一种补偿电容结构及其容值的提升方法技术

本发明专利技术涉及OLED技术领域，特别涉及一种补偿电容结构及其容值的提升方法，通过将电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层依次设置在所述电容区域结构的玻璃层表面，使得第一金属层、第一绝缘层和半导体层三者之间构成第一电容器，第二金属层、第二绝缘层和第三金属层三者之间构成第二电容器，从而使第一电容器与第二电容器之间形成相互并联的电路结构，提升了容值；本方案设计的补偿电容结构能够在现有的工艺流程的基础上节约光罩，有效地改善面板画面的均一性，提升显示质量，满足更小的电极板面积达到提升开口率的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种补偿电容结构及其容值的提升方法
本专利技术涉及OLED
，特别涉及一种补偿电容结构及其容值的提升方法。
技术介绍
随着显示器技术的发展进步，人们对显示器的品质提出更高的要求，目前达到更高的分辨率已成为未来显示器行业的必然趋势。有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称为OLED)，现有的OLED器件一般为2T1C(两个晶体管夹着一个存储电容)结构，存储电容是维持限速电极电位的主要手段，统一增大存储电容可以有效地改善画面的均一性，提升显示质量。增大存储电容的方法通常为增大电极板面积及减小两电极板间的间距，然而增大电极板面积无法缩小器件尺寸并造成开口率下降，单纯减小两电极板的面积会受到绝缘层厚度的限制并且存在击穿的风险。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种补偿电容结构及其容值的提升方法。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的第一种方案为：一种补偿电容结构，包括电容区域结构，所述电容区域结构包括玻璃层，在所述电容区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层；所述电容区域结构的第一绝缘层上设有第一过孔，所述电容区域结构的第二金属层上设有第二过孔，所述电容区域结构的第二绝缘层上设有第三过孔，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔相对设置且相通，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔中均填充有第三金属层，所述第一过孔中的第三金属层与所述电容区域结构的第一金属层远离玻璃层的一侧面接触。本专利技术采用的第二种技术方案为：一种补偿电容结构的容值的提升方法，包括以下步骤：S1、提供一电容区域结构的玻璃层，且在玻璃层表面上覆盖有第一金属层；S2、形成第一绝缘层，且覆盖于所述第一金属层表面；S3、形成半导体层，且覆盖于所述第一绝缘层表面；S4、形成第二金属层，且覆盖于所述半导体层表面；S5、形成第二绝缘层，且覆盖于所述第二金属层表面；S6、于第一绝缘层中形成第一过孔，于第二金属层中形成第二过孔，于第二绝缘层中形成第三过孔，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔相对设置且相通；S7、形成第三金属层，覆盖于所述第二绝缘层表面且所述第一过孔、第二过孔和第三过孔中均填充有第三金属层，所述第一过孔中的第三金属层与所述第一金属层远离玻璃层的一侧面接触。本专利技术的有益效果在于：通过将电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层依次设置在所述电容区域结构的玻璃层表面，使得第一金属层、第一绝缘层和半导体层三者之间构成第一电容器，第二金属层、第二绝缘层和第三金属层三者之间构成第二电容器，从而使第一电容器与第二电容器之间形成相互并联的电路结构，提升了容值；本方案设计的补偿电容结构能够在现有的工艺流程的基础上节约光罩，有效地改善面板画面的均一性，提升显示质量，满足更小的电极板面积达到提升开口率的效果。附图说明图1为根据本专利技术的一种补偿电容结构的结构示意图；图2为根据本专利技术的一种补偿电容结构的容值的提升方法的步骤流程图；标号说明：1、电容区域结构；2、TFT1区域结构；3、TFT2区域结构；4、玻璃层；5、第一金属层；6、第一绝缘层；7、半导体层；8、第二金属层；9、第二绝缘层；10、第三金属层。具体实施方式为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。本专利技术最关键的构思在于：通过将电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层依次设置在所述电容区域结构的玻璃层表面，以实现电容器容值的提升。请参照图1，本专利技术提供的一种技术方案：一种补偿电容结构，包括电容区域结构，所述电容区域结构包括玻璃层，在所述电容区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层；所述电容区域结构的第一绝缘层上设有第一过孔，所述电容区域结构的第二金属层上设有第二过孔，所述电容区域结构的第二绝缘层上设有第三过孔，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔相对设置且相通，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔中均填充有第三金属层，所述第一过孔中的第三金属层与所述电容区域结构的第一金属层远离玻璃层的一侧面接触。从上述描述可知，本专利技术的有益效果在于：通过将电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层依次设置在所述电容区域结构的玻璃层表面，使得第一金属层、第一绝缘层和半导体层三者之间构成第一电容器，第二金属层、第二绝缘层和第三金属层三者之间构成第二电容器，从而使第一电容器与第二电容器之间形成相互并联的电路结构，提升了容值；本方案设计的补偿电容结构能够在现有的工艺流程的基础上节约光罩，有效地改善面板画面的均一性，提升显示质量，满足更小的电极板面积达到提升开口率的效果。进一步的，所述电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层和半导体层构成第一电容器，所述电容区域结构的第二金属层、第二绝缘层和第三金属层构成第二电容器，所述第一电容器与所述第二电容器相互并联。由上述描述可知，第一金属层和半导体构成第一电容器的上下两极板，第一绝缘层的厚度为第一电容器的电容间距，第二金属层和第三金属层构成第二电容器的上下两极板，第二绝缘层的厚度为第二电容器的电容间距，通过将第一电容器与第二电容器相互并联连接，能够提升容值且减小电容结构的面积，进而有效改善面板画面的均一性。进一步的，所述电容区域结构的第一绝缘层的厚度为200nm-300nm，所述电容区域结构的第二绝缘层的厚度为200nm-300nm。由上述描述可知，若绝缘层的厚度过薄会有击穿风险，将电容区域结构的第一绝缘层的厚度设置为200nm-300nm和电容区域结构的第二绝缘层的厚度设置为200nm-300nm，能够保证不会出现电容器击穿问题，并可保证面板达到更低的功耗。进一步的，还包括TFT1区域结构，所述TFT1区域结构包括玻璃层，在所述TFT1区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层和第二绝缘层。进一步的，还包括TFT2区域结构，所述TFT2区域结构包括玻璃层，在所述TFT2区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二绝缘层和第三金属层；所述第一绝缘层上设有第四过孔，所述第四过孔中填充有第二金属层，所述第四过孔中的第二金属层与所述TFT2区域结构的第一金属层远离玻璃层的一侧面接触，所述第二绝缘层上设有两个以上的第五过孔，所述第五过孔中填充有第三金属层，所述第五过孔中的第三金属层与所述TFT2区域结构的半导体层远离玻璃层的一侧面接触。请参照图2，本专利技术提供的另一种技术方案：一种补偿电容结构的容值的提升方法，包括以下步骤：S1、提供一电容区域结构的玻璃层，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种补偿电容结构，其特征在于，包括电容区域结构，所述电容区域结构包括玻璃层，在所述电容区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层；/n所述电容区域结构的第一绝缘层上设有第一过孔，所述电容区域结构的第二金属层上设有第二过孔，所述电容区域结构的第二绝缘层上设有第三过孔，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔相对设置且相通，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔中均填充有第三金属层，所述第一过孔中的第三金属层与所述电容区域结构的第一金属层远离玻璃层的一侧面接触。/n

