【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及荧光计，其是用于产生荧光并使用强度或时间分辨测量来测量荧光的设备。
技术介绍
落射荧光显微镜(epifluorescence microscope)传统上具有线性光学装置，其中样品位置、分束器和检测器例如垂直地沿第一方向上的公共轴间隔地设置，且激发光源离置在一侧。此装置规定最小的高度约束，以提供空间使得从样品位置发射的荧光由透镜系统准直、通过分束器、滤波以移除不同于该荧光波长的波长，并最终聚焦到检测器上。这样的传统装置在图1中示出，如下面更详细地讨论的。在荧光应用中，所发射的荧光的强度通常是弱的。另外，如果荧光体位于光散射介质如皮肤，则荧光各向同性地或根据Lambert辐射图案来发射。在这两种情形中，所检测的荧光随光学系统的数值孔径而增大。在通常的落射荧光建立中，大数值孔径通常通过使用许多透镜而获得，该使用即使对涂覆的透镜也引入反射损耗和光散射。值得期望的是，开发一种具有减小的复杂性的可替换通用光学装置，其可用于减小从样品位置测量的设备的必要高度。
技术实现思路
因此，本专利技术现在在第一方面中提供用于在一表面处或下产生和检测荧光的设备，所述设备包括...
【技术保护点】
用于在一表面处或下产生和检测荧光的设备，所述设备包括：光源，用于沿在所述表面上延伸的光路引导荧光激发光；反射器，具有三维弯曲的、类似壳的光反射界面，其被定位以接收从该光源沿所述光路的一部分在所述表面上通过的光，并相对于该光路的所述部分横向地反射所述光，以便将所述光聚焦在所述表面处或下的照明区上用于在所述区激励荧光，并且用于收集在所述区发射的荧光，并且反射并至少部分地准直所述光以沿该光路的所述部分返回；以及检测器，用于接收在所述界面反射之后的以荧光发射的所述光。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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