显示面板及显示面板的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种显示面板及显示面板的制备方法，所述显示面板包括：有源层；及下转换层，设置于所述有源层的至少一侧，所述下转换层的正投影覆盖所述有源层，所述下转换层将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光。相较于现有的显示面板，本发明专利技术通过在所述显示面板内增加至少一层下转换层，用于将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光，由于所述红光的能级低于所述蓝光和所述紫外光，所述红光对有源层稳定性影响较小；同时节省了一道光罩工艺，降低了生产成本，提高了透过率和开口率。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及显示面板的制备方法
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)是目前液晶显示装置和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置中的主要驱动元件，直接关系到高性能平板显示装置的发展方向。铟镓锌氧化物(IndiumGalliumZincOxide，IGZO)由于具有高迁移率、适用于大面积生产、易于由非晶硅(a-Si)制程转换等优势，成为目前薄膜晶体管
内的研究热点。在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)制作过程中，会有好几道紫外光(Ultraviolet，UV)照射工序，比如蒸镀前清洗UV除玻璃表面有机物，封装UV固化等等。但IGZO-TFT中的IGZO有源层对于工艺和环境非常敏感，因为UV光子能量高于氧化物半导体的带隙而产生了电子-空穴对，使得阈值电压降低，会对其稳定性产生不利影响。目前的器件结构常常采用刻蚀阻挡层(Etch-StopLayer，ESL)并增加一道金属遮光层对IGZO有源层进行保护，不利于TFT制程成本的降低；同时由于源漏金属层(SourceDrain，SD)与刻蚀阻挡层之间的堆叠，使得TFT器件的沟道尺寸较大，寄生电容也较大。然而刻蚀阻挡层和金属遮光层并无法完全阻止UV光照射IGZO，并且对于透明器件来说，刻蚀阻挡层和金属遮光层的结构反而降低了器件的透过率。综上所述，目前的显示面板存在生产成本高、有源层的稳定性差以及面板透过率和开口率低的技术问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法，用于解决目前的显示面板存在生产成本高、有源层的稳定性差以及面板透过率和开口率低的技术问题。为解决上述问题，第一方面，本专利技术提供一种显示面板，包括：有源层；下转换层，设置于所述有源层的至少一侧，所述下转换层的正投影覆盖所述有源层，所述下转换层将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光。在本专利技术的一些实施例中，还包括依次层叠设置的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述有源层设置于所述缓冲层上，所述下转换层设置于所述衬底基板与所述缓冲层之间。在本专利技术的一些实施例中，当所述显示面板包括两个所述下转换层时，另一个所述下转换层设置于所述钝化层与所述平坦层之间。在本专利技术的一些实施例中，还包括依次层叠设置的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述下转换层设置于所述像素定义层远离所述平坦层的一侧表面上。在本专利技术的一些实施例中，所述下转换层的厚度小于等于1μm。第二方面，本专利技术提供一种显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如第一方面中任一所述的显示面板，包括以下步骤：提供一有源层；及制备下转换层，通过旋涂或打印在所述有源层的至少一侧形成所述下转换层，所述下转换层将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光。在本专利技术的一些实施例中，制备所述下转换层包括：先将下转换发光材料均匀地分散在透明高分子材料内，再溶于乙醇，然后进行旋涂或者打印处理，其中所述下转换层的掺杂浓度1.5×10-5～2％，对光线的吸收范围为260nm～420nm。在本专利技术的一些实施例中，所述下转换发光材料为掺铕钒酸钇或稀土配合物，所述透明高分子材料为乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯醇。在本专利技术的一些实施例中，还包括依次形成的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述有源层形成于所述缓冲层上，所述下转换层形成于所述衬底基板与所述缓冲层之间，及/或形成于所述钝化层与所述平坦层之间。在本专利技术的一些实施例中，还包括依次形成的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述下转换层形成于所述像素定义层远离所述平坦层的一侧表面上。相较于现有的显示面板，本专利技术通过在所述显示面板内增加至少一层下转换层，用于将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光，由于所述红光的能级低于所述蓝光和所述紫外光，所述红光对有源层稳定性影响较小；同时节省了一道光罩工艺，降低了生产成本，提高了透过率和开口率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一个实施例中显示面板的结构示意图；图2为本专利技术另一个实施例中显示面板的结构示意图；图3为本专利技术又一个实施例中显示面板的结构示意图；及图4为本专利技术一个实施例中制备方法的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。目前的显示面板存在生产成本高、有源层的稳定性差以及面板透过率和开口率低的技术问题。基于此，本专利技术实施例中提供一种显示面板及显示面板的制备方法，以下分别进行详细说明。首先，本专利技术实施例提供一种显示面板，如图1所示，图1为本专利技术一个实施例中显示面板的结构示意图。所述显示面板包括有源层101；及下转换层102，设置于所述有源层101的至少一侧，所述下转换层102的正投影覆盖所述有源层101，所述下转换层102将射向所述有源层101的蓝光或紫外光转换成红光。相较于现有的显示面板，本专利技术通过在所述显示面板内增加至少一层下转换层102，用于将射向所述有源层101的蓝光或紫外光(图中带阴影箭头，下同)转换成红光(图中空心箭头，下同)，由于所述红光的能级低于所述蓝光和所述紫外光，所述红光对有源层101稳定性影响较小；同时节省了一道光罩工艺，降低了生产成本，提高了透过率和开口率。在本专利技术实施例中，所述显示面板还包括依次层叠设置的衬底基板103、缓冲层104、层间介质层105、钝化层106、平本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：/n有源层；及/n下转换层，设置于所述有源层的至少一侧，所述下转换层的正投影覆盖所述有源层，所述下转换层将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
有源层；及
下转换层，设置于所述有源层的至少一侧，所述下转换层的正投影覆盖所述有源层，所述下转换层将射向所述有源层的蓝光或紫外光转换成红光。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括依次层叠设置的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述有源层设置于所述缓冲层上，所述下转换层设置于所述衬底基板与所述缓冲层之间。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，当所述显示面板包括两个所述下转换层时，另一个所述下转换层设置于所述钝化层与所述平坦层之间。


4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括依次层叠设置的衬底基板、缓冲层、层间介质层、钝化层、平坦层以及像素定义层，所述下转换层设置于所述像素定义层远离所述平坦层的一侧表面上。


5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述下转换层的厚度小于等于1μm。


6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
提供一有源层；及
制...

【专利技术属性】
技术研发人员：段廷原，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44