显示基板及其制备方法技术

一种显示基板及其制备方法。该显示基板包括像素界定层和可控变形层；像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；可控变形层位于像素界定层上，且可控变形层的至少一部分在平行于像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。该显示基板的有机功能层形态均匀，因此该显示基板具有更优质的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法
本公开的实施例涉及一种显示基板及其制备方法。
技术介绍
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。有机发光显示装置的有机功能层例如可以采用喷墨打印的方式形成，此时，需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定有机功能材料精确的喷入指定的像素区域内。
技术实现思路
本公开至少一实施例提供一种显示基板，包括：像素界定层，包括多个开口，用于界定多个像素单元；可控变形层，位于所述像素界定层上，且所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，在垂直于所述像素界定层的方向上，所述可控变形层的横向延伸后的截面为在所述像素界定层一侧较窄的倒梯形。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的材料包括光致变形材料。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述光致变形材料包括偶氮苯、苯并螺吡喃、含肉桂酸基团的共聚物或聚乙烯聚合物。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述横向延伸通过采用第一光照射所述可控变形层而实现。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的材料包括磁致伸缩材料。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层包括含有铽镝铁稀土超磁致伸缩粒子的树脂聚合物材料。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述横向延伸通过对所述可控变形层施加磁场而实现。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述可控变形层的厚度为0.5μm-1.5μm。本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成像素界定层，所述像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；在所述像素界定层上形成可控变形层，所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法还包括：在所述开口中填充液体材料；在干燥所述液体材料的同时，向所述可控变形层施加第一控制，使得所述可控变形层朝向所述开口的方向横向延伸。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，在干燥所述液体材料之后，所述制备方法还包括：控制所述可控变形层，使所述可控变形层的横向延伸撤回。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，向所述可控变形层施加第一控制包括：通过改变所述第一控制的持续时间和强度的至少之一而控制所述可控变形层的横向延伸的大小。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，当所述可控变形层的材料为光致变形材料时，所述第一控制是第一光照；控制所述可控变形层，使所述可控变形层的横向延伸撤回包括：撤去所述第一光照，或者对所述可控变形层施加与所述第一光照波长范围不同的第二光照；通过改变所述第一控制的持续时间和强度的至少之一而控制所述可控变形层的横向延伸的大小包括：通过改变所述第一光照的照射时间、光强度或者照射时间和光强度而控制所述可控变形层的横向延伸大小。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，所述第一光照为紫外光照，所述第二光照为可见光照。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，所述第一光照的光强度为20mw/cm2-200mw/cm2，照射时间为5s-35s。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，当所述可控变形层的材料为磁致伸缩材料时，所述第一控制是磁场；控制所述可控变形层，使所述可控变形层的横向延伸撤回包括：撤去所述磁场。通过改变所述第一控制的持续时间和强度的至少之一而控制所述可控变形层的横向延伸的大小包括：通过改变所述磁场的作用时间、磁场强度或者作用时间和磁场强度而控制所述可控变形层的横向延伸大小。例如，本公开至少一实施例提供的显示基板的制备方法中，所述磁场强度为100KA/m-600KA/m，所述作用时间为30s-120s。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1为一种液滴在显示基板上的形态示意图；图2为一种显示基板中有机功能层的形态示意图；图3本公开一些实施例提供的一种显示基板的示意图；图4为本公开一些实施例提供的一种显示基板的可控变形层在变形后的示意图；图5为本公开一些实施例提供的一种显示基板的可控变形层的变形原理的示意图；图6A-图6G为本公开一些实施例提供的一种显示基板在制备过程中的示意图；图7为本公开一些实施例提供的一种显示基板在另一制备过程中的示意图。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。在显示基板的制备过程中，例如在采用喷墨打印的方式形成发光元件的有机功能层时，如图1所示，喷墨打印的液滴13在滴落后，在干燥过程中，会产生向外的毛细流动1以及向内的马拉哥尼流动2。通常情况下，向外的毛细流动1的程度大于向内的马拉哥尼流动2的程度。如图2所示，当在像素界定层11内以及在第一电极12上形成有机功能材料的液体时，由于液体的上述流动，液体干燥后的形态往往不均匀，例如形成中间薄边缘厚的薄膜(俗称“咖啡环”)，使得最终形成的有机功能层13形态不均匀，影响显示基板的显示效果。本公开至少一实施例提供一种显示基板，该显示基板包括像素界定层和可控变形层；像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；可控变形层位于像素界定层上，且可控变形层的至少一部分在平行于像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。本公开至少一实施例还提供一种显示基板的制备方法，包括：形成像素界定层，该像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；在像素界定层上形成可控变形层，该可控变形层的至少一部分在平行于像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。下面通过几个具体的实施例对本公开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括：/n像素界定层，包括多个开口，用于界定多个像素单元；/n可控变形层，位于所述像素界定层上，且所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：
像素界定层，包括多个开口，用于界定多个像素单元；
可控变形层，位于所述像素界定层上，且所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，在垂直于所述像素界定层的方向上，所述可控变形层的横向延伸后的截面为在所述像素界定层一侧较窄的倒梯形。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述可控变形层的材料包括光致变形材料。


4.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述光致变形材料包括偶氮苯、苯并螺吡喃、含肉桂酸基团的共聚物或聚乙烯聚合物。


5.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述横向延伸通过采用第一光照射所述可控变形层而实现。


6.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述可控变形层的材料包括磁致伸缩材料。


7.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述可控变形层包括含有铽镝铁稀土超磁致伸缩粒子的树脂聚合物材料。


8.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述横向延伸通过对所述可控变形层施加磁场而实现。


9.根据权利要求1-8任一所述的显示基板，其中，所述可控变形层的厚度为0.5μm-1.5μm。


10.一种显示基板的制备方法，包括：
形成像素界定层，所述像素界定层包括多个开口，用于界定多个像素单元；
在所述像素界定层上形成可控变形层，所述可控变形层的至少一部分在平行于所述像素界定层的方向上的横向延伸是可控的。


11.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，还包括：
在所述开口中填充液体材料；
在干燥所述液体材料的同时，向所述可控变形层施加第一控制，使得所述可控变形层朝向所述开口的方向横向延伸。


12.根据权利要求11所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱儒晖，姚固，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34