显示结构及其制备方法和显示设备技术

本发明专利技术提供了一种显示结构及其制备方法和显示设备，显示结构包括：显示面板；环绕显示面板侧面设置的具有多个流道的第一水膜调节结构，用于调节水流均匀地进入显示面板的内部。本发明专利技术通过环绕显示面板侧面设置具有多个流道的第一水膜调节结构，采用第一水膜调节结构调节水流均匀地进入显示面板的内部，从而避免显示面板显示不均。

【技术实现步骤摘要】
显示结构及其制备方法和显示设备
本专利技术涉及半导体
，具体涉及一种显示结构及其制备方法和显示设备。
技术介绍
现有的显示结构在制备过程中，存在着大量的水线类型工艺如黄光、剥离、刻蚀、显影、清洗等工艺。当进行水线类型工艺时，需要将由工艺所需的各种溶液形成的水流从显示结构的外侧经过外侧图形结构注入显示结构的内部。由于外侧图形结构如测试膜层厚度的台阶仪或测试电性的方块电阻测试结构等的存在阻挡了部分水流，改变了水流的方向，因而导致流入显示面板内的水膜不均匀，最终导致显示面板显示不均。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种显示结构及其制备方法和显示设备，以解决现有的显示结构在制备过程中水流受到如外侧图形结构等的干扰而导致流入显示面板内的水膜不均匀的问题。本专利技术第一方面提供了一种显示结构,包括：显示面板；环绕显示面板侧面设置具有多个流道的第一水膜调节结构，用于调节水流均匀地进入显示面板的内部。在本专利技术一实施例中，第一水膜调节结构包括多个导流条和支撑多个导流条的第一框架，第一框架具有至少一个开口以使水流通过，多个导流条中相邻导流条之间或多个导流条中其中一个导流条与第一框架之间的间隔形成流道，多个导流条的一端指向显示面板的内部。在本专利技术一实施例中，多个导流条中相邻导流条之间的间隔相同或不同。在本专利技术一实施例中，多个导流条在垂直于显示面板相应的侧边框的平面上的投影的形状包括直线形、波浪形、弧形或锯齿形。在本专利技术一实施例中，第一水膜调节结构包括多个颗粒物和支撑多个颗粒物的第二框架，第二框架具有至少一个开口以使水流通过，多个颗粒物中相邻颗粒物之间或多个颗粒物中其中一个颗粒物与第二框架之间的间隔形成流道。在本专利技术一实施例中，显示面板包括层叠设置的多个子膜层结构，第一水膜调节结构包括层叠设置的多个子水膜调节结构，多个子水膜调节结构与多个膜层结构一一对应。在本专利技术一实施例中，显示面板同一侧面的第一水膜调节结构靠近显示面板的一侧与远离显示面板的一侧之间的距离D为1mm～10mm。在本专利技术一实施例中，显示结构还包括：第二水膜调节结构，第二水膜调节结构设置在第一水膜调节结构的远离显示面板一侧的水流受阻区域。本专利技术第二方面提供一种显示设备，包括：如本专利技术第一方面所述的显示结构。本专利技术第三方面提供一种显示结构的制备方法，包括：提供显示面板；环绕显示面板侧面设置具有多个流道的第一水膜调节结构，第一水膜调节结构用于调节水流均匀地进入显示面板的内部。根据本专利技术实施例提供的技术方案，通过环绕显示面板侧面设置具有多个流道的第一水膜调节结构，采用第一水膜调节结构调节水流均匀地进入显示面板的内部，从而避免显示面板显示不均。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例描述中所需要的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术实施例的示意图，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1所示为本专利技术一实施例提供的一种现有的显示结构的结构示意图。图2所示为本专利技术一实施例提供的一种显示结构的透视示意图。图3A和图3B所示为本专利技术一实施例提供的第一水膜调节结构中第一框架的结构示意图。图4A、图4B、图4C和图4D所示为图2所示实施例中局部区域内第一水膜调节结构在XOY平面上正投影的结构示意图。图5A、图5B和图5C为图2所示实施例中局部区域内的第一水膜调节结构在平行于显示面板相应的侧边框的平面上正投影的结构示意图。图6A所示为本专利技术一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。图6B所示为本专利技术又一实施例提供的一种显示结构的结构示意图。图6C所示为图6B所示实施例中第一水膜调节结构在平行于显示面板1相应的侧边框的平面上正投影的结构示意图。图6D所示为图6B所示实施例中显示结构沿AA’方向的剖视示意图。图7A所示为本专利技术另一实施例提供的一种显示结构的透视示意图。图7B所示为图7A所示实施例中显示结构沿AA’方向的剖视示意图。图8所示为本专利技术再一实施例提供的一种显示结构的结构示意图。图9所示为本专利技术一实施例提供的一种显示设备的结构示意图。图10所示为本专利技术一实施例提供的一种显示结构的制备方法。具体实施方式正如
