一种表面处理设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于表面处理设备，通过采用设置在第一框架(31)上的第一蒸汽阻隔部和/或设置在至少一块镂空的第二框架上的第二蒸汽阻隔部的技术方案，解决现有技术中蒸汽从可张开蒸汽分配头溢出或泄漏的问题，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
一种表面处理设备
本技术种表面处理设备，具体涉及一种表面处理设备蒸汽分配头。
技术介绍
表面处理器械用于家庭、办公室和其他位置来处理地面和其他表面。各种类型的表面处理器械，诸如具有振动和/或旋转刷的器械，被用于清洁地面。已知一种将蒸汽发生单元产生的蒸汽分配至非密闭的蒸汽分配头,进而输送给非密闭的蒸汽分配头上的清洁垫,来清洁待处理表面的技术方案。由于高温蒸汽的高扩散性，在输送至清洁垫的过程中，存在部分蒸汽溢出或泄漏的可能，这将导致输送至清洁垫表面的蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降，使得表面处理设备的清洁性能裂化。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对上述缺陷，提供一种表面处理设备，以解决现有技术蒸汽从蒸汽分配头溢出或泄漏导致输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的技术问题，达到即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的技术效果。根据本专利技术的一个方面，提供了一种表面处理设备，包括：1.一种表面处理的设备，包括：主机体；蒸汽发生单元；连接头；清洁垫；蒸汽分配头；所示蒸汽分配头可相对垂直所述连接头轴线L1的轴线L2翻转，所述蒸汽分配头包括：第一清洁面和第二清洁面；第一框架；所述清洁垫覆盖所述第一清洁面和第二清洁面设置，所述第一框架外周设有第一蒸汽阻隔部。可选地，所述表面处理设备还包括至少一个镂空的第二框架，所述第二框架可相对第一框架枢转，所述第二框架外周设有第二蒸汽阻隔部，所述至少一个第二框架可相对于第一框架在打开位置和闭合位置间切换，在闭合位置，所述第一蒸汽阻隔部和/或所述第二蒸汽阻隔部单独作用或配合作用以减少蒸汽溢出量。可选的，所述第一蒸汽阻隔部包括设置在所述第一框架上的第一肋和/或所述第二蒸汽阻隔部包括设置在所述至少一个镂空的第二框架上的的第二肋。可选的，所述表面处理设备包括两个镂空的第二框架，所述两个镂空的第二框架分设在所述第一框架两侧。可选的，所述表面处理设备还包括至少一组限位机构，所述至少一组限位机构对称设置在所述第一框架上以限制所述镂空的第二框架朝向所述第一框架变形。可选的，所述第一框架上设置有缓冲机构。可选的，所述限位机构为限位柱。可选的，所述表面处理设备还包括蒸汽引导部，所述第一蒸汽引导部部分覆盖所述蒸汽分配路径。可选的，所述蒸汽第一框架具有容纳槽，所述缓冲机构包括插接配合的带槽弹性柱和弹性元件，所述弹性机构分别设置在所述容纳槽内。可选的，所述第一蒸汽引导部向远离所述第一框架的方向凸出，并且其在所述蒸汽分配路径上的投影为“V”形。本专利技术的方案，通过采用设置在第一框架上的第一蒸汽阻隔部的技术方案，解决现有技术中蒸汽从可张开蒸汽分配头溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。进一步的，本专利技术的方案，通过采用设置在第一框架上的第一肋和/或设置在至少一块镂空的第二框架上的第二肋的技术方案，解决现有技术中蒸汽从蒸汽分配头溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。进一步的，本专利技术的方案，通过采用设置在两块镂空的第二框架上的第二肋的技术方案，解决现有技术中蒸汽从可张开的蒸汽分配头两侧溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。进一步的，本专利技术的方案，通过采用设置在第一框架上的镂空的第二框架限位机构的技术方案，保证镂空的第二框架相对于第一框架的变形在可控范围内，解决现有技术中因镂空的第二框架变形过度破损导致蒸汽从可张开的蒸汽分配头两侧溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。进一步的，本专利技术的方案，通过采用设置在第一框架上的缓冲机构，使得蒸汽清洁头与待清洁表面之间为弹性接触，解决现有技术中因待处理表面不平整时，蒸汽从可张开的蒸汽分配头两侧溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。进一步的，本专利技术的方案，通过采用设置在第一框架前部的蒸汽引导部，使得蒸汽清洁头内蒸汽分配均匀，解决现有技术中因蒸汽分配不均导致蒸汽从可张开的蒸汽分配头两侧溢出或泄漏的问题，从而，克服现有技术中输送至清洁垫表面蒸汽量不足和/或蒸汽温度下降的缺陷，实现即使蒸汽分配头为非密闭空间也能较好的保持蒸汽量和/或蒸汽温度的有益效果。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。下面通过附图和实施例，对本专利技术的技术方案做进一步的详细描述。附图说明图1为本专利技术蒸汽拖把的一个实施例的整体示意图；图2为本专利技术蒸汽拖把蒸汽分配头的一个实施例的整体示意图；图3为本专利技术蒸汽拖把蒸汽分配头处于打开状态的示意图；图4为本专利技术蒸汽拖把蒸汽分配头的第一框架一个实施例的示意图；图5为本专利技术蒸汽拖把蒸汽分配头的第一框架第一蒸汽阻隔部侧视图；图6为本专利技术一个实施例第一框架上缓冲机构处于第一位置的示意图；图7为本专利技术第一框架上缓冲机构处于第一位置的局部示意图；图8为本专利技术另一个实施例第一框架上缓冲机构处于第二位置的示意图；图9为本专利技术第一框架上缓冲机构处于第二位置的局部示意图；图10为本专利技术缓冲机构组成示意图；图11为本专利技术缓冲机构分解图；图12为本专利技术一个实施例中镂空的第二框架的示意图；图13为本专利技术一个实施例中镂空的第二框架第二蒸汽阻隔部的侧视图。结合附图，本专利技术实施例中附图标记如下：蒸汽发生单元-4，主机体-1，连接头-2，清洁垫-5，L1-连接头轴线，L2-垂直连接头的轴线，第一框架-31，蒸汽分配路径-32，镂空的第二框架-33，贴合部-34，非贴合部-35，第一蒸汽阻隔部-311，第二蒸汽阻隔部-331，第一肋-311a，第二肋-331a，镂空的第二框架限位机构-332，缓冲机构-333，蒸汽引导部-334，容纳槽-312，带槽弹性柱-313，弹性元件-314，枢转铰链机构-332。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术具体实施例及相应的附图对本专利技术技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。以下，根本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理设备，其特征在于，包括：/n主机体；/n蒸汽发生单元；/n连接头；/n清洁垫；/n蒸汽分配头；所示蒸汽分配头可相对垂直所述连接头轴线L1的轴线L2翻转，所述蒸汽分配头包括：第一清洁面和第二清洁面；第一框架；所述清洁垫覆盖所述第一清洁面和第二清洁面设置，所述第一框架外周设有第一蒸汽阻隔部。/n

【技术特征摘要】
1.一种表面处理设备，其特征在于，包括：
主机体；
蒸汽发生单元；
连接头；
清洁垫；
蒸汽分配头；所示蒸汽分配头可相对垂直所述连接头轴线L1的轴线L2翻转，所述蒸汽分配头包括：第一清洁面和第二清洁面；第一框架；所述清洁垫覆盖所述第一清洁面和第二清洁面设置，所述第一框架外周设有第一蒸汽阻隔部。


2.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于，还包括至少一个镂空的第二框架，所述第二框架可相对第一框架枢转，所述第二框架外周设有第二蒸汽阻隔部，所述至少一个第二框架可相对于第一框架在打开位置和闭合位置间切换，在闭合位置，所述第一蒸汽阻隔部和/或所述第二蒸汽阻隔部单独作用或配合作用以减少蒸汽溢出量。


3.如权利要求2所述的表面处理设备，其特征在于，所述第一蒸汽阻隔部包括设置在所述第一框架上的第一肋和/或所述第二蒸汽阻隔部包括设置在所述至少一个镂空的第二框架上的第二肋。


4.如权利要求2所述的表面处理设备，其特征在于，包括两个镂空的第二框架...

【专利技术属性】
技术研发人员：王旭宁，吴华熙，
申请(专利权)人：尚科宁家中国科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33