硅片清洁设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种硅片清洁设备，包括行走臂及安装在所述行走臂侧边的清洁装置，所述清洁装置包括固定装置、安装在所述固定装置上的风刀装置、硅片支撑装置、安装在所述硅片支撑装置上的感应装置及与感应装置电信或信号连接的控制装置，所述控制装置控制所述风刀装置的开闭。相较于现有技术，本实用新型专利技术通过在清洁装置上设置感应硅片的感应装置，从而使清洁装置通过感应装置的感应自动进行硅片清洁，避免了压缩空气的浪费、降低了压缩空气产生的噪音及有效清除了硅片表面的脏污。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洁设备
本技术涉及硅片加工
，尤其涉及一种硅片清洁设备。
技术介绍
随着新能源的蓬勃发展，太阳能凭借其可靠性、安全性、环保性、资源充足性等特点，受到人们越来越多的关注。在大力推广和使用太阳能绿色能源的背景下，太阳能电池片的需求也与日剧增。在太阳能电池片的生产过程中，硅片丝网印刷作为整个环节中最重要也是最关键最精细的一环，对硅片表面的洁净度要求非常高。丝网印刷包含印刷—烘干—印刷—烘干—印刷—烧结几道工序，当硅片经过烘干炉烘干后，其表面无法避免的会粘到残留的有机物灰尘等脏污。同时，硅片经行走臂移动后，其与行走臂的接触又会造成硅片表面的脏污。如果硅片表面有脏污，硅片移动到印刷网板下进行印刷的时候，轻则造成断栅，重则造成网破。有鉴于此，确有必要提供一种硅片清洁设备，以解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种有效清洁硅片表面脏污的硅片清洁装置。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：一种硅片清洁设备，包括行走臂及安装在所述行走臂侧边的清洁装置，所述清洁装置包括固定装置、安装在所述固定装置上的风刀装置、硅片支撑装置、安装在所述硅片支撑装置上的感应装置及与感应装置电信或信号连接的控制装置，所述控制装置控制所述风刀装置的开闭。作为本技术进一步改进的技术方案，所述风刀装置与高压气体提供设备气体连通，所述高压气体提供设备提供的高压气体通过风刀装置吹向硅片。作为本技术进一步改进的技术方案，所述风刀装置包括风刀主体及安装在所述风刀主体上的若干风刀喷嘴，所示风刀主体与风刀喷嘴气体连通。作为本技术进一步改进的技术方案，所述风刀主体的长度与硅片的长度大体一致。作为本技术进一步改进的技术方案，所述固定装置包括位于行走臂侧边的盖板、安装在所述盖板上的两个底座及安装在两个底座上的连接杆。作为本技术进一步改进的技术方案，所述盖板的上端朝向行走臂的方向倾斜，所述底座及连接杆均安装在盖板的上端。作为本技术进一步改进的技术方案，所述连接杆的一端与底座旋转连接，另一端与风刀装置旋转连接。作为本技术进一步改进的技术方案，所述盖板上设有沿盖板长度延伸的滑轨，所述底座与硅片支撑装置可沿所述滑轨滑动。作为本技术进一步改进的技术方案，所述控制装置包括信号放大器及安装在高压气体提供设备上的电磁阀，所述感应装置、信号放大器及电磁阀依次电信或信号连接；所述感应装置为红外线感应装置。作为本技术进一步改进的技术方案，所述清洁装置为两个，所述两个清洁装置分别设置在行走臂的两侧。本技术的有益效果是：通过在清洁装置上设置感应硅片的感应装置，从而使清洁装置通过感应装置的感应自动进行硅片清洁，避免了压缩空气的浪费、降低了压缩空气产生的噪音及有效清除了硅片表面的脏污。附图说明图1为本技术硅片清洁设备的示意图。图2为本技术清洁装置的示意图。图3为图2中A部的放大图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细描述。请参图1所示，本技术的硅片清洁设备包括行走臂1及安装在行走臂1侧边的清洁装置2。硅片3放置在行走臂1上，行走臂1可带动硅片3移动，并可将硅片3移动至清洁装置2上进行清洁。请参图2所示，清洁装置2包括固定装置21、风刀装置22、硅片支撑装置23、感应装置24及控制装置25。清洁装置2主要用于清洁硅片3表面的脏污，其清洁效率及清洁度高、结构简单、操作便捷。结合图2及图3所示，固定装置21主要用于将风刀装置22固定在行走臂1的侧边，其包括盖板211、两个底座212及安装在两个底座212上的连接杆213。盖板211位于行走臂1的侧边，其上端朝向行走臂1的方向倾斜，从而使放置在硅片支撑装置23上的硅片3与风刀装置22位置错开，避免硅片3在向上抬起移动时与风刀装置22相撞。此外，盖板211的上端设有沿盖板211长度延伸的滑轨210。