技术介绍
中所述，现有的显示结构存在着流入显示面板内的水流形成的水膜不均匀的风险，从而使显示面板显示不均的问题。专利技术人研究发现，出现这种问题的原因在于如下：如图1所示，显示结构包括显示面板110。在制备显示结构时进行水线类型工艺的过程中，由于位于显示面板110外围的外侧图形结构10的干扰，导致水流20经过外侧图形结构10时受到干扰而变得不均匀，因而造成显示面板110内水流20形成的水膜不均匀，进而使得显示面板显示不均。例如，采用纯水或者氢氟酸等溶液对显示面板110的栅极层进行清洗过程中，纯水或者氢氟酸等溶液形成的水流20从显示面板110的一侧流入，从显示面板110的另一侧流出。当水流20从显示面板110的一侧经由外侧图形结构10(如用于测试膜层厚度的台阶仪)流入显示面板110内部时，由于台阶仪的存在阻挡了部分水流，因而使得流入显示面板110内的水流形成的水膜不均匀。为了解决上述问题，专利技术人研究发现，通过环绕显示面板侧面设置具有多个流道的第一水膜调节结构，采用第一水膜调节结构调节水流均匀地进入显示面板的内部，使得水流在流经第一水膜调节结构时被梳理变得均匀，因而使得流入显示面板内部时形成均匀的水膜，有效避免了显示面板显示不均的问题。下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图2所示为本专利技术一实施例提供的一种显示结构的透视示意图。如图2所示,显示结构200包括:显示面板110；环绕显示面板110侧面设置的具有多个流道221的第一水膜调节结构220，用于调节水流20均匀地进入显示面板110的内部。具体地，当如由显影液或刻蚀液等溶液形成的水流20经过外侧图形结构10(例如测试膜层的台阶仪或测试电性的方块电阻测试仪等)时，水流20受到外侧图形结构10的干扰会变得不均匀，再经过本专利技术实施例设计的第一水膜调节结构220时，水流20被梳理变得均匀，流入显示面板110时形成均匀地水膜。应当理解，显示面板110可以包括玻璃基板、源极、漏极、栅极等，还可以包括栅绝缘层、缓冲层、遮光层等；显示面板110可以包括有机发光二极管，也可以包括液晶显示器；显示面板110可以为柔性的基板，也可以为刚性的基板，本专利技术实施例对显示面板110的内部结构不做具体限定。第一水膜调节结构220可以为具有通孔的固定结构，也可以为自动根据水流速度调节水流大小和/或水流方向的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示结构，其特征在于，包括：/n显示面板；/n环绕所述显示面板侧面设置的具有多个流道的第一水膜调节结构，用于调节水流均匀地进入所述显示面板的内部。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示结构，其特征在于，包括：
显示面板；
环绕所述显示面板侧面设置的具有多个流道的第一水膜调节结构，用于调节水流均匀地进入所述显示面板的内部。


2.根据权利要求1所述的显示结构，其特征在于，所述第一水膜调节结构包括多个导流条和支撑所述多个导流条的第一框架，所述第一框架具有至少一个开口以使所述水流通过，所述多个导流条中相邻导流条之间或所述多个导流条中其中一个导流条与所述第一框架之间的间隔形成所述流道，所述多个导流条的一端指向所述显示面板的内部。


3.根据权利要求2所述的显示结构，其特征在于，所述多个导流条中相邻导流条之间的间隔相同或不同。


4.根据权利要求2所述的显示结构，其特征在于，所述多个导流条在垂直于所述显示面板相应的侧边框的平面上的投影的形状包括直线形、波浪形、弧形或锯齿形。


5.根据权利要求1所述的显示结构，其特征在于，所述第一水膜调节结构包括多个颗粒物和支撑所述多个颗粒物的第二框架，所述第二框架具有至少一个开口以使所述水流通过，所述多个颗粒物中相邻颗粒物之间或所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘会双，宁鹏飞，王晓鹏，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13