抗反射膜、偏光板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及抗反射膜、包括其的偏光板和显示装置，所述抗反射膜具有低反射率偏差和透光率偏差，可以同时实现高耐刮擦性和防污特性，并且可以提高显示装置的屏幕清晰度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗反射膜、偏光板和显示装置
相关申请的交叉引用本申请要求于2018年10月17日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0123703号、于2018年10月17日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0123704号、于2019年10月17日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2019-0128927号和于2019年10月17日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2019-0128928号的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。本专利技术涉及抗反射膜、偏光板和显示装置。
技术介绍
通常，在诸如PDP、LCD等的平板显示装置中，安装抗反射膜以使来自外部的入射光的反射最小化。用于使光的反射最小化的方法包括：将诸如无机细颗粒等的填料分散在树脂中，将其涂覆在基底膜上，并形成不均匀性的方法(防眩光：AG涂覆)；通过在基底膜上形成具有不同折射率的复数个层来利用光干涉的方法(抗反射；AR涂覆)；或者一起使用它们的方法等。其中，在AG涂覆的情况下，虽然反射光的绝对量等于常见的硬涂覆，但经由利用通过不均匀性的光散射来减少进入眼睛的光的量可以获得低反射效果。然而，由于AG涂覆因表面不均匀性而具有降低的屏幕清晰度，因此，近来正在进行对AR涂覆的许多研究。作为利用AR涂覆的膜，具有其中在透光基底膜上堆叠有硬涂层(高折射率层)、低反射率涂层等的多层结构的那些正在被商业化。然而，利用AR涂覆的现有抗反射膜具有以下问题：根据膜的部分的反射率偏差和透光率偏差大。此外，由于形成复数个层的方法单独进行形成各层的过程，因此具有耐刮擦性由于弱的层间粘合性(界面粘合性)而降低的缺点。此外，先前为了改善抗反射膜中包括的低折射率层的耐刮擦性，主要尝试了添加各种纳米尺寸的颗粒(例如二氧化硅、氧化铝、沸石等)的方法。然而，在使用纳米尺寸颗粒的情况下，难以在降低低折射层的反射率的同时提高耐刮擦性，并且由于纳米尺寸颗粒，低折射率层的表面的防污特性显著劣化。因此，为了减少来自外部的入射光的绝对反射量，减小根据膜的部分的反射率偏差和透光率偏差，并改善表面的防污特性以及耐刮擦性，正在进行许多研究，但所得的特性改善程度不令人满意。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供抗反射膜，其具有低反射率偏差和透光率偏差，可以同时实现高耐刮擦性和防污特性，并且可以提高显示装置的屏幕清晰度。本专利技术的另一个目的是提供包括上述抗反射膜的偏光板。本专利技术的另一个目的是提供包括上述抗反射膜并提供高的屏幕清晰度的显示装置。技术方案在本文中提供了抗反射膜，其包括低水分渗透性聚合物膜；硬涂层；和低折射率层，其中在通过由17°至18°的2θ处的透射模式X射线衍射(XRD)获得的衍射图案的方位扫描计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值为160°至200°。此外，在本文中还提供了包括上述抗反射膜的偏光板。此外，在本文中还提供了包括上述抗反射膜的显示装置。在下文中，将更详细地说明根据本专利技术的具体实施方案的抗反射膜、偏光板和显示装置。如本文所用，低折射率层可以意指具有低折射率的层，例如，在550nm的波长下的折射率为约1.2至1.8的层。此外，对于特定的测量量x和y，当改变x值并根据x值记录y值时，如果出现y的最大值(或极值)，则峰意指该部分。其中，最大值意指周边部分中的最大值，极值意指瞬时变化率为0的值。此外，中空无机颗粒意指其中在无机颗粒的表面上和/或内部存在空的空间的颗粒。此外，(甲基)丙烯酰基包括丙烯酰基和甲基丙烯酰基二者。此外，(共聚)聚合物包括共聚物和均聚物二者。此外，含氟化合物意指在化合物中包含至少一个氟原子的化合物。如本文所用，可光聚合化合物通常表示通过光的照射例如通过可见光或紫外线的照射而聚合的聚合物化合物。根据本专利技术的一个实施方案，提供了抗反射膜，其包括低水分渗透性聚合物膜；硬涂层；和低折射率层，其中在通过由17°至18°的2θ处的透射模式X射线衍射(XRD)获得的衍射图案的方位扫描计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值为160°至200°。峰之间的间隔的平均值意指在0°至360°的范围内的方位角分布曲线中峰之间的间隔的算术平均值。本专利技术人对抗反射膜进行研究，通过实验确定其中在通过由17°至18°的2θ处的透射模式X射线衍射(XRD)获得的衍射图案的方位扫描计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值为160°至200°的抗反射膜在整个抗反射膜中表现出相似的反射率和透光率，并因此具有小的反射率偏差和透光率偏差，可以同时实现高耐刮擦性和防污特性，并且具有显示装置的屏幕清晰度，完成了本专利技术。抗反射膜在整个膜中具有小的反射率偏差和透光率偏差，并因此可以提高显示装置的屏幕清晰度，并且具有优异的耐刮擦性和高的防污特性，并因此可以容易地应用于显示装置或偏光板等的制造过程而没有具体限制。X射线衍射图案可以使用X射线衍射模式中的透射模式来获得，具体地，X射线进入测量对象，然后被测量对象的晶体中的原子层散射，由此获得X射线衍射图案。通过X射线衍射图案，可以确定材料的晶体结构，并且可以进行定性分析。此外，通过由17°至18°的2θ处的根据一个实施方案的抗反射膜获得的X射线衍射图案的方位扫描，可以计算方位角分布曲线。在由根据一个实施方案的硬涂膜计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值可以为160°至200°、165°至195°、170°至190°、或175°至185°。此外，在方位角分布曲线中可以出现3个或更多个峰，并且3个或更多个峰之间的间隔的平均值可以为160°至200°、165°至195°、170°至190°、或175°至185°。其中，峰之间的间隔的平均值为在0°至360°的范围内的方位角分布曲线中峰之间的间隔的算术平均值。由于峰之间的间隔的平均值满足上述范围，因此可以在整个抗反射膜中表现出相似的反射率和透光率，从而实现具有低反射率偏差和透光率偏差并改善耐刮擦性或防污特性的抗反射膜。同时，入射角(θ)意指当X射线照射至特定晶面时，由晶面和X射线形成的角度，衍射峰意指在其中x-y平面的x轴为进入X射线的入射角的2倍(2θ)，x-y平面的y轴为衍射强度的图中，一阶导数(切线的斜率，dy/dx)为0的点，其中随着进入X射线的入射角的2倍(2θ)的x轴在正方向上增加，衍射强度的y轴与2θ值的x轴的一阶导数(切线的斜率，dy/dx)从正变为负。同时，衍射峰意指在方位角分布曲线中半峰全宽为5°或更大的峰。半峰全宽小于5°的峰对应于噪音。方位角分布曲线中的峰之间的间隔的平均值可能由低水分渗透性聚合物膜中的聚合物的结晶状态和聚合物的晶体方向的均匀性产生。具体地，在透射模式X射线衍射(XRD)图案中观察低水分渗透性聚合物膜中的聚合物晶体，更具体地，低水分渗透性聚合物膜中的(010)晶面可以显示为17°至18°的2θ处的峰。...

