一种软X射线光源装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种软X射线光源装置，包括用于控制激光的延时控制器及激光器，真空放电室、探测系统和高压直流电源。所述探测系统包括增强CCD和极紫外光谱仪，所述真空放电室位于所述激光器旁的一侧安装高透镜，所述延时控制器连接激光器，所述高透镜在同一水平面的旁侧依次安装有透镜、半反半透镜，所述激光器产生的激光直射于正下方的半反半透镜上，再经过所述透镜及高透镜聚焦所述真空放电室内的目标靶材，产生预电离等离子体，经过所述真空放电室内阴极与阳极之间高压放电，实现“水窗波”段软X射线输出。本实用新型专利技术可以获得较高功率的、稳定的软X射线输出，具有体积小，运行成本低的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种软X射线光源装置
本技术涉及软X射线光源
，特别涉及一种激光辅助放电机制“水窗”波段的软X射线光源装置。
技术介绍
基于“水窗”的软X射线近贴显微镜，被广泛应用于生物样品高精度成像，无需任何人工对比度增强(例如染色或脱水)，就可得到衬度很好的图像。同时，软X射线光子能量大，在样品内部的穿透长度非常接近细胞本身的典型厚度，从而能够以纳米空间分辨率成像几微米到几十微米的厚样品。要实现软X射线显微镜，需要高软X射线剂量才能获得高分辨率图像。为了获得清晰的SXR图像，必须用高光子速率短脉冲SXR照射生物细胞，这就对光源提出了较高的要求。激光辅助放电等离子体光源，采用激光打靶产生预电离等离子体，随后快脉冲、大电流放电，获得软X射线输出，具有体积小，运行成本低的优点。与本专利技术最为接近的已有技术，是中国的专利CN200410011194.1和CN200420012670.7，该专利直接采用激光打靶液体微流喷射靶和液滴靶的方式，获得软X射线。该软X射线光源存在的主要问题是：液滴靶与激光的同步比较困难，很难获得较高功率的、稳定的软X本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种软X射线光源装置，其特征在于，包括用于控制激光的延时控制器及激光器，真空放电室、探测系统和高压直流电源；/n所述探测系统包括增强CCD和极紫外光谱仪，所述真空放电室位于所述激光器旁的一侧安装高透镜，真空放电室前后两侧分别连接所述增强CCD和极紫外光谱仪，所述增强CCD再连接所述延时控制器，所述延时控制器连接激光器，所述高透镜在同一水平面的旁侧依次安装有透镜、半反半透镜，所述激光器产生的激光直射于正下方的半反半透镜上，再经过所述透镜及高透镜聚焦所述真空放电室内的目标靶材，产生预电离等离子体，经过所述真空放电室内阴极与阳极之间高压放电，实现“水窗波”段软X射线输出。/n

【技术特征摘要】
1.一种软X射线光源装置，其特征在于，包括用于控制激光的延时控制器及激光器，真空放电室、探测系统和高压直流电源；
所述探测系统包括增强CCD和极紫外光谱仪，所述真空放电室位于所述激光器旁的一侧安装高透镜，真空放电室前后两侧分别连接所述增强CCD和极紫外光谱仪，所述增强CCD再连接所述延时控制器，所述延时控制器连接激光器，所述高透镜在同一水平面的旁侧依次安装有透镜、半反半透镜，所述激光器产生的激光直射于正下方的半反半透镜上，再经过所述透镜及高透镜聚焦所述真空放电室内的目标靶材，产生预电离等离子体，经过所述真空放电室内阴极与阳极之间高压放电，实现“水窗波”段软X射线输出。


2.如权利要求1所述的一种软X射线光源装置，其特征在于，所述高透镜为1064nm高透镜。


3.根据权利要求1所述的一种软X射线光源装置，其特征在于，所述真空放电室内设置阳极和阴极，所述阴极镶嵌靶材及设置电磁铁，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐强，田赫，李景奎，崔金刚，
申请(专利权)人：东北林业大学，
类型：新型
国别省市：黑龙江;23