显示基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:25603189 阅读:11 留言:0更新日期:2020-09-11 23:59
本公开提供一种显示基板及显示装置,其中,显示基板包括:低像素密度区,所述低像素密度区包括发光层以及设置于所述发光层的出光方向一侧的变色结构;所述变色结构包括电致变色层,所述电致变色层上设置有与所述发光层的发光单元位置上下对应的变色单元,所述变色单元在所述显示基板显示图像时呈透明状态,在通过所述低像素密度区采集图像时,在所述变色单元表面形成反射面,通过所述反射面将由外界入射至所述发光单元并被所述发光单元反射的光线再反射至设置于背离所述发光层发光方向的图像采集器,该显示基板可增强屏下图像采集器的进光量,提高成像质量。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及显示装置
本公开涉及显示
,尤其涉及一种显示基板及显示装置。
技术介绍
在屏下摄像头技术中,通常可采用降低摄像头所在区域的分辨率来增加OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机电激光显示)显示面板的透过率,但由于对显示面板显示功能的需求,低分辨区(即低PPI(PixelsPerInch,像素密度)区域)仍需保留一定数量的显示单元。在采集图像时,由外界入射到低PPI区域的很大一部分光线被发光单元的阳极等金属层遮挡,造成入射到图像采集器的光强显著降低,物面到像面的传递信息出现丢失和衰减,导致成像质量降低的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本公开提供一种显示基板及显示装置,以解决相关技术中,在显示屏的低像素区域中,由于入射到屏下图像采集器中的光强降低,导致采集的图像质量降低的问题。本公开的一个或多个实施例提供了一种显示基板,包括:低像素密度区,所述低像素密度区包括发光层以及变色结构;所述变色结构设置于所述发光层的出光方向一侧;所述变色结构包括电致变色层,所述电致变色层上设置有与所述发光层的发光单元位置上下对应的变色单元,所述变色单元在所述显示基板显示图像时呈透明状态,在通过所述低像素密度区采集图像时,在所述变色单元表面形成反射面,通过所述反射面将由外界入射至所述发光单元并被所述发光单元反射的光线再反射至设置于背离所述发光层发光方向的图像采集器。可选的,所述变色结构还包括位置相对的第一透明基底以及第二透明基底,所述第一透明基底以及所述第二透明基底的边缘密封连接,形成一个密封的腔体。可选的,所述变色单元为设置于所述第一透明基底或所述第二透明基底朝向所述腔体的一面的透明电极,所述发光单元在所述透明电极所在的平面上的正投影覆盖所述透明电极,所述腔体内设置有银离子以及电解质。可选的,所述显示基板还包括封装层,所述封装层位于所述变色结构以及所述发光层之间。可选的,所述第一透明基底设置于靠近所述封装层的一侧,所述第二透明基底设置于远离所述封装层的一侧,所述透明电极设置于所述第一透明基底上。可选的,所述显示基板还包括封装层,所述变色结构位于所述封装层与发光层之间。可选的,所述透明电极的中部设置有通孔。可选的,所述透明电极的表面积为与其位置上下对应的发光单元的表面积的1/2。可选的,所述透明电极的表面光滑。本公开一个或多个实施例还提供了一种显示装置,包括如上述任意一种显示基板。从上面所述可以看出,在本公开的一个或多个实施例中,在显示基板的发光层的出光方向上设置有变色结构,变色结构中设置有与发光层的发光单元位置对应的变色单元,该变色单元可以在显示基板显示图像时,呈透明状态,使发光单元发出的光可正常通过变色结构,以实现显示功能,在通过低像素密度区采集图像时,在变色结构的变色单元表面形成反射面,将被发光单元遮挡的由外界入射的光线反射至图像采集器,以增强图像采集器的进光量,提高成像质量。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图;图2是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图;图3是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图;图4是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图;图5是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图;图6是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图。