接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件技术

本发明专利技术涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。本发明专利技术目的是提供形成微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法，该微细图案作为ITO的替代发挥功能，不会伴有敏感电极的透视、光反射等的问题，且抑制了与导电布线间的断线、导通不良。本发明专利技术提供接触式传感器用构件的制造方法，其具备：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在显示区域和装饰区域上涂布感光性导电糊剂，得到导电涂布膜；和导电图案形成工序：对显示区域上的导电涂布膜和装饰区域上的导电涂布膜一并曝光和显影，进而以100~250℃加热或照射氙闪光管的光，得到导电图案，显示区域上的导电图案线宽为2~6μm，装饰区域上的导电图案线宽为7~100μm。

【技术实现步骤摘要】
接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件本申请是国际申请日为2014年12月9日的专利技术名称为“接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件”、国家申请号为201480067563.0的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。
技术介绍
常被组装至手机、便携信息终端（PDA）等仪器中的触控面板大致分类时，包含液晶面板之类的显示装置和接触式传感器之类的位置输入装置。并且，接触式传感器主要由形成于显示区域的敏感电极和配置在显示区域周边的装饰区域的导电布线构成。作为敏感电极，为了不妨碍显示部的可视性而广泛使用透明度高的氧化铟锡（以下记作“ITO”）。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-924号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，成为ITO原料的铟是昂贵的稀土金属，其供给不稳定。另外，由于导电性较低，对于用作电子黑板等中组装的大型触控面板的敏感电极而言，还存在导电性过低的问题。出于这样的情况，正在探索ITO的替代物质，例如开发了使用贵金属的材料（专利文献1）等，但将其应用于触控面板时，会产生贵金属特有的光反射、与其相伴而产生敏感电极的透视，显示部的可视性降低。另外，形成于接触式传感器的显示区域的ITO与配置于其周边的装饰区域的导电布线还存在如下问题：ITO与导电布线所使用的材料之间的密合不良；由于在ITO的图案形成工序与配置于装饰区域的导电布线的形成工序之间增加加热工序、其它材料的层叠工序等各种工序，因此频发如下不良情况：由于热收缩导致的位置偏移、表面残留化学溶液、物理刺激，连接性变差、断线、导通不良等。因此，现状是期望全新的ITO替代技术。因而，本专利技术的目的在于，提供形成有显示区域的敏感电极（微细的导电图案）的接触式传感器用构件及其制造方法，所述敏感电极作为ITO的替代而发挥功能，不会伴有显示区域的敏感电极的透视、光反射之类的问题，且抑制了其与装饰区域的导电布线（导电图案）之间的断线、导通不良，连接性优异。用于解决问题的手段为了解决上述课题，本专利技术提供以下（1）~（7）所述的接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。（1）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。（2）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：遮光涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上涂布感光性遮光糊剂，从而得到遮光涂布膜；导电涂布膜形成工序：在遮光涂布膜形成工序后，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，遮光层和导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述遮光涂布膜和上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到遮光层和导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。（3）根据上述（1）或（2）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分与上述装饰区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分是相同的。（4）根据上述（1）~（3）中任一项所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜的组成与上述装饰区域上的上述导电涂布膜的组成是相同的。（5）根据上述（4）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，在上述导电涂布膜形成工序中，在上述显示区域上和上述装饰区域上一并涂布感光性导电糊剂。（6）接触式传感器用构件，其具备：被区分成显示区域和装饰区域的基板；在上述显示区域上形成的、线宽为2~6μm的导电图案；以及，在上述装饰区域上形成的、线宽为7~100μm的导电图案，上述线宽为2~6μm的导电图案的组成与上述线宽为7~100μm的导电图案的组成是相同的。（7）根据上述（6）所述的接触式传感器用构件，其中，上述显示区域与上述线宽为2~6μm的导电图案之间具有遮光层。专利技术的效果根据本专利技术的接触式传感器用构件的制造方法，能够在接触式传感器的显示区域上形成微细的导电图案，进而在形成该导电图案的同时，能够抑制断线、导通不良，并在装饰区域上一并形成连接性极好的导电布线，所述导电图案作为ITO的替代而发挥功能，且不会伴有显示区域的敏感电极的透视、光反射之类的问题。另外，通过一并形成而能够有助于生产率的提高。具体实施方式本专利技术的第一方式中的接触式传感器用构件的制造方法的特征在于，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜和上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。本专利技术所具备的导电涂布膜形成工序中，作为涂布感光性导电糊剂的基板，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜（以下记作“PET薄膜”）、聚酰亚胺膜、聚酯膜或芳纶膜等膜；环氧树脂基板、聚醚酰亚胺树脂基板、聚醚酮树脂基板、聚砜系树脂基板、碱性玻璃基板、无碱玻璃基板、或者玻璃·环氧树脂复合基板的玻璃板、硅晶片、氧化铝基板、氮化铝基板或碳化硅基板，优选为膜或玻璃板。另外，这些基板的表面可以被绝缘层或图案或装饰层覆盖。作为玻璃基板的玻璃，优选为实施了强化处理的强化玻璃。此处，作为强化玻璃，可列举出例如：对玻璃表面层的分子进行离子交换而在玻璃表面形成大分子，在玻璃表面层形成了压缩应力的化学强化玻璃；或者，将玻璃加热至残留有残留应力的温度后进行骤冷，在玻璃表面层形成了压缩应力的物理强化玻璃。基板可以是连续的长条基板。为长条基板时，可以使用例如卷对卷法或者辊对辊法来制造图案。使用辊对辊法等方式时，若以照射光为中央而在其前面和背面并排配置基板，则能够一次获得多条线，是有效的。基板的装饰区域是指与接触式传感器中的边缘部分相当的区域。基板的装饰区域可以形成由白色或黑色等的树脂构成的装饰层，装饰层的表面可以进一步被钼等的金属薄膜覆盖。另外，基板的显示区域和/或装饰区域可以形成由透明树脂等构成的绝缘层。装饰区域形成有装饰层时，装饰区域与显示区域的边界产生高度差，因此对装饰区域和显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：/n对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在所述装饰区域上形成装饰层的工序；/n导电涂布膜形成工序：在所述显示区域上和所述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及/n导电图案形成工序：对所述显示区域上的所述导电涂布膜和所述装饰区域上的所述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，/n所述显示区域上的所述导电图案的线宽为2~6μm，/n所述装饰区域上的所述导电图案的线宽为7~100μm。/n

【技术特征摘要】
20131212 JP 2013-256645;20140314 JP 2014-0512621.接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：
对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在所述装饰区域上形成装饰层的工序；
导电涂布膜形成工序：在所述显示区域上和所述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及
导电图案形成工序：对所述显示区域上的所述导电涂布膜和所述装饰区域上的所述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，
所述显示区域上的所述导电图案的线宽为2~6μm，
所述装饰区域上的所述导电图案的线宽为7~100μm。


2.接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：
对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在所述装饰区域上形成装饰层的工序；
遮光涂布膜形成工序：在所述显示区域上涂布感光性遮光糊剂，从而得到遮光涂布膜；
导电涂布膜形成工序：在遮光涂布膜形成工序后，在所述显示区域上和所述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及
遮光层和导电图案形成工序：对所述显示区域上的所述遮光涂布膜和所述导电涂布膜与所述装饰区域上的所述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以1...

【专利技术属性】
技术研发人员：田边美晴，田中明彦，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP