【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学成像方法和成像装置，特别是一种利用椭偏术的光学成像方法和成像装置。
技术介绍
椭偏术是广泛用于薄膜分析的一种光学技术，它能够实时监测薄膜在固体表面上分子膜的形成过程。传统的椭偏术检测薄膜时采用的多为外反射模式，即探测光波以一定的入射角度直接照射在待分析的薄膜上。近几年研究发现，椭偏术也可以采用全内反射模式对薄膜进行分析，即探测光波从薄膜的基底入射，当入射角度大于临界角度时，产生全反射，仅有倏逝波在光疏介质形成，并影响反射光的偏振状态。因此界面处的膜层的微小变化，即可引起反射光波的偏振态的变化。全内反射式椭偏术具有明显的优点检测灵敏度比传统椭偏术有显著提高；由于探测光波不直接穿过溶液，所以可以实现不透明溶液中薄膜的监测，同样的原因也使得溶液池的设计更为灵活，不需要再设计光波入射窗口和严格的角度要求。目前全内反射式椭偏术中采用的都是传统的椭偏仪，窄探测光束，以光电倍增管为探测器，只能实现单点单样品测量。
技术实现思路
为解决现有技术存在的问题，本专利技术提供一种。本专利技术解决了现有的成像装置和成像方法只能实现单点单样品测量的问题。本专利技术的全...
【技术保护点】
全内反射椭偏成像装置，包括：光源，该光源所发出的光束照射待测样品；依次位于光源与待测样品之间的入射光的光路上的，用于将光束变换为偏振光的起偏器，用于将光束变换为单色光的滤波装置，用于改变偏振光的偏振状态的补偿器；位于 待测样品的反射光的光路上的检偏器和透镜；其特征在于，还包括：准直系统，位于入射光的光路上，使光源所发出的光形成扩展的准直光；待测样品：固体表面的分子膜层和／或分子膜层的形成过程和演变过程；棱镜，入射面接收光源 所发出的探测光束并与探测光束相垂直，探测光束...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：靳刚，王战会，陈艳艳，孟永宏，
申请(专利权)人：中国科学院力学研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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