转印版、待切割面板的制备方法及待切割面板技术

本申请实施例提供了一种转印版、待切割面板的制备方法及待切割面板。转印版基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，以及在每个转印区域两相对的侧边处的围堰结构中均设置有多个凸部结构，在平行于基板的方向上，凸部结构向转印区域延伸；一围堰结构的各凸部结构与另一围堰结构的各凸部结构一一对应，多条相对应的凸部结构的虚拟连线，将转印区域划分为多个子转印区域，子转印区域用于制备子有机层，使得子有机层与待切割面板的子显示区域以及围绕子显示区域的外围区域相对应。从而使得待切割面板中相邻两个子显示区域R角之间的区域不会覆盖有PI材料，在后续工序中，解决了因PI材料导致GOA单元无法正常工作的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
转印版、待切割面板的制备方法及待切割面板
本申请涉及显示设备
，具体而言，本申请涉及一种转印版、待切割面板的制备方法及待切割面板。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示面板的制作过程中，需要涂覆PI(PolyImide，聚酰亚胺)取向层，通过PI对液晶的旋转给予一个顶倾角使得液晶的旋转方向趋于稳定，从而使得液晶显示面板可以正常显示工作。目前，涂覆PI取向层的方式包括，将PI材料滴注在APR(AsahikaseiPhotosensitiveResin，感光性树脂)版上，然后由APR版将PI材料转印到基板。为了提升手机、平板电脑等移动产品的美观性，目前市场上的移动产品的四个顶角多设计为R角，此处的R角指的是显示面板的四个角为圆角，在生产该类带R角显示面板时，由于显示面板的R角处设置有GOA(GatedriverOnArray，栅极驱动)单元，且有些栅极绝缘层的过孔靠近切割线，对于采用现有条形APR版将PI材料转印到基板过程中，PI材料会覆盖待切割面板中相邻两个子显示区域R角之间的区域，在后续工序中，PI材料容易吸水导致GOA单元无法正常工作。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点，提出一种转印版、待切割面板的制备方法及待切割面板，用以解决现有技术存在PI材料会覆盖待切割面板中相邻两个子显示区域R角之间的区域，在后续工序中，PI材料容易吸水导致GOA单元无法正常工作的技术问题。第一个方面，本申请实施例提供了一种转印版，包括：基板；基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，每个转印区域两相对的侧边处的围堰结构中均设置有多个凸部结构，且，在平行于基板的方向上，凸部结构向转印区域延伸；一围堰结构的各凸部结构与另一围堰结构的各凸部结构一一对应，多条相对应的凸部结构的虚拟连线，将转印区域划分为多个子转印区域，子转印区域用于制备子有机层，使得子有机层与待切割面板的子显示区域以及围绕子显示区域的外围区域相对应。第二个方面，本申请实施例提供了一种待切割面板的制备方法，基于上述第一方面所提供的转印版对待切割面板进行有机层的制备，包括：将转印版与待切割面板对正并贴合，使得待切割面板上形成有机层，有机层的两相对的侧边设置有多个与转印版的凸部结构对应的凹形缺口，一侧边的各凹形缺口与另一侧边的各凹形缺口一一对应，多条相对应的凹形缺口的虚拟连线，将有机层划分为多个子有机层，每个子有机层覆盖待切割面板的每个子显示区域以及围绕子显示区域的外围区域。第三个方面，本申请实施例提供了一种待切割面板，包括：衬底基板；有机层，设置于衬底基板的一侧，有机层的两相对的侧边设置有多个凹形缺口；一侧边的各凹形缺口与另一侧边的各凹形缺口一一对应，多条相对应的凹形缺口的虚拟连线，将有机层划分为多个子有机层，每个子有机层与衬底基板的每个子显示区域以及围绕子显示区域的外围区域相对应。本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：在本申请实施例提供的转印版中，通过基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，以及在每个转印区域两相对的侧边处的围堰结构中均设置有多个凸部结构，在平行于基板的方向上，凸部结构向转印区域延伸；一围堰结构的各凸部结构与另一围堰结构的各凸部结构一一对应，多条相对应的凸部结构的虚拟连线，将转印区域划分为多个子转印区域，子转印区域用于制备子有机层，使得子有机层与待切割面板的子显示区域以及围绕子显示区域的外围区域相对应。从而使得待切割面板中相邻两个子显示区域R角之间的区域不会覆盖有PI材料，在后续工序中，解决了因PI材料导致GOA单元无法正常工作的技术问题。本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。附图说明本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为本申请实施例提供的一种转印版的结构示意图；图2为本申请实施例提供的另一种转印版中转印区域的结构示意图；图3为本申请实施例提供的图1中转印版的A处放大示意图；图4为本申请实施例提供的一种待切割面板的结构示意图。附图标号的说明如下：100-基板；10-围堰结构；11-凸部结构；111-第一圆弧侧边；112-第二圆弧侧边；113-顶边；20-转印区域；21-子转印区域；22-凹槽区域；23-凸点结构；200-待切割面板；210-有机层；201-子有机层；211-凹形缺口；202-子显示区域；203-外围区域；204-衬底基板。具体实施方式下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。本申请实施例提供了一种转印版，该转印版的结构示意图如图1所示，包括：基板100；基板中的至少两个围堰结构10分别围合形成至少两个转印区域20，每个转印区域20两相对的侧边处的围堰结构10中均设置有多个凸部结构11，且，在平行于基板100的方向上，凸部结构11向转印区域20延伸；一围堰结构10的各凸部结构11与另一围堰结构10的各凸部结构11一一对应，多条相对应的凸部结构11的虚拟连线D，将转印区域20划分为多个子转印区域21，子转印区域21用于制备子有机层201，使得子有机层201与待切割面板200的子显示区域202以及围绕子显示区域202的外围区域203相对应。在本申请实施例提供的转印版中，通过基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，以及在每个转印区域两相对的侧边处的围堰结构中均设置有多个凸部结构，在平行于基板的方向上，凸部结构向转印区域延伸；一围堰结构的各凸部结构与另一围堰结构的各凸部结构一一对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印版，其特征在于，包括：/n基板；/n所述基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，每个所述转印区域两相对的侧边处的所述围堰结构中均设置有多个凸部结构，且在平行于所述基板的方向上，所述凸部结构向所述转印区域延伸；/n一所述围堰结构的各所述凸部结构与另一所述围堰结构的各所述凸部结构一一对应，多条相对应的所述凸部结构的虚拟连线，将所述转印区域划分为多个子转印区域，所述子转印区域用于制备子有机层，使得所述子有机层与待切割面板的子显示区域以及围绕所述子显示区域的外围区域相对应。/n

