一种等离子割炬保护气气流的结构制造技术

技术编号:25636840 阅读:38 留言:0更新日期:2020-09-15 21:29
本实用新型专利技术公开了一种等离子割炬保护气气流的结构,包括割炬本体和套设于割炬本体一端的喷嘴;割炬本体的外侧设有用于固定喷嘴的内固定罩;喷嘴上套设有保护气筛;喷嘴的外侧设有保护帽;内固定罩的外侧设有用于固定保护帽的外固定罩;割炬本体的中部设有连通喷嘴的进气通道。本实用新型专利技术设置了保护气筛,并且在保护气筛的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔,保护气体从内固定罩气孔流出后,气体膨胀,在内固定罩外侧、外固定罩内壁形成的储气腔内混合均匀,再经过保护气筛圆周侧壁上的通孔,形成多股不指向圆心的单向气流,此气流可围绕喷嘴旋转,旋转的气流具有更小的紊流以及更高的流速,减少飞溅,从而保证了使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子割炬保护气气流的结构
本技术涉及割炬
,尤其是涉及一种等离子割炬保护气气流的结构。
技术介绍
等离子弧焊炬被广泛地应用于金属材料的切割,等离子弧焊炬通常包括割炬本体,切割易损件例如电极、喷嘴以及保护帽等。等离子切割时需要用到两种气体,分别是等离子气和保护气,等离子气用于压缩等离子弧,提高等离子弧的强度从而切割板材;保护气用于冷却易损件(喷嘴、保护帽)以及吹走切割时的飞溅物,提高易损件寿命。现有技术是保护气通过割炬主体内部的管路,直接喷射到喷嘴与保护帽之间,然后从喷嘴与保护帽之间的空隙射出,由于割炬主体上保护气体出口通常是仅有一处,保护气体在喷嘴与保护帽之间的分布不均匀,从喷嘴与保护帽之间的圆环空隙射出后的压力及速度不均匀。导致某些地方特别容易粘上飞溅物,影响切割质量以及切割寿命。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的不足之处而提出一种等离子割炬保护气气流的结构。实现本技术目的的技术方案是:一种等离子割炬保护气气流的结构,包括割炬本体和套设于割炬本体一端的喷嘴;所述割炬本体的外侧设有用于固定喷嘴的内固定罩;所述喷嘴上套设有保护气筛;所述喷嘴的外侧设有保护帽;所述内固定罩的外侧设有用于固定保护帽的外固定罩;所述割炬本体的中部设有连通喷嘴的进气通道;所述内固定罩的外周面上均布有若干贯穿割炬本体与进气通道连通的出气孔;所述内固定罩、外固定罩、保护帽以及保护气筛之间形成储气腔;所述喷嘴、保护气筛以及保护帽之间形成出气通道;所述保护气筛的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔。<br>喷嘴的外壁上设有用于与保护气筛定位的台阶。所述保护气筛由耐高温、低膨胀系数、绝缘性良好的高分子材料制成。所述喷嘴与内固定罩的接触部设有第一密封圈。所述外固定罩与保护帽的接触部设有第二密封圈。采用了上述技术方案,本技术具有以下的有益效果:(1)本技术设置了保护气筛,并且在保护气筛的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔,保护气体经割炬主体内部的进气通道以及内固定罩圆周上的出气孔,流到内固定罩外侧、外固定罩内壁形成储气腔内,再经过保护气筛上的通孔,射到喷嘴与保护帽之间的出气通道,最终从保护帽孔喷出,保护气体从内固定罩气孔流出后,气体膨胀,在内固定罩外侧、外固定罩内壁形成的储气腔内混合均匀,再经过保护气筛圆周侧壁上的通孔,形成多股不指向圆心的单向气流,此气流可围绕喷嘴旋转,旋转的气流具有更小的紊流以及更高的流速,减少飞溅,从而保证了使用寿命,而且喷嘴与保护帽都是易损件,需要经常替换,而本申请的保护气筛可以与喷嘴和保护帽脱离开,可以重复使用,提高了使用寿命,降低加工成本。(2)本技术的喷嘴的外壁上设有用于与保护气筛定位的台阶,便于保护气筛的安装。(3)本技术的保护气筛由耐高温、低膨胀系数、绝缘性良好的高分子材料制成,保证其使用寿命。(4)本技术设置了第一密封圈,保证了喷嘴与内固定罩之间的密封性。(5)本技术设置了第二密封圈,保证了外固定罩与保护帽之间的密封性。附图说明为了使本技术的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本技术作进一步详细的说明,其中图1为本技术的结构示意图。图2为本技术保护气筛的结构示意图。图3为图2的剖视图。