光谱仪、用于制造光谱仪的方法和用于运行光谱仪的方法技术

本发明专利技术涉及一种光谱仪（100），所述光谱仪具有：光学滤波器（102），用于从电磁辐射中滤出所要分析的波长范围；和探测器（104），所述探测器具有至少一个角度敏感像素（106）、尤其是多个角度敏感像素（106），用于根据从所述光学滤波器（102）透过的透射辐射的入射角来探测所述透射辐射的强度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光谱仪、用于制造光谱仪的方法和用于运行光谱仪的方法
本专利技术的出发点是一种根据独立权利要求的前序部分所述的设备或方法。本专利技术的主题也是一种计算机程序。
技术介绍
光谱仪例如被用于检查物质或对象的材料成分。这样，例如可以将与对象相互作用的电磁辐射、如可见光或红外光分解成其波长成分，这些波长成分取决于材料地不一样强烈地被吸收。得到如下光谱，该光谱的形状对于特定的物质或者物质的混合物来说是表征性的。所谓的法布里-珀罗光谱仪提供了一种以所希望的方式来分解光的途径，该法布里-珀罗光谱仪的核心包含法布里-珀罗干涉仪、也称为标准具（Etalon）。在此，入射光束进入到法布里-珀罗干涉仪中，该法布里-珀罗干涉仪由两个对置的平面平行的镜面组成，光在所述镜面上多次被反射。在每次反射时，光的一部分被透射。在法布里-珀罗干涉仪后面形成具有相干的部分光束的射束，这些相干的部分光束可以彼此干涉。如果d是在镜之间的间距，则建设性干涉的条件为2d*cosα=mλ，其中α是入射光束与光轴之间的角度而m是自然数（光谱级）。如果只考虑第一级和平行于光轴入射的光，则只有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱仪（100），其具有如下特征：/n光学滤波器（102），用于从电磁辐射中滤出所要分析的波长范围；和/n探测器（104），所述探测器具有至少一个角度敏感像素（106）、尤其是多个角度敏感像素（106），用于根据从所述光学滤波器（102）透过的透射辐射（402）的入射角来探测所述透射辐射（402）的强度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180201 DE 102018201519.81.一种光谱仪（100），其具有如下特征：
光学滤波器（102），用于从电磁辐射中滤出所要分析的波长范围；和
探测器（104），所述探测器具有至少一个角度敏感像素（106）、尤其是多个角度敏感像素（106），用于根据从所述光学滤波器（102）透过的透射辐射（402）的入射角来探测所述透射辐射（402）的强度。


2.根据权利要求1所述的光谱仪（100），其中所述像素（106）构造用于探测作为所述入射角的正弦函数的强度。


3.根据上述权利要求之一所述的光谱仪（100），其中所述像素（106）具有：衍射光栅（300），用于在使用所述透射辐射（402）的情况下产生具有取决于所述入射角的相位的强度图案；和传感元件（302），用于在使用所述强度图案的情况下产生表示所述强度图案的强度信号（306）。


4.根据权利要求3所述的光谱仪（100），其中所述像素（106）具有至少一个布置在所述传感元件（302）与所述衍射光栅（300）之间的中间光栅（304），用于在使用所述强度图案的情况下产生附加强度图案，其中所述传感元件（302）构造用于在使用所述附加强度图案的情况下产生所述强度信号（306）。


5.根据权利要求4所述的光谱仪（100），其中所述中间光栅构造为用于确定所述强度图案的相移的分析栅。


6.根据权利要求3至5之一所述的光谱仪（100），其中所述探测器（104）具有探测器矩阵，所述探测器矩阵具有所述像素（106）和至少一个角度敏感的其它像素，用于根据所述入射角来探测所述强度，其中所述其它像素具有：与所述衍射光栅（300）不同的另一衍射光栅，用于在使用所述透射辐射（402）的情况下产生具有取决于所述入射角的相位的另一强度图案；和另一传...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·斯坦，M·胡思尼克，E·鲍姆加特，F·毛赫，C·谢林，R·维斯，
申请(专利权)人：罗伯特·博世有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE