波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题是能够高精度地检测在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷。以小片（６５）为单位，在透明基板（６２）上形成针对预定的重复图样（６１）中产生的每一种波纹缺陷、分别具有阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷（６６）的多个重复图样（６１）。所述波纹缺陷的类型可分为：基于重复图样中的单位图样的线宽异常的ＣＤ波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的间隔异常的间隔波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的位置偏移的错位波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的形状缺陷的变形波纹缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及波纹(Mura)缺陷检查方法、波纹缺陷检查装置、以及光掩模的制造方法。
技术介绍
以往，作为半导体器件、摄像器件以及显示器件等的制造工艺中的图样(pattern)形成中使用的光掩模，公知的是在玻璃等的透明基板上，在预期的图样中部分地除去铬等的遮光膜而构成的光掩模。该光掩模制造方法是在透明基板上形成遮光膜，在该遮光膜上形成抗蚀膜后，利用电子束或激光在抗蚀膜上进行描画而使预定的图样曝光，然后，选择性地除去描画部和非描画部而形成抗蚀图后，将抗蚀图作为掩模来对遮光膜进行刻蚀，进而形成遮光膜图样，最后除去残存抗蚀剂，从而得到光掩模。通过电子束或激光扫描在抗蚀膜上进行直接描画的描画装置的方式大致有光栅扫描方式和矢量扫描方式。光栅扫描方式是射束(电子束或激光)扫描整个描画区域，如果扫描到图样部分则射束变为ON来进行描画的方式。射束的扫描是以一定的扫描宽度在Y方向上进行扫描，当Y方向的扫描结束时，在X方向上进给射束，通过这样的反复操作来扫描整个描画区域。另一方面，矢量扫描方式是针对多个扫描区域(描画单位)中的每一个区域，射束只扫描该扫描区域内的图样形成部分的方式，如果扫描完一个图样则射束变为OFF，把射束移动到同一扫描区域中的下一个图样上，并再次变为ON来扫描该图样。如果一个扫描区域内的图形已全部扫描完，则通过XY工作台的移动使射束移动到下一个扫描区域。无论在使用上述哪一种扫描方式的情况下，都会存在以下问题在射束的扫描宽度和射束直径上存在描画的交接点，在每个描画单位内周期性地发生由这种交接点处产生的错位误差等的描画不良所引起的误差。特别是，像用于制造固态摄像装置(CCD、CMOS等)的摄像器件、和液晶显示面板等显示器件等的影像器件的光掩模那样，在具有对应于像素图样而规则排列的重复图样的情况下，上述的描画不良而导致的周期性误差，即使各个误差为眼睛看不到那样的大小(例如，数十nm的大小)，也会由于在规则的重复图样上产生周期性的误差，而能看到条状的连续误差。该结果会产生以下问题，即在摄像器件和显示器件上产生灵敏度波纹或显示波纹等的波纹缺陷，使设备的性能变得低下。如上述例子那样，将在规则排列的图样上无意地产生的规则性误差称为“波纹(mura)缺陷”。但是，作为用于保证光掩模品质的检查，以往一般都要进行图样的线宽检查、图样缺陷检查以及异物检查。可是，对于上述的检查，由于检查的是光掩模上的局部缺陷，因而像上述的光掩模的波纹缺陷那样，很难在光掩模的广泛区域中对最初识别的缺陷进行检测。为此，波纹缺陷是通过目视的主观检查来进行的。另一方面，例如在专利文献1中公开了在影像器件基板(例如，液晶TFT基板等)中检查波纹缺陷的装置。该波纹缺陷检查装置将光照射到基板表面，通过观察来自于该表面上形成的图样的边缘部的散射光，来检测波纹缺陷。专利文献1特开平10-300447号公报。可是，在如上所述的通过目视进行的波纹缺陷检查中存在以下的问题，即由于进行检查的检查人员各自零散地生成检查结果，因而不能高精度地检测光掩模的波纹缺陷。结果使设备成品率低下。另外，在使用光掩模制造的设备中，对于设备的波纹缺陷，不但要考虑到光掩模是其形成的主要原因，也要考虑到例如光掩模的交接曝光等的其它原因。在专利文献1中记载的设备的波纹缺陷检查装置的情况下，很难确定所检测出的波纹缺陷的原因。并且，在波纹缺陷中，例如由于其发生原因等而存在形状和规则性等各异的多种波纹缺陷。可是，专利文献1中记载的波纹缺陷检查装置不能高精度地检测该有必要检查的多种波纹缺陷。
技术实现思路