附图中的标号为:割炬本体1、喷嘴2、台阶2-1、内固定罩3、出气孔3-1、保护气筛4、通孔4-1、保护帽5、外固定罩6、储气腔7、出气通道8、第一密封圈9、第二密封圈10。具体实施方式(实施例1)见图1至图3,本实施例的等离子割炬保护气气流的结构,包括割炬本体1和套设于割炬本体1一端的喷嘴2。割炬本体1的外侧设有用于固定喷嘴2的内固定罩3。喷嘴2上套设有保护气筛4。喷嘴2的外侧设有保护帽5。内固定罩3的外侧设有用于固定保护帽5的外固定罩6。割炬本体1的中部设有连通喷嘴2的进气通道。内固定罩3的外周面上均布有若干贯穿割炬本体1与进气通道连通的出气孔3-1。内固定罩3、外固定罩6、保护帽5以及保护气筛4之间形成储气腔7。喷嘴2、保护气筛4以及保护帽5之间形成出气通道8。保护气筛4的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔4-1。进一步的,喷嘴2的外壁上设有用于与保护气筛4定位的台阶2-1,以便保护气筛4的定位安装。进一步的,保护气筛4由耐高温、低膨胀系数、绝缘性良好的高分子材料制成,优选为聚酰亚胺。进一步的,喷嘴2与内固定罩3的接触部设有第一密封圈9,以保证喷嘴2与内固定罩3之间的密封性。进一步的,外固定罩6与保护帽5的接触部设有第二密封圈10,以保证外固定罩6与保护帽5之间的密封性。本实施例设置了保护气筛4,并且在保护气筛4的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔4-1,保护气体经割炬主体1内部的进气通道以及内固定罩3圆周上的出气孔3-1,流到内固定罩3外侧、外固定罩6内壁形成储气腔7内,再经过保护气筛4上的通孔,射到喷嘴2与保护帽5之间的出气通道8,最终从保护帽孔5喷出,保护气体从内固定罩3气孔流出后,气体膨胀,在内固定罩3外侧、外固定罩6内壁形成的储气腔7内混合均匀,再经过保护气筛4圆周侧壁上的通孔4-1,形成多股不指向圆心的单向气流,此气流可围绕喷嘴2旋转,旋转的气流具有更小的紊流以及更高的流速,减少飞溅,从而保证了使用寿命,而且喷嘴2与保护帽5都是易损件,需要经常替换,而本申请的保护气筛4可以与喷嘴2和保护帽5脱离开,可以重复使用,提高了使用寿命,降低加工成本。以上所述的具体实施例,对本技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本技术的具体实施例而已,并不用于限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子割炬保护气气流的结构,其特征在于:包括割炬本体(1)和套设于割炬本体(1)一端的喷嘴(2);所述割炬本体(1)的外侧设有用于固定喷嘴(2)的内固定罩(3);所述喷嘴(2)上套设有保护气筛(4);所述喷嘴(2)的外侧设有保护帽(5);所述内固定罩(3)的外侧设有用于固定保护帽(5)的外固定罩(6);所述割炬本体(1)的中部设有连通喷嘴(2)的进气通道;所述内固定罩(3)的外周面上均布有若干贯穿割炬本体(1)与进气通道连通的出气孔(3-1);所述内固定罩(3)、外固定罩(6)、保护帽(5)以及保护气筛(4)之间形成储气腔(7);所述喷嘴(2)、保护气筛(4)以及保护帽(5)之间形成出气通道(8);所述保护气筛(4)的外周面沿周向均布有若干轴线不指向圆心的通孔(4-1)。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子割炬保护气气流的结构,其特征在于:包括割炬本体(1)和套设于割炬本体(1)一端的喷嘴(2);所述割炬本体(1)的外侧设有用于固定喷嘴(2)的内固定罩(3);所述喷嘴(2)上套设有保护气筛(4);所述喷嘴(2)的外侧设有保护帽(5);所述内固定罩(3)的外侧设有用于固定保护帽(5)的外固定罩(6);所述割炬本体(1)的中部设有连通喷嘴(2)的进气通道;所述内固定罩(3)的外周面上均布有若干贯穿割炬本体(1)与进气通道连通的出气孔(3-1);所述内固定罩(3)、外固定罩(6)、保护帽(5)以及保护气筛(4)之间形成储气腔(7);所述喷嘴(2)、保护气筛(4)以及保护帽(5)之间形成出气通道(8);所述保护气筛(4)的外周面沿周向均布...

【专利技术属性】
技术研发人员:王新霞沈健周建山
申请(专利权)人:常州特尔玛枪嘴有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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