含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其包括：(I)对含有高分子量聚四氟乙烯的组合物照射电离性放射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法
本专利技术涉及一种含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法。
技术介绍
低分子量聚四氟乙烯(以下，有时称作“低分子量PTFE”)不仅化学稳定性优异、表面能极低，而且难以发生原纤化，因此，作为提高滑动性或涂膜表面的质感的添加剂，在塑料、油墨、化妆品、涂料、润滑脂等的制造中使用(例如，专利文献1)。作为含有这种低分子量PTFE的组合物的制造方法之一，可以列举对高分子量聚四氟乙烯(以下，有时称作“PTFE”)照射电离性放射线的方法(例如，专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平10－147617号公报专利文献2：日本特公昭47－19609号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在像专利文献2那样的含有低分子量PTFE的组合物中，有时包含全氟辛酸(以下，有时称作“PFOA”)或其盐等的、具有官能团的低分子量含氟化合物及其衍生物(以下，有时称作“PFC”)。本专利技术的专利技术人进行深入研究，结果发现，如上所述的以PFOA为代表的PFC可能通过电离性放射线的照射而产生。本专利技术的目的在于得到降低了PFC含量的含有低分子量PTFE的组合物。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的第一要点是提供一种含有低分子量PTFE的组合物的制造方法，该制造方法包括：(I)对含有PTFE的组合物照射电离性放射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×102～7.0×105Pa·s范围的低分子量PTFE的组合物的工序；和(II)对在上述工序中得到的含有低分子量PTFE的组合物进行氟化处理的工序。专利技术效果根据本专利技术，能够提供适于制造降低了PFC含量的含有低分子量PTFE的组合物的方法。具体实施方式本专利技术的含有低分子量PTFE的组合物的制造方法包括：(I)对含有PTFE的组合物照射电离性放射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×102～7.0×105Pa·s范围的低分子量PTFE的组合物的工序(以下，有时称作“工序(I)”)；和(II)对在上述工序中得到的含有低分子量PTFE的组合物进行氟化处理的工序(以下，有时称作“工序(II)”)。以下，对工序(I)进行说明。上述PTFE可以是由通常能够进行的聚合方法、例如乳液聚合或悬浮聚合得到的物质。上述PTFE可以是在分子结构中作为源自单体的结构单元仅具有源自四氟乙烯(TFE)的结构单元的物质，也可以是包括源自具有TFE以外的结构的单体的结构单元和源自TFE的结构单元的物质(以下，有时称作“改性PTFE”)。作为上述具有TFE以外的结构的单体，只要是能够与TFE共聚的单体，就没有特别限定，能够使用通常使用的单体(例如，六氟丙烯〔HFP〕等的全氟烯烃；氯三氟乙烯〔CTFE〕等的氯氟烯烃；三氟乙烯、偏氟乙烯〔VDF〕等的含有氢原子的氟代烯烃；全氟乙烯基醚；全氟烷基乙烯；乙烯等)。上述具有TFE以外的结构的单体可以仅使用1种，也可以使用多种。作为上述全氟乙烯基醚，没有特别限定，例如，可以列举以下通式(1)所示的全氟不饱和化合物等。CF2＝CF－ORf(1)(式中，Rf表示全氟有机基。)。在本说明书中，上述“全氟有机基”意指与碳原子键合的氢原子全部被氟原子取代的有机基。作为上述全氟有机基，例如，可以列举全氟烷基、全氟(烷氧基烷基)基等。上述全氟有机基可以具有形成醚键的氧原子。在一个方式中，作为上述全氟乙烯基醚，例如，可以列举在上述通式(1)中Rf表示碳原子数1～10(优选为碳原子数1～5)的全氟烷基的全氟烷基乙烯基醚(PAVE)。作为上述PAVE中的全氟烷基，例如，可以列举全氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、全氟戊基、全氟己基等。作为优选的全氟烷基，可以列举全氟丙基。优选的PAVE是全氟烷基为全氟丙基的全氟丙基乙烯基醚(PPVE)。在其它方式中，作为上述全氟乙烯基醚，可以列举在上述通式(1)中Rf为碳原子数4～9的全氟(烷氧基烷基)基的物质、Rf为下述式：(式中，m表示0或1～4的整数。)所示的基团的物质、Rf为下述式：(式中，n表示1～4的整数。)所示的基团的物质等。作为上述全氟烷基乙烯，没有特别限定，例如，可以列举(全氟丁基)乙烯(PFBE)、(全氟己基)乙烯、(全氟辛基)乙烯等。