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一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法技术

技术编号:25711989 阅读:44 留言:0更新日期:2020-09-23 02:58
本发明专利技术公布了噪声控制和建筑声学领域中一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法。通过测量单个共振吸声体有效吸声面在共振频率处的声阻率,计算多个共振吸声体构成阵列时的最优有效面积占比,按最优有效面积比等间隔布放共振吸声体,在吸声体数目保持不变的条件下,达到最佳的无规入射吸声性能。该方法步骤明确、操作简单、吸声效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法一、
本专利技术涉及噪声控制和建筑声学领域。提出了一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法。二、
技术介绍
共振吸声体在噪声控制和建筑声学领域应用广泛,其机理是利用电学、力学、声学中的各种构件组成共振结构,在特定的频率处实现声抗为零,声阻接近空气特性阻抗。传统的共振吸声结构有穿孔板、微穿孔板(MaaDY.Potentialofmicroperforatedpanelabsorber[J].TheJournaloftheAcousticalSocietyofAmerica,1998,104:2861-2866)等,其优势是可有效吸收共振频率附近的噪声、可选材料多样、适合多种应用场景。共振吸声的机理决定这类结构的有效吸声频带宽度有限;另外由于采用空气背腔实现声容,低频吸声时需要较大的背腔容积。分流扬声器(CN103559877A、CN104078037A)作为一种新型的共振吸声结构,结构简单、便于调节、近期受到了广泛关注。更重要的是可通过分流电路的设计产生等效声容,实现薄型低频吸声结构。...

【技术保护点】
1.一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法,其特征在于它包括以下步骤:/n(1)测量单个共振吸声体的法向声阻抗率;/n(2)确定布放时的最优有效面积比σ

【技术特征摘要】
20200117 CN 20201005677411.一种提升共振吸声体阵列无规入射吸声性能的布放方法,其特征在于它包括以下步骤:
(1)测量单个共振吸声体的法向声阻抗率;
(2)确定布放时的最优有效面积比σopt,有效面积比σ定义为其中N2为吸声体的数量,S0为每个吸声体的有效吸声面积,S为整个阵列的总面积;
(3)根据最优有效面积比等间距规则布放每个共振吸声体组成阵列。


2.如权利要求1所述的共振吸声体阵列,其特征在于组成阵列的每个共振吸声体单元结构一致,边长远小于拟吸收的声波波长;如果每个共振吸声体有多个共振频率,其在各共振频率处的法向声阻抗相同。

【专利技术属性】
技术研发人员:张鹏举陶建成丛超楠邱小军
申请(专利权)人:南京大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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