【技术保护点】
1.一种抗反射膜，包括/n低水分渗透性聚合物膜；硬涂层；和低折射率层，/n其中在通过由17°至18°的2θ处的透射模式X射线衍射(XRD)获得的衍射图案的方位扫描计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值为160°至200°。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181017 KR 10-2018-0123703;20181017 KR 10-2018-011.一种抗反射膜，包括
低水分渗透性聚合物膜；硬涂层；和低折射率层，
其中在通过由17°至18°的2θ处的透射模式X射线衍射(XRD)获得的衍射图案的方位扫描计算的方位角分布曲线中，峰之间的间隔的平均值为160°至200°。


2.根据权利要求1所述的抗反射膜，
其中在所述方位角分布曲线中，3个或更多个峰之间的间隔的平均值为160°至200°。


3.根据权利要求1所述的抗反射膜，
其中所述低折射率层包含粘结剂树脂和分散在所述粘结剂树脂中的无机细颗粒。


4.根据权利要求3所述的抗反射膜，
其中所述粘结剂树脂包含可光聚合化合物的(共聚)聚合物。


5.根据权利要求4所述的抗反射膜，
其中所述粘结剂树脂还包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的含氟化合物和经一个或更多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的交联聚合物。


6.根据权利要求5所述的抗反射膜，
其中所述含有光反应性官能团的含氟化合物包括选自以下的一者或更多者：i)经一个或更多个光反应性官能团取代的脂族化合物或脂环族化合物，其中至少一个碳经一个或更多个氟原子取代；ii)经一个或更多个光反应性官能团取代的杂脂族化合物或杂脂环族化合物，其中至少一个氢经氟替代，并且至少一个碳经硅替代；iii)经一个或更多个光反应性官能团取代的基于聚二烷基硅氧烷的聚合物，其中至少一个硅经一个或更多个氟原子取代；以及iv)经一个或更多个光反应性官能团取代的聚醚化合物，其中至少一个氢经氟替代。


7.根据权利要求5所述的抗反射膜，
其中在聚倍半硅氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：边真锡，金素英，张影来，徐姃贤，徐光锡，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR