一种压印模板的制作方法及压印模板技术

一种压印模板的制作方法及压印模板，该压印模板的制作方法包括：提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第一压印胶层形成第二转移图案，且无边缘图案的互补图案，利用转换模板形成第二软模板，利用所述第二软模板进行压印得到压印模板。本申请实施例提供的方案，消除段差，提高了模板质量。

【技术实现步骤摘要】
一种压印模板的制作方法及压印模板
本申请实施例涉及但不限于半导体技术，尤指一种压印模板的制作方法及压印模板。
技术介绍
纳米压印技术(NIL)是一种薄膜图案化技术，主要包括热压印、紫外压印和微接触压印，具有分辨率高、成本低、产率高、可大规模生产等特点。热压印和紫外压印的图案化原理为：在热或者紫外照射下，将预先制作有图案的压印模版压设在压印胶上，通过脱模、刻蚀多余胶、刻蚀和去胶等工艺，制作出与压印模版互补的图案。目前，纳米压印技术主要应用在生物传感、发光二极管(LED)光效提升、光路控制、虚拟现实/增强现实(AR/VR)等领域的薄膜图案化工艺。随着显示
大尺寸、低成本的需求日益迫切，中尺寸或大尺寸显示装置的制备逐渐开始采用纳米压印技术。应用于显示
的纳米压印工艺流程通常包括：先制备出工作模板，然后根据工作膜板制备出大尺寸压印机使用的压印模板，利用压印模板进行显示基板上薄膜的图案化。目前，模板拼接技术是实现大尺寸纳米压印的一大难点。比如对于200纳米(nm)以下周期结构，基本上采用电子束直写技术完成，但是该技术目前只能对应8寸及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压印模板的制作方法，包括：/n提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，所述第一转移图案为所述原始图案的互补图案，所述边缘图案为所述母模板边缘的互补图案；/n提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第一压印胶层形成第二转移图案，所述第二转移图案包括所述原始图案的部分或全部，在平行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述第一压印胶层的正投影外；/n利用形成有所述第二转移图案的转换模板形成包括所述第三转移图案的第二软模板，所述第三转移图案为所述第二转移图案的互补图案；/n利用所述第二软...

【技术特征摘要】
1.一种压印模板的制作方法，包括：
提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，所述第一转移图案为所述原始图案的互补图案，所述边缘图案为所述母模板边缘的互补图案；
提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第一压印胶层形成第二转移图案，所述第二转移图案包括所述原始图案的部分或全部，在平行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述第一压印胶层的正投影外；
利用形成有所述第二转移图案的转换模板形成包括所述第三转移图案的第二软模板，所述第三转移图案为所述第二转移图案的互补图案；
利用所述第二软模板对包括第二压印胶层的待压印基板进行压印，以在所述待压印基板上形成压印图案，所述压印图案为所述第三转移图案的互补图案。


2.根据权利要求1所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括第一压印胶层的转换模板包括：
提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板；
在所述亲疏水模板的亲水区域形成所述第一压印胶层，在平行于所述亲疏水模板的平面上，所述第一压印胶层的正投影位于所述疏水区域的正投影外。


3.根据权利要求2所述的压印模板的制作方法，其特征在于，所述提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板包括：
在基底上贴附完全覆盖所述基底的牺牲层薄膜；
图案化所述牺牲层薄膜，生成牺牲层图案，在平行于所述基底的平面上，所述牺牲层的正投影与所述亲水区域的正投影重合；
在所述牺牲层远离所述基底一侧和所述基底靠近所述牺牲层一侧涂覆疏水层薄膜；
剥离所述亲水区域的牺牲层和所述牺牲层上的疏水层薄膜。...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭康，刘震，谷新，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11