纸打磨、震动、珠光处理等，但是这些方式抛光效率低、容易对抛光件造成损伤，不便于对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理。因此急需设计一种新的3D无损抛光设备，以解决现有技术中的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中的抛光方法抛光效率低、容易对抛光件造成损伤的不足，提供一种3D无损抛光设备，技术方案如下：3D无损抛光设备，包括两个支撑架、架设在两个支撑架中部的导轨，支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动磁场发生装置的第一电机，导轨上滑动设置可移动磁场端，可移动磁场端穿设丝杠，丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动可移动磁场端沿导轨左右移动，两个支撑架顶部设置储液槽，储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。进一步地，磁性件为磁针。优选地，磁针两端部圆滑过渡。进一步地，磁性件为磁珠。优选地，磁珠直径为0.05mm~0.5mm。进一步地，导轨截面呈倒T型，可移动磁场端具有与导轨配合的凹槽。与现有技术相比，本技术所达到的有益效果：本技术的3D无损抛光设备抛光效率高、不易损伤抛光件，能够对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理。抛光到位、抛光精度较高。附图说明图1是本技术的3D无损抛光设备结构图；图中：1-支撑架、2-导轨、3-第一电机、4-磁场发生装置、5-可移动磁场端、6-丝杠、7-第二电机、8-储液槽、9-磁性件、10-待抛光件。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，而不能以此来限制本技术的保护范围。实施例13D无损抛光设备，包括两个支撑架1、架设在两个支撑架1中部的导轨2，支撑架1下方固定设置磁场发生装置4和驱动磁场发生装置的第一电机3，导轨2上滑动设置可移动磁场端5，可移动磁场端5穿设丝杠6，丝杠6端部在第二电机7驱动下旋转以带动可移动磁场端5沿导轨2左右移动，两个支撑架1顶部设置储液槽8，储液槽8内充满多个磁性件9的抛光溶剂。本技术的3D无损抛光设备可以对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理，不限于对平面件抛光。本实施例中具体地，磁性件9为磁针。本实施例中作为优选方式，磁针两端部圆滑过渡。本实施例中具体地，磁性件9为磁珠。本实施例中作为优选方式，磁珠直径为0.05mm~0.5mm。本实施例中具体地，导轨2截面呈倒T型，可移动磁场端5具有与导轨2配合的凹槽。抛光原理为：将储液槽8内加入抛光溶剂，在抛光溶剂中放入磁性件9即磁针或磁珠，用搅拌杆搅拌抛光溶剂，使磁性件9均匀散布于抛光溶剂中。将待抛光件10置于储液槽8内，启动第一电机3和第二电机7，使得磁场发生装置4启动，在第一电机3的带动下，丝杠6旋转，进而带动可移动磁场端5沿导轨2前后滑动。第一电机3为步进电机，能够使得丝杠6在正转反转之间切换，可移动磁场端5在导轨2上做往复移动。磁性件9在可移动磁场端5的带动下，在储液槽8内撺动，从而使得磁性件9对待抛光件10进行抛光完成。最终获得抛光效果较好的抛光件。本技术的3D无损抛光设备抛光效率高、不易损伤抛光件，能够对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理。抛光到位、抛光精度较高。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.3D无损抛光设备，其特征在于，包括两个支撑架、架设在两个所述支撑架中部的导轨，所述支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动所述磁场发生装置的第一电机，所述导轨上滑动设置可移动磁场端，所述可移动磁场端穿设丝杠，所述丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动所述可移动磁场端沿所述导轨左右移动，两个所述支撑架顶部设置储液槽，所述储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。/n

【技术特征摘要】
1.3D无损抛光设备，其特征在于，包括两个支撑架、架设在两个所述支撑架中部的导轨，所述支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动所述磁场发生装置的第一电机，所述导轨上滑动设置可移动磁场端，所述可移动磁场端穿设丝杠，所述丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动所述可移动磁场端沿所述导轨左右移动，两个所述支撑架顶部设置储液槽，所述储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。


2.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备，其特征在于，所述磁性件为磁针。

【专利技术属性】
技术研发人员：唐志辉，黎伟，刘双龙，易小虎，乐桂英，欧阳有粮，马永恒，
申请(专利权)人：昆山明创电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32