一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法技术

本发明专利技术涉及光谱曲线干扰的分析方法，具体涉及一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法，针对利用光谱成像技术获取目标光谱曲线时会受到干扰问题，通过对光谱曲线受干扰前后的定性分析，以达到干扰因素的消除以及干扰程度的主动控制。本发明专利技术通过计算原始光谱曲线与受干扰后光谱曲线的皮尔森相关系数，与不同干扰程度的阈值进行比较，评估光谱曲线受干扰的整体趋势；通过最小二乘法拟合直线，计算波动曲线各点与拟合直线残差的标准差，与不同波动程度的阈值进行比较，评估光谱曲线受干扰程度的局部波动，采用两次分析的结果，对光谱曲线受干扰程度进行定性分析，获得干扰源强度与干扰程度的对应关系，实现可控干扰。

【技术实现步骤摘要】
一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法
本专利技术涉及光谱曲线干扰的分析方法，具体涉及一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法。
技术介绍
利用光谱成像技术获取目标光谱曲线，由于外界干扰或内部器件的影响，光谱曲线的获取会受到干扰，而这种干扰往往会使光谱分析结果产生较大误差。通过对光谱曲线受干扰前后的评估分析，可获取干扰因素的影响效果。对于被动干扰，需要知道光谱曲线受干扰程度的大小，以实现被动干扰后的分析；对于主动干扰，需要根据光谱曲线受干扰后的影响效果调校干扰源，从而找到干扰源强度与干扰程度的对应关系，最终实现主动干扰的可控。因此，针对光谱曲线干扰的定性分析，对于干扰因素的消除以及干扰程度的主动控制有重要的价值。目前尚未见到针对光谱曲线的受干扰程度进行定性分析的方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对利用光谱成像技术获取目标光谱曲线时会受到干扰问题，提出了一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法，通过对原始光谱曲线与受干扰后光谱曲线的两次分析，对受干扰后的曲线整体趋势及曲线的波动情况进行评估，获得干扰源强度与干扰效果的对应本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤1、获取原始无干扰物点光谱曲线序列A及受干扰后光谱曲线序列B；/n步骤2、计算两组光谱曲线数据序列的协方差cov(A,B)及各自的标准差σ

【技术特征摘要】
1.一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、获取原始无干扰物点光谱曲线序列A及受干扰后光谱曲线序列B；
步骤2、计算两组光谱曲线数据序列的协方差cov(A,B)及各自的标准差σA和σB；
cov(A,B)＝E((A-μA)(B-μB))






式中，μA、μB分别为序列A、B的均值；
步骤3、计算两组光谱曲线数据的皮尔森相关系数ρAB；



步骤4、根据光谱曲线不同干扰程度划分不同阈值Hj(j≥1且j为自然数)；
步骤5、利用皮尔森相关系数ρAB与阈值Hj比较，对受干扰后光谱曲线数据的受干扰程度进行整体趋势评估；
步骤6、将两组光谱曲线数据序列相减得到C序列，而后对新数据序列C的相邻数据点依次前后相减，得到反映曲线波动情况的数据序列D；
步骤7、对数据序列D利用最小二乘法拟合直线，计算数据序列D中数据点与拟合直线残差的标准差r，



式中，n为序列D中数据点个数；
Δdi为数据序列D中各数据点与拟合直线的残差；
步骤8、利用该残差的标准差r与阈值Kx(x≥1，且x为自...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘杰，张耿，张宏建，刘永征，李思远，胡炳樑，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：陕西;61