一种新型便携式γ辐照准直器及其设计方法技术

本发明专利技术公开了一种新型便携式γ辐照准直器及其设计方法。该新型便携式γ辐照准直器包括：辐照源腔室、屏蔽体和辐照开口；所述辐照源腔室用于容纳不同尺寸的γ辐照源；所述辐照开口用于准直出射所述γ辐照源发射的γ射线；所述辐照源腔室位于所述屏蔽体的中心位置；所述辐照开口贯穿所述屏蔽体，且与所述辐照源腔室连通；所述辐照开口出射的γ射线的均匀性和散射特性满足预设要求。该新型便携式γ辐照准直器能够容纳不同尺寸的γ辐照源，且产生的γ辐射场的均匀性和散射特性满足预设要求，扩大了便携式γ辐射准直器的适用范围。

【技术实现步骤摘要】
一种新型便携式γ辐照准直器及其设计方法
本专利技术实施例涉及电离辐射剂量学领域，尤其涉及一种新型便携式γ辐照准直器及其设计方法。
技术介绍
γ辐照准直器安装γ放射源后，可提供满足一定技术指标的γ辐射场，常用于食品灭菌消毒、工业探伤检测、电离辐射剂量学研究。目前绝大部分γ辐照准直器都较为笨重，为了保证出射的γ辐射场满足一定的技术要求将其固定在γ辐照实验室。随着电离辐射技术及其应用的发展，在某些特殊的辐照需求中，无法在γ辐照实验室内进行，需要现场或在线作业，因此需要研发设计便携式γ辐照准直器。现有的便携式γ辐照准直器中，γ放射源放置于辐照开口靠近屏蔽体中心一侧，且只能放置特定的γ放射源，不同尺寸的γ放射源，对应不同的γ辐照准直器，因此，针对设计好的γ辐照准直器，只能放置一种尺寸的γ放射源，其适用范围比较窄，适用性比较低；此外，现有的便携式γ辐照准直器中辐照开口背离屏蔽体中心一侧的开口口径比较大，与其配套的辐射衰减片的尺寸比较大，在一些对尺寸有要求的情况下不便使用，限制了该γ辐照准直器的应用场景，进一步影响了便携式γ辐照准直器适用范围。由于γ本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，包括：辐照源腔室、屏蔽体和辐照开口；所述辐照源腔室用于容纳不同尺寸的γ辐照源；所述辐照开口用于准直出射所述γ辐照源发射的γ射线；/n所述辐照源腔室位于所述屏蔽体的中心位置；所述辐照开口贯穿所述屏蔽体，且与所述辐照源腔室连通；/n所述辐照开口出射的γ射线的均匀性和散射特性满足预设要求。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，包括：辐照源腔室、屏蔽体和辐照开口；所述辐照源腔室用于容纳不同尺寸的γ辐照源；所述辐照开口用于准直出射所述γ辐照源发射的γ射线；
所述辐照源腔室位于所述屏蔽体的中心位置；所述辐照开口贯穿所述屏蔽体，且与所述辐照源腔室连通；
所述辐照开口出射的γ射线的均匀性和散射特性满足预设要求。


2.根据权利要求1所述的新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，所述辐照开口背离所述辐照源腔室的一侧为第一开口，所述屏蔽体与所述第一开口的连接处表面为第一表面，所述第一表面平行于所述第一开口。


3.根据权利要求2所述的新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，所述辐照源腔室呈圆柱形；所述圆柱形的底面与所述辐照开口的中心轴平行；所述第一表面以及所述辐照源腔室均沿所述辐照开口的中心轴对称分布。


4.根据权利要求3所述的新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，所述辐照源腔室与所述辐照开口连通的侧壁高度H满足：10mm≤H≤30mm；所述辐照源腔室的底面的直径D满足：8mm≤D≤20mm。


5.根据权利要求4所述的新型便携式γ辐照准直器，其特征在于，所述屏蔽体还包括第二表面；所述第二表面与所述第一表面连接；所述第二表面呈球形；且所述球形的圆心与所述辐照源腔室的中心重合；所述球形的半径R满足：R≥35mm。

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【专利技术属性】
技术研发人员：赵超，何林锋，陆小军，李德红，王遥，
申请(专利权)人：上海市计量测试技术研究院，
类型：发明
国别省市：上海;31