两个底座212安装在盖板211的上端并可沿滑轨210滑动，从而带动风刀装置22沿滑轨210移动。连接杆213的一端与底座212通过螺栓214旋转连接，另一端同样通过螺栓214与风刀装置22旋转连接，从而使风刀装置22进行360度旋转，可进行任意方向的清洁作业，进而满足多尺寸、多角度硅片3的清洁。风刀装置22安装在固定装置21上，其与高压气体提供设备4气体连通，高压气体提供设备4提供的高压气体可通过风刀装置22吹向硅片3。风刀装置22包括风刀主体221及安装在风刀主体221上的若干风刀喷嘴222，风刀主体221与风刀喷嘴222气体连通。风刀主体221的长度与硅片3的长度大体一致，从而能够保证一次性将硅片3上的各个区域清洁干净，具有较高的清洁效率。风刀喷嘴222相较于一般的风刀吹气孔，可有效增大压缩空气吹扫的风速，从而使硅片3表面一些比较牢固的脏污也可被清除掉，具有较高的清洁度。请参图2所示，硅片支撑装置23安装在盖板211的上端，主要用于硅片3的承载支撑。感应装置24安装在硅片支撑装置23上，主要用于感应硅片支撑装置23上是否承载有硅片3。此外，感应装置24为红外线感应装置，感应较灵敏。控制装置25主要用于控制风刀装置22的开闭，其包括信号放大器251及安装在高压气体提供设备4上的电磁阀252，感应装置24、信号放大器251及电磁阀252依次电信或信号连接。感应装置24将感应信号传递给信号放大器251，信号放大器251将信号放大并传递给电磁阀252，电磁阀252通过不同的感应信号控制高压气体提供设备4的开闭，进而控制风刀装置22的开闭。当硅片3未移动至硅片支撑装置23上时，电磁阀252关闭，风刀装置22停止吹扫；当硅片3移动至硅片支撑装置23上时，电磁阀252开启，风刀装置22开始吹扫，从而避免了压缩空气的浪费、降低了压缩空气产生的噪音。在本技术中，清洁装置2为两个，两个清洁装置2分别设置在行走臂1的两侧。当行走臂1带动硅片3移动至清洁装置2上时，清洁装置2从硅片3的两端至中间部进行清洁。采用此种清洁方式，一方面，可使清洁装置2清洁整个硅片3表面；另一方面，硅片3的两端为硅片支撑装置23的支撑位置，可有效防止高压气体清洁时损坏硅片3。综上所述，本技术提供一种硅片清洁设备，包括行走臂1及安装在行走臂1侧边的清洁装置2。硅片清洁设备通过在清洁装置2上设置感应硅片3的感应装置224，从而使清洁装置2通过感应装置24的感应自动进行硅片3清洁，避免了压缩空气的浪费、降低了压缩空气产生的噪音及有效清除了硅片3表面的脏污。本文使用的例如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个特征相对于另一个特征的关系。可以理解，根据产品摆放位置的不同，空间相对位置的术语可以旨在包括除了图中所示方位以外的不同方位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片清洁设备，包括行走臂及安装在所述行走臂侧边的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置包括固定装置、安装在所述固定装置上的风刀装置、硅片支撑装置、安装在所述硅片支撑装置上的感应装置及与感应装置电信或信号连接的控制装置，所述控制装置控制所述风刀装置的开闭。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洁设备，包括行走臂及安装在所述行走臂侧边的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置包括固定装置、安装在所述固定装置上的风刀装置、硅片支撑装置、安装在所述硅片支撑装置上的感应装置及与感应装置电信或信号连接的控制装置，所述控制装置控制所述风刀装置的开闭。


2.根据权利要求1所述的硅片清洁设备，其特征在于：所述风刀装置与高压气体提供设备气体连通，所述高压气体提供设备提供的高压气体通过风刀装置吹向硅片。


3.根据权利要求1所述的硅片清洁设备，其特征在于：所述风刀装置包括风刀主体及安装在所述风刀主体上的若干风刀喷嘴，所示风刀主体与风刀喷嘴气体连通。


4.根据权利要求3所述的硅片清洁设备，其特征在于：所述风刀主体的长度与硅片的长度大体一致。


5.根据权利要求1所述的硅片清洁设备，其特征在于：所述固定装置包括位于行走臂侧边的盖板、安装在...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋德义，王志宝，孙贤，乔勇，李书坤，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32