本专利技术就是考虑上述情况而提出的，其第1目的在于提供一种高精度地检测在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷的波纹缺陷检查掩模。本专利技术的第2目的在于提供一种能够高精度地检测在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷的波纹缺陷检查装置。本专利技术的第3目的在于提供一种能够高精度地检测在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷的波纹缺陷检查方法。本专利技术的第4目的在于提供一种能够高精度地检测在光掩模的遮光图样中的重复图样上产生的波纹缺陷的遮光模制造方法。根据本专利技术第1方面的波纹缺陷检查掩模包括透明基板；以及在基板上形成的不透明膜，其中，由所述基板上的所述不透明膜形成多个重复图样，各个重复图样具有针对每一种波纹缺陷、阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷。根据本专利技术第2方面的波纹缺陷检查掩模，其特征在于，在本专利技术的第1方面中，所述波纹缺陷的类型是以下的至少一种CD(criticaldimension)波纹；基于重复图样中的单位图样的线宽异常的波纹缺陷；间隔波纹；基于重复图样中的单位图样的间隔异常的波纹缺陷；错位波纹；基于重复图样中的单位图样的位置偏移的波纹缺陷以及变形波纹；基于重复图样中的单位图样的图样缺陷的波纹缺陷。根据本专利技术第3方面的波纹缺陷检查装置检查在被检查体的重复图样中产生的波纹缺陷，所述重复图样具有规则排列的多个单位图样，该装置包括光源；放置所述被检查体的载台；接收被所述被检查体影响后的光的受光单元；以及根据所述受光单元检测到的光而分析所述波纹缺陷的分析单元，其中该装置构成为，通过检测权利要求1所述的波纹缺陷检查掩模的多个伪波纹缺陷来确认或校正检测灵敏度。根据本专利技术第4方面的波纹缺陷检查装置，其特征在于，在本专利技术的第3方面中，所述被检查体是影像器件或用于制造该影像器件的光掩模。根据本专利技术第5方面的波纹缺陷检查方法检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷，所述重复图样具有多个规则排列的单位图样，该方法包括以下步骤将光照射到所述被检查体上；接收来自所述被检查体的被影响后的光；以及使用波纹缺陷检查装置来检查所述被检查体上的所述重复图样的波纹缺陷，其中所述波纹缺陷检查装置包括光源；放置所述被检查体的载台；接收被所述被检查体影响后的光的受光单元；以及根据所述受光单元检测到的光而分析所述波纹缺陷的分析单元，其中该装置构成为，通过检测波纹缺陷检查掩模的多个伪波纹缺陷来确认或校正检测灵敏度，该波纹缺陷检查掩模包括透明基板；以及在基板上形成的不透明膜，其中，由所述基板上的所述不透明膜形成多个重复图样，各个重复图样具有针对每一种波纹缺陷、阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷。根据本专利技术第6方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第5方面中，所述被检查体是影像器件或用于制造该影像器件的光掩模。根据本专利技术第7方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第6方面中，该方法用于制造在透明基板上具有预定的不透明膜图样的光掩模，其中，所述不透明膜图样由多个单位图样规则排列而成的重复图样构成。根据本专利技术，通过检测波纹缺陷检查掩膜的多个伪波纹缺陷，可以确认其检测灵敏度，或者确认并调整检测灵敏度，因此，波纹缺陷检查装置可以设定能够可靠地检测在波纹缺陷检查掩膜中针对每一种伪波纹缺陷而设定的强度不同的多个伪波纹缺陷的检测灵敏度，因而能够高精度地检测在被检查体或光掩膜的重复图样上产生的波纹缺陷。附图说明图1是表示本专利技术波纹缺陷检查装置的一个实施方式的结构的立体图。图2是表示图1中光掩模小片上的重复图样的平面图。图3是表示在图2的重复图样上产生的波纹缺陷(CD波纹缺陷、间隔波纹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种波纹缺陷检查掩模，包括：透明基板；以及在基板上形成的不透明膜，其中，由所述基板上的所述不透明膜形成多个重复图样，各个重复图样具有针对每一种波纹缺陷、阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度的多个伪波 纹缺陷。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：村井诚，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]