波长转换系统和加工方法技术方案

波长转换系统具有：A.第1非线性光学晶体，其被输入处于第1偏振状态且具有第1波长的第1脉冲激光和处于第2偏振状态且具有第2波长的第2脉冲激光，由此输出第1和频光以及第2脉冲激光，该第1和频光处于第2偏振状态且具有通过第1波长和第2波长的和频混合而生成的第3波长；以及B.第2非线性光学晶体，其被输入从第1非线性光学晶体输出的第1和频光和第2脉冲激光，由此输出具有第4波长的第3脉冲激光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】波长转换系统和加工方法
本公开涉及波长转换系统和加工方法。
技术介绍
随着半导体集成电路的微细化和高集成化，在半导体曝光装置中要求分辨率的提高。下面，将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此，从曝光用光源输出的光的短波长化得以发展。在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。当前，作为曝光用激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193.4nm的紫外线的ArF准分子激光装置。作为当前的曝光技术，如下的液浸曝光已经实用化：利用液体充满曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙，通过改变该间隙的折射率，使曝光用光源的外观上的波长变短。在使用ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被称为ArF液浸光刻。KrF、ArF准分子激光装置的自然振荡中的谱线宽度较宽，大约为350～400pm，因此，通过曝光装置侧的投影透镜缩小地投影到晶片上的激光(紫外线光)产生色像差，分辨率降低。因此，需要将从气体激光装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种波长转换系统，其具有：/nA.第1非线性光学晶体，其被输入处于第1偏振状态且具有第1波长的第1脉冲激光和处于第2偏振状态且具有第2波长的第2脉冲激光，由此输出第1和频光以及所述第2脉冲激光，该第1和频光处于第2偏振状态且具有通过所述第1波长和所述第2波长的和频混合而生成的第3波长；以及/nB.第2非线性光学晶体，其被输入从所述第1非线性光学晶体输出的所述第1和频光和所述第2脉冲激光，由此输出具有第4波长的第3脉冲激光。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种波长转换系统，其具有：
A.第1非线性光学晶体，其被输入处于第1偏振状态且具有第1波长的第1脉冲激光和处于第2偏振状态且具有第2波长的第2脉冲激光，由此输出第1和频光以及所述第2脉冲激光，该第1和频光处于第2偏振状态且具有通过所述第1波长和所述第2波长的和频混合而生成的第3波长；以及
B.第2非线性光学晶体，其被输入从所述第1非线性光学晶体输出的所述第1和频光和所述第2脉冲激光，由此输出具有第4波长的第3脉冲激光。


2.根据权利要求1所述的波长转换系统，其中，
所述第1非线性光学晶体和所述第2非线性光学晶体是CLBO晶体。


3.根据权利要求1所述的波长转换系统，其中，
所述第2波长大于所述第1波长，所述第1波长大于所述第3波长，所述第3波长大于所述第4波长。


4.根据权利要求3所述的波长转换系统，其中，
所述第1波长为257.5nm，
所述第2波长处于1549nm以上且1557nm以下的范围内，
所述第3波长处于220.80nm以上且220.96nm以下的范围内，
所述第4波长处于193.25nm以上且193.50nm以下的范围内。


5.根据权利要求1所述的波长转换系统，其中，
所述第4波长是通过所述第2波长和所述第3波长的和频混合而生成的。


6.根据权利要求1所述的波长转换系统，其中，
所述第1偏振状态和所述第2偏振状态是偏振方向与由非线性光学晶体的光学轴和入射光的光路轴定义的面平行或垂直的线偏振，且所述第1偏振状态的偏振方向和所述第2偏振状态的偏振方向相互垂直相互垂直。


7.根据权利要求1所述的波长转换系统，其中，
所述第1非线性光学晶体具有类型-2的相位匹配条件，所述第2非线性光学晶体具有类型-1的相位匹配条件。


8.一种波长转换系统，其具有：
A.第1非线性光学晶体，其被输入处于第1偏振状态且具有第1波长的第1脉冲激光和处于第1偏振状态且具有第2波长的第2脉冲激光，由此输出第1和频光以及所述第2脉冲激光，该第1和频光处于第2偏振状态且具有通过所述第1波长和所述第2波长的和频混合而生成的第3波长；
B.波长板，其被输入从所述第1非线性...

【专利技术属性】
技术研发人员：曲晨，小林洋平，赵智刚，五十岚裕纪，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，国立大学法人东京大学，
类型：发明
国别省市：日本;JP