【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】视差补偿空间滤光器相关专利的交叉引用本申请要求于2018年12月29日提交的美国专利申请第16/236,442号和2018年11月2日提交的美国临时申请第62/755,252号的优先权，在此通过引用将其全部内容合并于此。
技术介绍
除非本文另外指出，否则本节中描述的材料不是本申请中的权利要求的现有技术，并且不能由于包含在本节中而承认是现有技术。光检测器，诸如光电二极管、单光子雪崩二极管(SPAD)或其他类型的雪崩光电二极管(APD)，可以用于检测传递(imparted)到其表面上的光(例如，通过输出对应于光的强度的诸如电压或电流电信号)。许多类型的此类设备是用半导体材料(诸如硅)制成的。为了检测基本几何区域上的光，可以将多个光检测器布置成并联连接的阵列。这些阵列有时称为硅光电倍增器(SiPM)或多像素光子计数器(MPPC)。
技术实现思路
在一个示例中，一种系统包括相对于场景设置(dispose)并被配置为聚焦来自场景的光的透镜。该系统还包括不透明(opaque)材料。不透明材料定义了多个孔(aperture)...
【技术保护点】
1.一种系统，包括：/n透镜，相对于场景设置，其中，所述透镜被配置为聚焦来自场景的光；/n不透明材料，其中，所述不透明材料定义了多个孔，包括主孔以及一个或多个副孔；以及/n一个或多个光检测器，被布置为拦截由所述透镜聚焦并通过由所述不透明材料定义的多个孔中的至少一个孔透射的光。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181102 US 62/755,252;20181229 US 16/236,4421.一种系统，包括：
透镜，相对于场景设置，其中，所述透镜被配置为聚焦来自场景的光；
不透明材料，其中，所述不透明材料定义了多个孔，包括主孔以及一个或多个副孔；以及
一个或多个光检测器，被布置为拦截由所述透镜聚焦并通过由所述不透明材料定义的多个孔中的至少一个孔透射的光。
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述不透明材料被设置在所述透镜的焦平面处或附近。
3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述不透明材料被设置在与所述系统的预定最大扫描距离配置相关联的所述透镜的共轭平面处或附近。
4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主孔的尺寸大于所述一个或多个副孔中的每个副孔的各自的尺寸。
5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述主孔具有第一尺寸，其中，每个副孔具有第二尺寸。
6.根据权利要求4所述的系统，其中，所述主孔具有第一尺寸，其中，所述一个或多个副孔中的第一副孔具有第二尺寸，并且其中，所述一个或多个副孔中的第二副孔具有第三尺寸。
7.根据权利要求6所述的系统，其中，第一副孔在距离所述主孔的第一距离处，其中，第二副孔在距离所述主孔的第二距离处，并且其中，第一副孔的第二尺寸大于第二副孔的第三尺寸。
8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主孔被定位成与所述透镜的光轴相交。
9.根据权利要求1所述的系统，其中，由所述透镜聚焦的来自场景的光包括由光检测和测距LIDAR设备的发送器照射的一个或多个对象所反射的光。
10.根据权利要求9所述的系统，其中，基于相对于所述系统的透镜位置的所述LIDAR设备的发送器的位置，在所述不透明材料中布置所述一个或多个副孔。
11.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主孔在距离所述不透明材料的第一侧的第一距离处，并且其中，所述一个或多个副孔中的每一个在各自距离所述不透明材料的第一侧的超过第一距离的距离处。
12.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主孔具有垂直轴和与垂直轴正交的水平轴，其中，所述一个或多个副孔包括第一副孔和第二副孔，其中，第一副孔位于所述主孔的水平轴上方，并且其中，第二副孔位于所述主孔的水平轴下方。
13.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主孔具有垂直轴和与垂直轴正交的水平轴，其中，所述一个或多个副孔包括在垂直轴与水平轴之间的第一线性布置中的至少两个副孔，并且其中，所述一个或多个副孔包括在垂直轴和水平轴之间的第二线性布置中的至少两个其他副孔。
14.根据权利要求1所述的系统，其中，所述一个或多个光检测器包括彼此并联连接的光检测器阵列。
15.根据权利要求1所述的系统，其中，所述一个或多个...
【专利技术属性】
技术研发人员：RH谢帕德，B加森德，PY德罗兹，
申请(专利权)人：伟摩有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。