显示基板及其制备方法技术

提供了一种显示基板及其制备方法，该显示基板的制备方法包括：在衬底之上形成像素支撑层；在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；移除所述掩膜版；去除所述像素支撑层；以解决由于像素支撑层导致的显示基板出现多暗点不良的问题。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法
本专利技术涉及触控
，具体涉及一种显示基板及其制备方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称：OLED)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、低功耗、宽色域、轻薄化、可异形化等优点。随着显示技术的不断发展，OLED技术越来越多的应用于柔性显示和透明显示中。透明显示是显示技术的一个重要分支，是指在透明状态下进行图像显示，观看者不仅可以看到显示装置中的影像，而且可以看到显示装置背后的景象，可实现虚拟现实/增强现实(VirtualReality/AugmentedReality，VR/AR)和3D显示功能。目前，有机发光二极管显示基板的显示区域容易出现多暗点不良的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法，以解决由于像素支撑层导致的显示基板出现多暗点不良的问题。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：在衬底之上形成像素支撑层；r>在所述像素支撑层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：/n在衬底之上形成像素支撑层；/n在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；/n移除所述掩膜版；/n去除所述像素支撑层。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底之上形成像素支撑层；
在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；
移除所述掩膜版；
去除所述像素支撑层。


2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，去除所述像素支撑层之后，还包括：
在所述发光结构层上形成封装层。


3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在衬底之上形成像素支撑层，包括：
在所述衬底之上沉积光刻胶薄膜；
通过光源照射，使所述光刻胶薄膜的部分区域形成曝光区域，使所述光刻胶薄膜另一部分区域形成未曝光区域；
通过显影工艺，将所述未曝光区域的光刻胶薄膜去除，将所述曝光区域的光刻胶薄膜保留，所述曝光区域的光刻胶薄膜形成所述像素支撑层。


4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素支撑层的材料采用负性感光光刻胶。


5.根据权利要求4所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素支撑层的竖截面呈倒梯形。


6.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述发光结构层在所述像素支撑层处断裂，使所述像素支撑层至少一侧的侧壁暴露。


7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，去除所述像素支撑层，包括：
将所述像素支撑层浸入剥离液中，使所述剥离液与所述像素支撑层暴露的侧壁接触，将所述像素支撑层从所述衬底之上剥离。

【专利技术属性】
技术研发人员：郝艳军，屈财玉，李彦松，杜小波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11