零阿贝误差测量系统及其方法技术方案

一种零阿贝误差测量系统，其包括移动平台、检测装置以及第一与第二三维光学尺。移动平台是用以载置待测量样本。检测装置用以检测待测量样本，并测量待测量样本的待测点相对于移动平台的垂直高度。第一与第二三维光学尺分别设置在移动平台上且隔着待测量样本彼此相对，其中第一与第二三维光学尺可垂直该移动平台进行高度微调，使第一与第二三维光学尺相对于移动平台的垂直高度与待测点的垂直高度相等，以进行待测量样本的测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种测量系统及其方法，且特别涉及一种可以消除阿贝误差的测量系统及其方法。
技术介绍
传统三维微(纳)米测量系统的架构，如扫描探针显微镜(scanning probemicroscopy，SPM)、原子力显微镜(atomic force microscope，AFM)与三坐标测量机(coordinate measuring machine，CMM)等，主要以形貌检测系统及/或定位平台等次系统所组成。形貌检测系统主要工作为利用探针等方式取得待测物的表面信息。定位平台系统则负责推动探针载具或移动平台，使整个系统完成三个维度的扫描与测量动作。但是，此种定位系统中的光学尺(linear scale)或干涉仪的摆放位置以及探针或测量端点两者间会因为坐落在不同的位置，而存在某种程度上的角度偏差。此偏差会因为两点的距离增加而增加，使得测量过程产生所谓的阿贝误差(Abbe error)。此阿贝误差会影响最后实际测量结果并降低测量的精确度。 在三维测量系统中，一般是采用多组光学干涉仪做为平台定位的工具，另外也加入零阿贝误差的测量设计。但是，以干涉仪来定位时，往往会有需要较多的元件、对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种零阿贝误差测量系统，其特征是包括：移动平台，用以载置待测量样本；检测装置，用以检测该待测量样本，并测量该待测量样本的待测点相对于该移动平台的垂直高度；第一与第二三维光学尺，分别设置在该移动平台上且隔着该待测量样本彼此相对，其中该第一与该第二三维光学尺可垂直该移动平台进行高度微调，使该第一与该第二三维光学尺相对于该移动平台的垂直高度与该待测点的垂直高度相等，以进行该待测量样本的测量。

【技术特征摘要】
所界定者为准。权利要求1.一种零阿贝误差测量系统，其特征是包括移动平台，用以载置待测量样本；检测装置，用以检测该待测量样本，并测量该待测量样本的待测点相对于该移动平台的垂直高度；第一与第二三维光学尺，分别设置在该移动平台上且隔着该待测量样本彼此相对，其中该第一与该第二三维光学尺可垂直该移动平台进行高度微调，使该第一与该第二三维光学尺相对于该移动平台的垂直高度与该待测点的垂直高度相等，以进行该待测量样本的测量。2.根据权利要求1所述之零阿贝误差测量系统，其特征是该第一与该第二三维光学尺分别包括二维光栅，设置在该移动平台上，以定位该移动平台；高度微调器，与该二维光栅连接，用以微调该二维光栅的垂直高度；以及高度检测器，设置成大致垂直于该二维光栅上方，用以射出光束，检测该二维光栅的垂直高度。3.根据权利要求2所述之零阿贝误差测量系统，其特征是该二维光栅具有起伏状表面。4.根据权利要求3所述之零阿贝误差测量系统，其特征是该二维光栅的该起伏状表面为光可穿透，且该二维光栅的基底具有反射面。5.根据权利要求2所述之零阿贝误差测量系统，其特征是该二维光栅是全像式二维光栅。6.根据权利要求2所述之零阿贝误差测量系统，其特征是还包括控制电路，该控制电路还包括比较器，用以接收各该第一与该第二三维光学尺的该高度检测器输出的垂直高度以及该检测装置输出的该待测点的垂直高度，并输出两者垂直高度的差值；以及高度微调控制器，连接至该比较器的输出端，接收该差值，并依据该差值控制该高度微调器。7.一种零阿贝误差测量系统，其特征是包括移动平台，用以载置待测量样本；检测装置，用以检测该待测量样本，并测量该待测量样本的待测点相对于该移动平台的垂直高度；第一与第...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴乾埼，翁汉甫，许正治，王振宇，温博浚，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]