【技术特征摘要】
1.一种补偿电容结构，其特征在于，包括电容区域结构，所述电容区域结构包括玻璃层，在所述电容区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层；
所述电容区域结构的第一绝缘层上设有第一过孔，所述电容区域结构的第二金属层上设有第二过孔，所述电容区域结构的第二绝缘层上设有第三过孔，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔相对设置且相通，所述第三过孔、第二过孔和第一过孔中均填充有第三金属层，所述第一过孔中的第三金属层与所述电容区域结构的第一金属层远离玻璃层的一侧面接触。


2.根据权利要求1所述的补偿电容结构，其特征在于，所述电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层和半导体层构成第一电容器，所述电容区域结构的第二金属层、第二绝缘层和第三金属层构成第二电容器，所述第一电容器与所述第二电容器相互并联。


3.根据权利要求1所述的补偿电容结构，其特征在于，所述电容区域结构的第一绝缘层的厚度为200nm-300nm，所述电容区域结构的第二绝缘层的厚度为200nm-300nm。


4.根据权利要求1所述的补偿电容结构，其特征在于，还包括TFT1区域结构，所述TFT1区域结构包括玻璃层，在所述TFT1区域结构的玻璃层表面上依次层叠设有第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层和第二绝缘层。


5.根据权利要求1所述的补偿电容结构，其特征在于，还包括TFT2区域结构，所述TFT2区域结构包括玻璃层，在所述TFT2区域结构的玻璃层...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋爽，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35