阵列基板、液晶显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及显示面板技术领域,公开了一种阵列基板、液晶显示面板及其制备方法,该阵列基板包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，光致变色层位于衬底和半导体层之间；第一金属层位于半导体层背离衬底的一侧；光致变色层包括受可见光照射时颜色变深的有效区以及透明的无效区，第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被有效区在衬底的正投影覆盖。当可见光沿衬底向第一金属层的方向照射阵列基板时，有效区颜色会加深，可见光仅会透过有效区之外部分的透明的无效区，而不会照射到半导体层，减少了半导体层因光照的影响而具有导体性质的现象的发生，减少背光光照区域和无背光光照区域之间存在的像素充电差异，改善了画面显示不均的现象。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、液晶显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示面板的
，尤其是涉及一种阵列基板、液晶显示面板及其制备方法。
技术介绍
随着科技的进步和社会的发展，显示面板在人们的生活中逐渐普及，因此，人们对显示面板的性能要求也越来越高。随着面板尺寸增加，背光尺寸也相应变化，随之而来的是背光功耗的急剧升高，因此背光厂商采取PWM调制方法来降低功耗。但是，面板尺寸在增加的同时，数据线信号的长度也会增加，带来了数据线阻抗的升高，同时现有主流大尺寸电视面板均采用4Mask工艺，因而数据线下会存在有等宽度的半导体层，常用非晶硅半导体层，这样在背光开启的时候，非晶硅半导体将具有导体的特性，进而造成有背光光照区和无背光光照区之间存在线电阻差异以及与像素区电极之间的电容耦合变化，造成背光光照区域和无背光光照区域之间存在像素充电差异，从而画面显示不均。
技术实现思路
本专利技术提供了一种阵列基板，上述阵列基板能够有效减少背光光照区域和无背光光照区域之间存在像素充电差异，从而改善了显示画面显示不均的现象，提高了显示效果。为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，其中：/n所述光致变色层位于所述衬底和所述半导体层之间；/n所述第一金属层位于所述半导体层背离所述衬底的一侧；/n所述光致变色层包括受可见光照射时颜色能够变深的有效区以及位于所述有效区之外部分的透明的无效区，所述第一金属层和所述半导体层在所述衬底的正投影均被所述有效区在所述衬底的正投影覆盖。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，其中：
所述光致变色层位于所述衬底和所述半导体层之间；
所述第一金属层位于所述半导体层背离所述衬底的一侧；
所述光致变色层包括受可见光照射时颜色能够变深的有效区以及位于所述有效区之外部分的透明的无效区，所述第一金属层和所述半导体层在所述衬底的正投影均被所述有效区在所述衬底的正投影覆盖。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括绝缘层以及第二金属层；
所述绝缘层位于所述第一金属层与所述第二金属层之间；
所述第二金属层在所述衬底的正投影被所述有效区在所述衬底的正投影覆盖。


3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属层位于所述半导体层与所述光致变色层之间。


4.一种液晶显示面板，其特征在于，包括彩膜层以及权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其中：
所述彩膜层位于所述第一金属层远离所述衬底的一侧；
所述彩膜层与所述第一金属层之间具有遮光层，所述第一金属层和所述半导体层在所述衬底的正投影均被所述遮光层在所述衬底的正投影覆盖。


5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述遮光层为黑矩阵。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨志，张骥，王喜鹏，徐超，郭坤，程石，刘信，谢斌，李彦辉，盛子沫，
申请(专利权)人：武汉京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42