具体实施方式为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本公开进一步详细说明。需要说明的是,除非另外定义,本公开实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。图1是根据本公开一示例性实施例示出的一种显示基板的示意图,如图1所示,该显示基板包括:低像素密度区,所述低像素密度区包括发光层11以及变色结构13;所述变色结构13设置于所述发光层11的出光方向,其中,图1中所示的方向D为发光层11的出光方向的一个示例;所述变色结构13包括电致变色层,所述电致变色层上设置有与所述发光层的发光单元位置上下对应的变色单元131,所述变色单元131在所述显示基板显示图像时呈透明状态,在通过所述低像素密度区采集图像时,在所述变色单元131表面形成反射面,通过所述反射面将被入射至所述发光单元111并被所述发光单元111反射的光线再反射至设置于背离所述发光层111发光方向的图像采集器12。例如,发光单元可以由EL(ElectroLuminescence,电致发光器)材料实现,发光层上可设置有阵列排布的由不同颜色的EL材料制成EL发光单元,形成像素阵列。相应的,在变色结构的相应位置设置有阵列排布的变色单元,其中,在低像素密度区的像素阵列中,还可设置有透明区域,该透明显示区域在变色单元所在平面上的投影区域内并未设置变色单元。需要说明的是,由于低像素密度区需要实现显示以及图像采集两种功能,故,当通过低像素密度区采集图像,在变色单元表面形成反射面时,为了增加入射至发光单元阳极的光量,可将变色单元设置为镂空结构,以使得光线可通过变色单元镂空的部分入射到发光单元的阳极上。例如,发光单元在变色单元所在的平面上的投影区域可完全覆盖所述变色单元。在本公开的一个或多个实施例中,在显示基板的发光层的出光方向上设置有变色结构,变色结构中设置有与发光层的发光单元位置对应的变色单元,该变色单元可以在显示基板显示图像时,呈透明状态,使发光单元发出的光可正常通过变色结构,以实现显示功能,在通过低像素密度区采集图像时,在变色结构的变色单元表面形成反射面,将被发光单元遮挡的由外界入射的光线反射至图像采集器,以增强图像采集器的进光量,提高成像质量。在本公开的一个或多个实施例中,仍以图2所示的显示基板为例,所述变色结构包括位置相对的第一透明基底16以及第二透明基底15,所述第一透明基底16以及所述第二透明基底15的边缘密封连接,形成一个密封的腔体,所述密封腔体内设置有与所述发光单元111位置对应的变色单元131。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:/n低像素密度区,所述低像素密度区包括发光层以及设置于所述发光层的出光方向一侧的变色结构;/n所述变色结构包括电致变色层,所述电致变色层上设置有与所述发光层的发光单元位置上下对应的变色单元,所述变色单元在所述显示基板显示图像时呈透明状态,在通过所述低像素密度区采集图像时,在所述变色单元表面形成反射面,通过所述反射面将由外界入射至所述发光单元并被所述发光单元反射的光线再反射至设置于背离所述发光层发光方向的图像采集器。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
低像素密度区,所述低像素密度区包括发光层以及设置于所述发光层的出光方向一侧的变色结构;
所述变色结构包括电致变色层,所述电致变色层上设置有与所述发光层的发光单元位置上下对应的变色单元,所述变色单元在所述显示基板显示图像时呈透明状态,在通过所述低像素密度区采集图像时,在所述变色单元表面形成反射面,通过所述反射面将由外界入射至所述发光单元并被所述发光单元反射的光线再反射至设置于背离所述发光层发光方向的图像采集器。


2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述变色结构还包括位置相对的第一透明基底以及第二透明基底,所述第一透明基底以及所述第二透明基底的边缘密封连接,形成一个密封的腔体。


3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述变色单元为设置于所述第一透明基底或所述第二透明基底朝向所述腔体的一面的透明电极,所述发光单元在所述透明电极所在的平面上的正投影覆盖所述透明电极,所述腔体内设置有银离子以及电...

【专利技术属性】
技术研发人员:石博黄炜赟于池张瑜
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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