【技术特征摘要】
1.一种转印版，其特征在于，包括：
基板；
所述基板中的至少两个围堰结构分别围合形成至少两个转印区域，每个所述转印区域两相对的侧边处的所述围堰结构中均设置有多个凸部结构，且在平行于所述基板的方向上，所述凸部结构向所述转印区域延伸；
一所述围堰结构的各所述凸部结构与另一所述围堰结构的各所述凸部结构一一对应，多条相对应的所述凸部结构的虚拟连线，将所述转印区域划分为多个子转印区域，所述子转印区域用于制备子有机层，使得所述子有机层与待切割面板的子显示区域以及围绕所述子显示区域的外围区域相对应。


2.根据权利要求1所述的转印版，其特征在于，所述转印区域包括凹槽区域，所述凹槽区域的开口方向朝向与待切割面板接触的一面；或者，
所述转印区域包括镂空区域。


3.根据权利要求2所述的转印版，其特征在于，所述凹槽区域的底面设置有多个矩阵排列的凸点结构，所述凸点结构沿垂直于所述基板的方向上延伸。


4.根据权利要求1所述的转印版，其特征在于，一所述围堰结构的所述凸部结构与另一所述围堰结构的所述凸部结构关于所述转印区域的虚拟中线对称设置，所述虚拟中线为所述转印区域未设置所述凸部结构的侧边的虚拟中垂线。


5.根据权利要求4所述的转印版，其特征在于，所述凸部结构等距设置于一所述围堰结构。


6.根据权利要求1所述的转印版，其特征在于，所述凸部结构包括第一圆弧侧边、第二圆弧侧边以及连接所述第一圆弧侧边和第二圆弧侧边的顶边；
所述第一圆弧侧边的弧度与所述第二圆弧侧边的弧度相同，且所述顶边的延长方向垂直于所述虚拟连线。


7.根据权利要求6所述的转印版，其特征在于，所述转印区域的四个顶角的弧度均与所述第一圆弧侧边的弧度或所述第二圆弧侧边的弧度相同。

【专利技术属性】
技术研发人员：赵彦礼，李晓吉，吴海龙，陈刚，杨生，栗鹏，齐智坚，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11