一种磁瓦内弧面检测装置制造方法及图纸

技术编号:25687656 阅读:32 留言:0更新日期:2020-09-18 21:00
本实用新型专利技术公开了一种磁瓦内弧面检测装置,包括:第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件,第一检测组件设置为两组,包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测;第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源,第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测;第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源,第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。本实用新型专利技术的磁瓦内弧面检测装置,从不同角度对内弧面进行检测,覆盖了内弧面位置产生的各种位置的开裂、杂质、掉角等缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种磁瓦内弧面检测装置
本技术涉及视觉检测装置的
,特别是涉及一种磁瓦内弧面检测装置。
技术介绍
目前应用在磁瓦内表面检测的视觉检测光学方案存在光源结构单一、成像质量较差、图像中缺陷对比度较低的问题:对于磁瓦内表面常见的开裂、杂质、掉角等缺陷,目前常见的光学方案无法采集出高对比度的图像,缺陷部位和非缺陷部位灰度值相近,使得对应的图像检测算法收到了严重制约。总之,较差的图像造成了缺陷信息的丢失,严重影响了缺陷检测算法的准确率。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种磁瓦内弧面检测装置。为解决上述技术问题,本技术采用的一个技术方案是:一种磁瓦内弧面检测装置,设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测,包括:所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件,所述第一检测组件设置为两组,包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测;所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源,所述第二检测组件用于对所述磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁瓦内弧面检测装置,设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测,其特征在于,包括:所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件,所述第一检测组件设置为两组,包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测;所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源,所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测;所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源,所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁瓦内弧面检测装置,设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测,其特征在于,包括:所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件,所述第一检测组件设置为两组,包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测;所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源,所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测;所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源,所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。


2.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面检测装置,其特征在于,两组所述第一检测支架分别设置于所述传送带的两侧,且设置...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟
申请(专利权)人:苏州香农智能科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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