上述具有TFE以外的结构的单体优选为选自HFP、CTFE、VDF、PPVE、PFBE和乙烯中的至少1种，更优选为选自HFP和CTFE中的至少1种。上述改性PTFE中，源自具有TFE以外的结构的单体的结构单元优选以0.001～1质量％的范围含有。上述改性PTFE中，上述源自具有TFE以外的结构的单体的结构单元更优选含有0.01质量％以上。上述改性PTFE中，上述源自具有TFE以外的结构的单体的结构单元更优选含有0.5质量％以下，进一步优选含有0.1质量％以下。上述源自具有TFE以外的结构的单体的结构单元的含量能够通过傅里叶变换型红外光谱法(FT－IR)等公知的方法求出。上述PTFE的标准比重(SSG)优选在2.130～2.230的范围。上述SSG在通过悬浮聚合得到上述PTFE时为依据ASTMD4894测得的值、在通过乳液聚合得到上述PTFE时为依据ASTMD4895测得的值。另外，作为PTFE的分子量的指标，通常能够使用SSG或熔融粘度。具有如上所述的SSG的PTFE的熔融粘度非常高，难以正确地测定其熔融粘度。因此，在具有如上所述的SSG的PTFE中，通常使用SSG作为分子量的指标。上述PTFE的熔点优选在324℃～336℃的范围。上述熔点例如为使用差示扫描量热计(DSC)测定的值。具体而言，上述熔点能够设为，利用预先作为标准样品使用铟和铅进行了温度校正的DSC，在200ml/分钟的空气气流下、在250℃～380℃的温度区域中以10℃/分钟进行升温而得到的、熔化热量的极小点。上述含有PTFE的组合物优选实质上由PTFE构成。其中，“实质上由PTFE构成”意指：相对于上述组合物100质量份，PTFE含有90质量份以上，具体而言，可以含有95质量份以上。相对于上述组合物100质量份的PTFE的上限值没有特别限定，例如为100质量份以下，具体而言，可以为98质量份以下。作为上述含有PTFE的组合物，可以使用含有PFOA或其盐的物质，也可以使用实质上不含PFOA或其盐的物质。其中，“实质上不含”意指：相对于PTFE以质量基准计，PFOA小于25ppb、优选为15ppb以下、进一步优选为5ppb以下、特别优选小于检测界限。小于检测界限意指例如小于5ppb。另外，在没有特别记载的情况下，在本说明书中，上述含量表示PFOA及其盐的合计量。上述含有PTFE的组合物优选实质上不含PFOA或其盐。其中，“实质上不含”的含义与上述相同。像本方式这样，即使使用实质上不含PFOA或其盐的含有PTFE的组合物的情况下，通过在工序(I本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于，包括：/n(I)对含有高分子量聚四氟乙烯的组合物照射电离性放射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180207 JP 2018-0204321.一种含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于，包括：
(I)对含有高分子量聚四氟乙烯的组合物照射电离性放射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×102～7.0×105Pa·s范围的低分子量聚四氟乙烯的组合物的工序；和
(II)对在上述工序中得到的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物进行氟化处理的工序。


2.如权利要求1所述的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于：
工序(II)包括对在工序(I)中得到的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物进行氟化处理的步骤和进行粉碎处理的步骤。


3.如权利要求1或2所述的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于：
工序(II)包括：对在工序(I)中得到的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物进行粉碎处理，之后进行氟化处理的步骤。


4.如权利要求1～3中任一项所述的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于：
所述氟化处理通过使在工序(I)中得到的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物至少与氟化剂接触而进行。


5.如权利要求4所述的含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其特征在于：
所述氟化...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻雅之，山中拓，田中勇次，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP