【技术实现步骤摘要】
一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置
本技术涉及真空蒸镀装置,具体为一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置。
技术介绍
真空蒸镀主要以蒸发和溅射两种方式,常见的以电子束蒸镀、磁控溅射、真空离子蒸发等高真空镀膜装置为主。蒸发镀膜一般是加热镀膜材料使之气化,在基片表面凝聚成膜。对于溅射类镀膜,在真空腔体利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,形成薄膜。如电子束蒸镀、磁控溅射蒸镀过程中会产生较大的热量,若冷却不足,这种热量将使真空腔内温度急剧升高,影响镀膜质量。现有的真空蒸镀装置不具有良好的冷却效果,过快或过慢都容易损坏材料和坩埚,为解决这一问题设计了一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置,解决了现有的真空蒸镀装置不具有良好冷却效果的问题。为实现以上目的,本技术通过以下技术方案予以实现:一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置,包括基板(1)、材料仓(2)和降温腔,其特征在于: ...
【技术保护点】
1.一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置,包括基板(1)、材料仓(2)和降温腔(3),其特征在于:/n所述基板(1)的内部开设有材料仓(2),所述基板(1)的内部材料仓周围开设有降温腔(3),所述基板(1)的底部设置有第一降温管(4)、第二降温管(5)和第三降温管(6),三个降温管结构相同;所述降温腔(3)底部开设三个与降温管相适配的开孔,降温管能够插入这个开孔,与降温腔内部联通;/n所述第一降温管(4)、第二降温管(5)和第三降温管(6)的外表面均设置有一层隔温管(13),在隔温管的两侧均开设有固定槽(7),所述固定槽(7)的内部固定连接有固定环(8),固定环(8)卡入固定槽 ...
【技术特征摘要】
1.一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置,包括基板(1)、材料仓(2)和降温腔(3),其特征在于:
所述基板(1)的内部开设有材料仓(2),所述基板(1)的内部材料仓周围开设有降温腔(3),所述基板(1)的底部设置有第一降温管(4)、第二降温管(5)和第三降温管(6),三个降温管结构相同;所述降温腔(3)底部开设三个与降温管相适配的开孔,降温管能够插入这个开孔,与降温腔内部联通;
所述第一降温管(4)、第二降温管(5)和第三降温管(6)的外表面均设置有一层隔温管(13),在隔温管的两侧均开设有固定槽(7),所述固定槽(7)的内部固定连接有固定环(8),固定环(8)卡入固定槽内,所述固定环(8)和基板(1)的内部均开设有螺丝孔,所述螺丝孔的内部螺纹连接有螺丝钉(9),所述固定环(8)通过螺丝钉(9)与基板(1)固定连接,所述固定环(8)与基板(1)接触面设有凹槽,所述凹槽的内部有密封垫...
【专利技术属性】
技术研发人员:鲁朝宇,张丽娟,邓荣斌,段尧,马兴民,方江璨,高思博,
申请(专利权)人:云南北方奥雷德光电科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:云南;53
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