一种磁瓦内弧面检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种磁瓦内弧面检测装置，包括：第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，第一检测组件设置为两组，包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测；第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源，第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测；第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源，第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。本实用新型专利技术的磁瓦内弧面检测装置，从不同角度对内弧面进行检测，覆盖了内弧面位置产生的各种位置的开裂、杂质、掉角等缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种磁瓦内弧面检测装置
本技术涉及视觉检测装置的
，特别是涉及一种磁瓦内弧面检测装置。
技术介绍
目前应用在磁瓦内表面检测的视觉检测光学方案存在光源结构单一、成像质量较差、图像中缺陷对比度较低的问题：对于磁瓦内表面常见的开裂、杂质、掉角等缺陷，目前常见的光学方案无法采集出高对比度的图像，缺陷部位和非缺陷部位灰度值相近，使得对应的图像检测算法收到了严重制约。总之，较差的图像造成了缺陷信息的丢失，严重影响了缺陷检测算法的准确率。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种磁瓦内弧面检测装置。为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：一种磁瓦内弧面检测装置，设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测，包括：所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，所述第一检测组件设置为两组，包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源，所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测；所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源，所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。在本技术一个较佳实施例中，两组所述第一检测支架分别设置于所述传送带的两侧，且设置于所述传送带的上方；所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合。在本技术一个较佳实施例中，两组所述第一检测光源为通过第一光源支架设置于所述传送带两侧的第一条形光源。在本技术一个较佳实施例中，所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合，所述第二检测光源为通过第二光源支架设置于所述传送带一侧的第二条形光源。在本技术一个较佳实施例中，所述第三检测相机活动设置于所述第三检测支架上并与所述第三检测光源配合，所述第三检测光源为通过第三光源支架设置于所述传送带正上方的第三大碗光源。本技术的有益效果是：磁瓦放置于传送带上并随之依次经过第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，以对磁瓦的外弧面、内弧面、边面以及端面进行拍照取像，采集出所有内弧面缺陷的高对比度图像，替代人工检测，以提高磁瓦检测准确率和检测效率，并同时提高自动化程度以利于生产效率的提高。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本技术的一种磁瓦内弧面检测装置的结构示意图。具体实施方式下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1，本技术一种磁瓦内弧面检测装置，设置于传送带4的两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测，所述检测装置包括第一检测组件1、第二检测组件2以及第三检测组件3，所述第一检测组件设置为两组，包括第一检测支架11、第一检测相机12以及第一检测光源13，所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测；所述第二检测组件2包括第二检测支架21、第二检测相机22以及第二检测光源23，所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测；所述第三检测组件3包括第三检测支架31、第三检测相机32以及第三检测光源33，所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。进一步的，两组第一检测支架11分别设置于所述传送带4的两侧，且设置于传送带的上方，所述第一检测相机12活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源13配合，具体的，两组第一检测光源为通过第一光源支架设置于所述传送带两侧的第一条形光源，两侧的第一条形光源通常采用蓝色条光，配合顶部的第一检测相机对磁瓦内弧面两端及弧面弓高进行检测；通过两侧倾斜打光，形成内倒角亮场、内弧面暗场，通过亮场和暗场相交处的高对比度，主要拍摄检测内弧面掉角、内弧面两侧弓高位置开裂，表面积大深度浅的杂质。进一步的，第二检测相机22活动设置于所述第二检测支架21上并与第二检测光源23配合，所述第二检测光源为通过第二光源支架设置于所述传送带一侧的第二条形光源，侧面第二条形光源通常采用蓝色条光，配合第二检测相机对三分之一个内弧面进行检测；通过侧面打光的方式主要拍摄检测磁瓦内弧面横向开裂、表面积小深度大的杂质以及面积较大的掉角。进一步的，第三检测相机32活动设置于所述第三检测支架31上并与第三检测光源33配合，所述第三检测光源为通过第三光源支架设置于传送带正上方的第三大碗光源，顶部的第三大碗光源配合第三检测相机对磁瓦内弧面整体进行检测；通过内弧面均匀打光，主要拍摄检测磁瓦内弧面杂质、内弧面两侧弓高位置的开裂，通过以上三个工位检测组件的互相配合，从不同角度对内弧面进行拍摄检测，覆盖了内弧面产生的各种位置的开裂、杂质、掉角等缺陷，可以得到高对比度的缺陷图像。本技术一种磁瓦内弧面检测装置的有益效果是：磁瓦放置于传送带上并随之依次经过第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，以对磁瓦的外弧面、内弧面、边面以及端面进行拍照取像，采集出所有内弧面缺陷的高对比度图像，替代人工检测，以提高磁瓦检测准确率和检测效率，并同时提高自动化程度以利于生产效率的提高。以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁瓦内弧面检测装置，设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测，其特征在于，包括：所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，所述第一检测组件设置为两组，包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源，所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测；所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源，所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁瓦内弧面检测装置，设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测，其特征在于，包括：所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件，所述第一检测组件设置为两组，包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源，所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测；所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源，所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。


2.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面检测装置，其特征在于，两组所述第一检测支架分别设置于所述传送带的两侧，且设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟，
申请(专利权)人：苏州香农智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32