一种黑硅生产用的除杂装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及黑硅生产技术领域，且公开了一种黑硅生产用的除杂装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有二级除氟箱，所述二级除氟箱的顶部固定安装有一级除氟箱，所述一级除氟箱的顶部固定安装有除银箱，所述除银箱的顶部固定安装有废水进水管，所述除银箱的顶部固定安装有位于废水进水管右侧的硫化钠进料管，所述底座的顶部固定安装有位于二级除氟箱右侧的第一水泵，所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵右侧的第二水泵，所述底座的顶部固定安装有位于第一水泵和第二水泵顶部的氧化箱。该黑硅生产用的除杂装置，能够有效的除去黑硅废水中的杂质，被除杂后的废水达到排放标准后即可通过排料孔排出，除杂效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种黑硅生产用的除杂装置
本专利技术涉及黑硅生产
，具体为一种黑硅生产用的除杂装置。
技术介绍
黑硅是最新研究发现的一种能大幅提高光电转换效率的新型电子材料，是制造太阳能电池的主要材料之一，主要生产方法有四种，包括化学腐蚀法、飞秒激光扫描法、反应离子刻蚀法和等离子体浸没离子注入法，现阶段主要使用的是化学腐蚀法和等离子体浸没离子注入法。在使用化学腐蚀法进行生产黑硅时，会产生很多废水，废水中包含有许多有害杂质，直接排放会对环境造成非常严重的影响，故而提出了一种黑硅生产用的除杂装置。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种黑硅生产用的除杂装置，具备除杂效果好等优点，解决了在使用化学腐蚀法进行生产黑硅时，会产生很多废水，废水中包含有许多有害杂质，直接排放会对环境造成非常严重的影响的问题。(二)技术方案为实现上述除杂效果好的目的，本专利技术提供如下技术方案：一种黑硅生产用的除杂装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有二级除氟箱，所述二级除氟箱的顶部固定安装有一级本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种黑硅生产用的除杂装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有二级除氟箱(2)，所述二级除氟箱(2)的顶部固定安装有一级除氟箱(3)，所述一级除氟箱(3)的顶部固定安装有除银箱(4)，所述除银箱(4)的顶部固定安装有废水进水管(5)，所述除银箱(4)的顶部固定安装有位于废水进水管(5)右侧的硫化钠进料管(6)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于二级除氟箱(2)右侧的第一水泵(7)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于第一水泵(7)右侧的第二水泵(8)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于第一水泵(7)和第二水泵(8)顶部的氧化箱(9)，所述氧化箱(9)的顶部固定安装有沉淀...

【技术特征摘要】
1.一种黑硅生产用的除杂装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有二级除氟箱(2)，所述二级除氟箱(2)的顶部固定安装有一级除氟箱(3)，所述一级除氟箱(3)的顶部固定安装有除银箱(4)，所述除银箱(4)的顶部固定安装有废水进水管(5)，所述除银箱(4)的顶部固定安装有位于废水进水管(5)右侧的硫化钠进料管(6)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于二级除氟箱(2)右侧的第一水泵(7)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于第一水泵(7)右侧的第二水泵(8)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于第一水泵(7)和第二水泵(8)顶部的氧化箱(9)，所述氧化箱(9)的顶部固定安装有沉淀箱(10)，所述沉淀箱(10)的顶部固定安装有反硝化箱(11)，所述反硝化箱(11)的顶部固定安装有硝化细菌入料管(12)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于第二气泵(8)右侧的气浮测试箱(13)，所述除银箱(4)的左侧和沉淀箱(10)的右侧均固定安装有沉淀排出管(14)，所述除银箱(4)与一级除氟箱(3)、一级除氟箱(3)与二级除氟箱(2)、二级除氟箱(2)与第一水泵(7)、第一水泵(7)与反硝化箱(11)、反硝化箱(11)与沉淀箱(10)、沉淀箱(10)与氧化箱(9)、氧化箱(9)与气浮测试箱(13)、气浮测试箱(13)与第二水泵(8)和第二水泵(8)与反硝化箱(11)均通过连接管(15)连通，所述一级除氟箱(3)的左侧固定安装有氢氧化钙入料管(16)，所述二级除氟箱(2)的左侧固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：何其金，张靖，何飞，
申请(专利权)人：江苏德润光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32