【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于激光加工材料的装置和方法专利
本专利技术涉及用于激光加工材料的装置和方法。专利技术背景激光被用于许多激光加工应用(包括切割、焊接、钻孔、雕刻和加性制造)中。在这些应用中,通常期望优化与材料相互作用的激光束的尺寸和横截面轮廓。例如,可以通过改变聚焦透镜与工件之间的工作距离来改变与材料相互作用的激光束的光斑尺寸。可以使用外部光学器件来将横截面轮廓从高斯改变为顶帽(tophat),或改变为环形或环轮廓。然而,向外部光学器件提供此类灵活性是昂贵的,并且必须改变工作距离花费了时间,并且因此增加了加工成本。期望能够将激光束从单个基本高斯模式改变为顶帽或环形光束,而不必调整加工头中的光学器件。还期望能够在不改变工作距离的情况下改变激光束的光斑尺寸。金属粉末床加性制造系统使用基本高斯模式,以便在所构建的三维结构中给出最小可能的特征尺寸。然而,使用基本高斯模式意味着构建较大的结构是缓慢的。因此,需要能够将激光束从可以创建小特征的基本高斯模式切换到可以更快地加工更大区域的、具有更大且更均匀的光斑尺寸的激光束。激光钻孔可能会出现的问题是,一旦钻孔后,激光束会损坏孔后面的表面。该问题可以通过提供环形激光束来至少部分地解决。可以使用轴棱锥透镜或通过将激光辐射引导到光纤或其他波导的包层或环形芯中来创建环形光束。然而,此类光束可迅速发散,并且在离开焦点超过1mm至2mm时不会保留其环形横截面。因此,需要在离开和穿过焦点时保持环形光束。存在通过提供具有低发散度的环形激光束来减小可被钻孔的孔尺寸的相关要求。通过经由加工 ...
【技术保护点】
1.用于激光加工材料的装置,所述装置包括激光器、光纤和耦合器,/n其中:/n·所述激光器被连接至所述光纤;/n·所述光纤使得激光辐射能够在具有第一模式阶次的第一光学模式、具有第二模式阶次的第二光学模式以及具有第三模式阶次的第三光学模式中沿所述光纤传播;/n·所述第三模式阶次高于所述第二模式阶次;并且/n·所述第二模式阶次高于所述第一模式阶次;/n所述装置的特征在于:/n·所述耦合器被配置成:将在所述第一光学模式中传播的激光辐射切换为在所述二阶模中传播的激光辐射;以及/n·所述耦合器被配置成:将在所述第二光学模式中传播的激光辐射切换为在所述三阶模中传播的激光辐射。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180202 GB 1801796.21.用于激光加工材料的装置,所述装置包括激光器、光纤和耦合器,
其中:
·所述激光器被连接至所述光纤;
·所述光纤使得激光辐射能够在具有第一模式阶次的第一光学模式、具有第二模式阶次的第二光学模式以及具有第三模式阶次的第三光学模式中沿所述光纤传播;
·所述第三模式阶次高于所述第二模式阶次;并且
·所述第二模式阶次高于所述第一模式阶次;
所述装置的特征在于:
·所述耦合器被配置成:将在所述第一光学模式中传播的激光辐射切换为在所述二阶模中传播的激光辐射;以及
·所述耦合器被配置成:将在所述第二光学模式中传播的激光辐射切换为在所述三阶模中传播的激光辐射。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述耦合器被配置成:将能在所述第一光学模式中传播的所述激光辐射的至少75%耦合至所述第三光学模式。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的装置,其特征在于,所述耦合器被配置成:将在所述第一光学模式中传播的所述激光辐射切换到多个光学模式,从而使得能够形成所述激光辐射的顶帽光功率分布。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,包括光学透镜布置,所述光学透镜布置被配置成将所述激光辐射聚焦到所述材料的表面上或附近。
5.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,包括透镜,其中所述透镜由前焦面和后焦面来定义,所述第一光学模式由瑞利长度来定义,并且所述透镜位于距源自所述激光器的所述光纤的远端的两个瑞利长度之内。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述透镜被定位成使得所述光纤的所述远端位于所述前焦面处。
7.根据权利要求5和6中任一项所述的装置,其特征在于,所述透镜包括渐变折射率透镜。
8.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述光纤具有多个芯,并且所述第三光学模式和所述第一光学模式在所述芯中的不同芯中传播。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述芯中的至少一者是围绕所述芯中的另一者的环形芯。
10.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于:
·所述耦合器包括至少一个挤压机构,所述至少一个挤压机构包括由节距限定的周期性表面;
·所述周期性表面定位成毗邻于所述光纤;以及
·所述挤压机构被配置成利用挤压力来将所述周期性表面和所述光纤挤压在一起,藉此将所述第一光学模式耦合至所述第二光学模式,并且将所述第二光学模式耦合至所述第三光学模式。
11.根据权利要求10所述的装置,其特征在于,所述装置被配置成取决于期望的输出模式而施加不同的挤压力。
12.根据权利要求10或权利要求11所述的装置,其特征在于,所述节距是沿所述周期性表面的长度啁啾的可变节距,所述可变节距具有第一节距和第二节距,其中所述第一节距将所述第一光学模式和所述第二光学模式耦合在一起,并且所述第二节距将所述第二光学模式和所述第三光学模式耦合在一起。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的装置,其特征在于,所述挤压机构被配置成在施加所述挤压力时以螺旋方式使所述光纤变形。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的装置,其特征在于,所述激光辐射由光束参数乘积来定义,并且所述挤压机构使得能够通过增加所述挤压力来增加所述光束参数乘积。
15.根据权利要求10至14中任一项所述的装置,其特征在于,包括长周期光栅,所述长周期光栅被配置成将所述第三光学模式耦合至多个光学模式,藉此使得所述激光辐射能够具有顶帽或环形环轮廓。
16.根据权利要求15所述的装置,其特征在于,所述长周期光栅包括第二挤压机构,所述第二挤压机构包括由节距限定的周期性表面;所述周期性表面定位成毗邻于所述光纤;并且所述挤压机构被配置成利用挤压力来将所述周期性表面和所述光纤挤压在一起。
17.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述装置被配置成从所述光纤发射单个个体光学模式。
18.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述光纤包括基本上均质的芯,由此避免了所述光学模式之间的非预期模式耦合。
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【专利技术属性】
技术研发人员:A·马利诺斯基,C·A·科德麦德,M·N·泽瓦斯,I·博特罗伊德,S·J·基恩,M·P·瓦纳姆,
申请(专利权)人:司浦爱激光技术英国有限公司,
类型:发明
国别省市:英国;GB
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