彩膜基板及其制备方法与显示面板技术

本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法与显示面板，所述彩膜基板包括：基板；色阻层，包括形成第一色阻，第二色阻以及第三色阻，所述第一色阻包括第一色阻像素部以及第一色阻垫高部，所述第二色阻包括第二色阻像素部以及第二色阻遮光部，所述第三色阻包括第三色阻像素部，其中，所述第二色阻遮光部设于所述第一色阻垫高部的上侧，且，位于所述第一色阻垫高部上侧的部分所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻遮光部其他部分的厚度；透明电极层；以及黑色间隔柱层。通过将所述第二色阻遮光部形成于所述第一色阻垫高部的上侧，使得第一色阻垫高部的上方区域的第二色阻遮光部减薄，即可增大黑色间隔柱层的膜厚以提升遮光能力，从而提升对比度。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制备方法与显示面板
本申请涉及显示
，具体涉及一种彩膜基板及其制备方法与显示面板。
技术介绍
BPS(BlackPhotoSpacer，黑色间隔柱)技术是将BM(BlackMatrix，黑色矩阵)与PS(PhotoSpacer，间隔柱)使用一种材料，经一道工序形成于阵列基板与彩膜基板之间，同时起到遮光与支撑的作用，有利于缩短面板生产流程，提升产量和运营效率，降低成本等。目前，BPS技术的开发主要集中在COA(ColorFilterOnArray，彩色滤光层制作在阵列基板上)+POA(PSOnArray:间隔柱制作在阵列基板上)类型的面板上。而在大尺寸面板(如电视面板)中，大多还采用的NonCOA(NonColorFilterOnArray，彩色滤光层制作在彩膜基板上)，故，将BPS技术导入NonCOA显示面板有极大的产业价值，同时，在导入过程中还需进行大量的工艺优化。
技术实现思路
为解决上述问题，第一方面，本专利技术提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区及非像素区，所述彩膜基板包括：基板；色阻层，设于所述基板上，所述形成色阻层包括形成第一色阻，第二色阻以及第三色阻，所述第一色阻包括形成于所述像素区的第一色阻像素部以及形成于所述非像素区的第一色阻垫高部，所述第二色阻包括形成于所述像素区的第二色阻像素部以及形成于所述非像素区的第二色阻遮光部，所述第三色阻包括形成于所述像素区的第三色阻像素部，其中，所述第二色阻遮光部设于所述第一色阻垫高部的上侧，且，位于所述第一色阻垫高部上侧的部分所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻遮光部其他部分的厚度；透明电极层，设于所述色阻层上；以及黑色间隔柱层，设于所述透明电极层上。进一步地，所述第一色阻垫高部的关键尺寸为10-20微米。进一步地，所述第一色阻垫高部在所述基板上的正投影的形状为正方形，长方形或L字型。进一步地，所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻像素部的厚度。进一步地，所述第二色阻遮光部的厚度为所述第二色阻像素部厚度的50-70％。进一步地，所述黑色间隔柱层包括黑色矩阵区，主间隔柱区以及次间隔柱区，所述第一色阻垫高部设于所述主间隔柱区以及次间隔柱区对应区域之下，使得所述主间隔柱区以及次间隔柱区与黑色矩阵区形成高度差。进一步地，所述第二色阻遮光部与所述黑色间隔柱层对应设置，以实现所述非像素区的堆叠遮光。进一步地，所述透明电极层设于所述像素区与非像素区，完全覆盖所述色阻层。另一方面，本专利技术还提供了一种显示面板，所述显示面板包括前述的彩膜基板。另一方面，本专利技术提供还一种彩膜基板的制备方法，所述彩膜基板包括像素区及非像素区，所述制作方法包括：S10:提供一基板，在所述基板上形成色阻层，包括形成第一色阻，第二色阻以及第三色阻，其中，所述第一色阻包括形成于所述像素区的第一色阻像素部以及形成于所述非像素区的第一色阻垫高部，所述第二色阻包括形成于所述像素区的第二色阻像素部以及形成于所述非像素区的第二色阻遮光部，所述第三色阻包括形成于所述像素区的第三色阻像素部，且，所述第二色阻形成于所述第一色阻及所述基板上，使所述第二色阻的遮光部对应于所述第一色阻垫高部上；S20:在所述色阻层上形成透明电极层；以及S30:在所述透明电极层上的非像素区域形成黑色间隔柱层。有益效果：本专利技术提供了一种彩膜基板及其制备方法与显示面板，所述彩膜基板上设有BPS层，即相当于将BPS技术导入了NonCOA架构的显示面板，使得原有的BM层和PS层，仅通过一道工艺制程形成，有效提高生产产能，另外，通过将所述第二色阻遮光部形成于所述第一色阻垫高部的上侧，使得所述第二色阻遮光部在形成时，由于液体的流平性，光阻固化前发生一定的流动，使得所述第一色阻垫高部的上方区域的第二色阻遮光部减薄，即降低了非像素区的色阻总厚度，即可以此增大BPS层的膜厚以提升遮光能力，从而可增加显示面板的OD(OpticalDensity，光学致密性)值，提升对比度，优化显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种彩膜基板平面结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的一种彩膜基板截面结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制备方法的文字流程示意图；图4A-4C是本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制备方法的截面结构流程示意图；图5是本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制备方法中的曝光原理示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本专利技术，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本专利技术。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本专利技术的描述变得晦涩。因此，本专利技术并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。本专利技术的一实施例中，提供了一种彩膜基板，其结构请参阅图1与图2，所述彩膜基板包括像素区A1与非像素区A2，其中，所述图2所示的结构为沿图1中切割线L1切割形成的截面结构，即非像素区域的截面结构，具体地，包括下述结构：基板10；色阻层，设于所述基板10上，所述色阻层包括第一色阻，第二色阻以及第三色阻，其中，所述第一色阻包括设于像素区A1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区及非像素区，其特征在于，所述彩膜基板包括：/n基板；/n色阻层，设于所述基板上，所述形成色阻层包括形成第一色阻，第二色阻以及第三色阻，所述第一色阻包括形成于所述像素区的第一色阻像素部以及形成于所述非像素区的第一色阻垫高部，所述第二色阻包括形成于所述像素区的第二色阻像素部以及形成于所述非像素区的第二色阻遮光部，所述第三色阻包括形成于所述像素区的第三色阻像素部，/n其中，所述第二色阻遮光部设于所述第一色阻垫高部的上侧，且，位于所述第一色阻垫高部上侧的部分所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻遮光部其他部分的厚度；/n透明电极层，设于所述色阻层上；以及/n黑色间隔柱层，设于所述透明电极层上。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区及非像素区，其特征在于，所述彩膜基板包括：
基板；
色阻层，设于所述基板上，所述形成色阻层包括形成第一色阻，第二色阻以及第三色阻，所述第一色阻包括形成于所述像素区的第一色阻像素部以及形成于所述非像素区的第一色阻垫高部，所述第二色阻包括形成于所述像素区的第二色阻像素部以及形成于所述非像素区的第二色阻遮光部，所述第三色阻包括形成于所述像素区的第三色阻像素部，
其中，所述第二色阻遮光部设于所述第一色阻垫高部的上侧，且，位于所述第一色阻垫高部上侧的部分所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻遮光部其他部分的厚度；
透明电极层，设于所述色阻层上；以及
黑色间隔柱层，设于所述透明电极层上。


2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻垫高部的关键尺寸为10-20微米。


3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻垫高部在所述基板上的正投影的形状为正方形，长方形或L字型。


4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二色阻遮光部的厚度小于所述第二色阻像素部的厚度。


5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二色阻遮光部的厚度为所述第二色阻像素部厚度的50-70％。


6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞云，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44