【技术实现步骤摘要】
显示模组、显示装置以及显示装置的指纹识别方法
本专利技术涉及显示领域,具体涉及一种显示模组、显示装置以及显示装置的指纹识别方法。
技术介绍
现有的显示模组通常集成指纹识别单元,例如光学指纹识别单元。其中,光学指纹识别单元的工作原理是自显示模组出射的光线在手指表面反射再次进入显示模组内被指纹识别单元接收。指纹识别单元能够根据手指纹路的纹谷与纹脊对光线反射的差异产生不同的识别信息,从而能够识别不同的手指纹路信息。现有技术中,在显示模组上设置的指纹识别单元形式单一,防假性能差。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示模组、显示装置以及显示装置的指纹识别方法,能够集成第一指纹识别模块和第二指纹识别模块,旨在提高显示模组的指纹识别模块的防假性能。一方面,本专利技术实施例提供一种显示模组,显示模组具有指纹识别区,显示模组包括:阵列基板,包括第一衬底;像素单元层,位于第一衬底上,像素单元层包括阵列设置的多个像素单元;第一指纹识别模块,位于指纹识别区且位于像素单元层背离第一衬底的一侧,第一指纹识别模块包括沿背离第一衬底的方向依次层叠设置且相互电连接的第一导电层和第二导电层,第一导电层与第二导电层的其中一者为金属导电层,第一导电层与第二导电层的另一者为透明导电层;第二指纹识别模块,位于指纹识别区且位于像素单元层背离第一指纹识别模块的一侧,第二指纹模块用于接收穿过第一指纹识别模块和像素单元层的光线。另一方面,本专利技术实施例提供一种显示装置,包括上述的显示模组。再一方面,本专利技 ...
【技术保护点】
1.一种显示模组,其特征在于,所述显示模组具有指纹识别区,所述显示模组包括:/n阵列基板,包括第一衬底;/n像素单元层,位于所述第一衬底上,所述像素单元层包括阵列设置的多个像素单元;/n第一指纹识别模块,位于所述指纹识别区且位于所述像素单元层背离所述第一衬底的一侧,所述第一指纹识别模块包括沿背离所述第一衬底的方向依次层叠设置且相互电连接的第一导电层和第二导电层,所述第一导电层与所述第二导电层的其中一者为金属导电层,所述第一导电层与所述第二导电层的另一者为透明导电层;/n第二指纹识别模块,位于所述指纹识别区且位于所述像素单元层背离所述第一指纹识别模块的一侧,所述第二指纹模块用于接收穿过所述第一指纹识别模块和所述像素单元层的光线。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示模组,其特征在于,所述显示模组具有指纹识别区,所述显示模组包括:
阵列基板,包括第一衬底;
像素单元层,位于所述第一衬底上,所述像素单元层包括阵列设置的多个像素单元;
第一指纹识别模块,位于所述指纹识别区且位于所述像素单元层背离所述第一衬底的一侧,所述第一指纹识别模块包括沿背离所述第一衬底的方向依次层叠设置且相互电连接的第一导电层和第二导电层,所述第一导电层与所述第二导电层的其中一者为金属导电层,所述第一导电层与所述第二导电层的另一者为透明导电层;
第二指纹识别模块,位于所述指纹识别区且位于所述像素单元层背离所述第一指纹识别模块的一侧,所述第二指纹模块用于接收穿过所述第一指纹识别模块和所述像素单元层的光线。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一导电层为金属导电层,所述第一导电层包括沿第一方向延伸且沿第二方向排列的多个第一导电单元和沿所述第二方向延伸且沿所述第一方向排列的多个第二导电单元,所述第一导电单元和所述第二导电单元的一者包括多个导电条,所述第一方向与所述第二方向交叉;
所述第二导电层为透明导电层,所述第二导电层包括沿所述第一方向延伸且沿所述第二方向排列的多个第一电极单元和沿所述第二方向延伸且沿所述第一方向排列的多个第二电极单元,所述第一电极单元和所述第二电极单元的一者包括多个电极块,
沿所述第一方向延伸且在所述第二方向位置对应的所述第一导电单元与所述第一电极单元相互电连接,沿所述第二方向延伸且在所述第一方向位置对应的所述第二导电单元与所述第二电极单元相互电连接。
3.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,沿所述第一方向延伸的所述第一电极单元和沿所述第二方向延伸的所述第二电极单元相互交叉形成多个电容单元,相邻所述电容单元之间的距离大于或等于150微米。
4.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述金属导电层在所述第一衬底上的正投影位于相邻的两个所述像素单元在所述第一衬底上的正投影之间。
5.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一指纹识别模块还包括绝缘层,所述绝缘层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间。
6.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,还包括:
保护层,位于所述第一指纹识别模块背离所述像素单元层的一侧,
所述保护层的厚度大于或等于0.3毫米。
7.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组具有显示区,所述显示区覆盖所述指纹识别区。
8.根据权利要求1至7任意一项所述的显示模组,其特征在于,所述第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:王林志,席克瑞,秦锋,彭旭辉,林柏全,
申请(专利权)人:上海天马微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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