【技术实现步骤摘要】
压印设备及压印方法
本专利技术涉及一种压印技术,尤其涉及一种压印设备及压印方法。
技术介绍
目前常见的光刻(Lithography)技术包含电子束光刻(ElectronicBeamLithography)技术、离子束光刻(IonBeamLithography)技术、极紫外光光刻(ExtremeUltravioletLithography)技术及纳米压印光刻(NanoimprintLithography)技术,其中纳米压印光刻因为不受光学绕射极限的限制,且具有解析度高、速度快及成本低廉的特色,因此其应用领域相当广泛。详细而言,公知的一种纳米压印光刻工艺的步骤可包括:制作压印模具、将胶层涂布于载台上、利用压印模具将其压印图案转印至软化的胶层、固化已被图案化的胶层并移除压印模具以及利用固化后的胶层作为掩膜对特定的材料(例如金属)膜层进行蚀刻以形成所需的图案化结构。然而,在压印模具(imprintingmold)的制作过程中,经由压印滚轮的滚压容易在母模(mastermold)以外的周围区域累积多余的压模材料,致使固化后的压印模具的平整度较差,导致后续利用此压印模具所进行的纳米压印工艺的整体良率下降。
技术实现思路
本专利技术提供一种压印设备及压印方法,其所制作出来的压印模具具有较佳的压印品质。本专利技术的压印设备适于制造压印模具,且包括载台以及压印滚轮。载台具有承接面以及连接承接面的侧边部。侧边部设有疏水表面,且疏水表面倾斜于承接面。压印滚轮配置用以在平行于承接面的方向上移动并滚压压模材
【技术保护点】
1.一种压印设备,适于制造一压印模具,该压印设备包括:/n一载台,具有一承接面以及连接该承接面的一侧边部,其中该侧边部设有一疏水表面,且该疏水表面倾斜于该承接面;以及/n一压印滚轮,配置用以在平行于该承接面的一方向上移动并滚压一压模材料层,位于该侧边部上方的该压印滚轮适于朝该疏水表面移动并挤压该压模材料层,使该压模材料层分离为一压模材料部与一余料部,其中该余料部适于沿着该疏水表面远离该压模材料部,且该压模材料部形成该压印模具。/n
【技术特征摘要】
20200130 TW 1091027311.一种压印设备,适于制造一压印模具,该压印设备包括:
一载台,具有一承接面以及连接该承接面的一侧边部,其中该侧边部设有一疏水表面,且该疏水表面倾斜于该承接面;以及
一压印滚轮,配置用以在平行于该承接面的一方向上移动并滚压一压模材料层,位于该侧边部上方的该压印滚轮适于朝该疏水表面移动并挤压该压模材料层,使该压模材料层分离为一压模材料部与一余料部,其中该余料部适于沿着该疏水表面远离该压模材料部,且该压模材料部形成该压印模具。
2.如权利要求1所述的压印设备,还包括一导流片,设置于该载台的该侧边部,其中该导流片设有该疏水表面,且该导流片远离该承接面的一侧缘自该侧边部凸出。
3.如权利要求2所述的压印设备,其中该导流片的该疏水表面设有多个导流沟槽。
4.如权利要求1所述的压印设备,其中该疏水表面的横截面轮廓包含曲线或折线。
5.如权利要求1所述的压印设备,还包括一除胶轮,设置于该侧边部背离该疏水表面的一侧,该除胶轮具有一转轴以及围绕该转轴的一轮面,其中该疏水表面远离该承接面的一侧缘与该除胶轮的该轮面重叠,且该轮面适于依该转轴旋转而带动该余料部离开该疏水表面。
6.如权利要求5所述的压印设备,其中该除胶轮重叠该疏水表面的部分在该方向上具有一宽度,而该宽度与该除胶轮的一圆半径的比值大于等于0.5且小于等于1.5。
7.如权利要求5所述的压印设备,其中该除胶轮还具有围绕该转轴而设的多个凹槽,任两相邻的多个所述凹槽在该除胶轮的一旋转方向上彼此错位,且该余料部适于流入多个所述凹槽内。
8.如权利要求7所述的压印设备,其中多个所述凹槽在平行于该转轴的方向上延伸,多个所述凹槽包括在该旋转方向上依序排列且相邻的一第一凹槽、一第二凹槽与一第三凹槽,该第一凹槽与该第二凹槽在该旋转方向上具有一第一间距,该第二凹槽与该第三凹槽在该旋转方向上具有一第二间距,且该第一间距不等于该第二间距。
9.如权利要求7所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:王铭瑞,锺佳欣,王呈展,黄胜铭,罗再昇,林圣凯,张晖谷,陈志强,林嘉柏,吕仁贵,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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