匀光组件制造技术

技术编号:25437537 阅读:44 留言:0更新日期:2020-08-28 22:26
本发明专利技术主要提供一种匀光组件,用于对一发光装置发出的光源进行调制,所述匀光组件包括一第一匀光结构和一第二匀光结构,所述第一匀光结构和所述第二匀光结构被设置于至少一匀光片,从而对所述发光装置发出的光源进行两次调制。

【技术实现步骤摘要】
匀光组件
本专利技术属于光学元件领域,具体而言,本专利技术涉及一种能够对光源进行高效均匀的结构。
技术介绍
匀光片Diffuser主要用于将光源发出的光束进行调制,在所需的视场角范围内形成均匀的光场,对目标场景进行照明。有一类匀光片基于光衍射原理而制成,另一种是基于光折射原理而制成的匀光片,这两种类型的匀光片在实际制造和使用过程中为最常用的匀光片类型。而基于光折射原理制成的匀光片最常见的是采用微透镜阵列,在现有技术中基于微透镜阵列的匀光片大多为规则微透镜阵列,但是由于微透镜在行和列方向都是周期性规则有序的排列方式,使得相干光源发出的相干光束经过这种规则的微透镜阵列在空间传播的过程中会产生干涉,进而在远场形成明暗相间的条纹图样,因此会严重弱化匀光片的匀光效果,因此会影响匀光片的使用。随着体感交互与控制、3D物体识别与感知、智能环境感知以及动态地图构建等技术与市场的发展,各大应用场景都开始对3D视觉与识别技术产生日益浓厚的兴趣和日益旺盛的需求。以现阶段体量最大的两个应用领域为例:一方面,随着智能手机进入存量时代,微创新对深度摄像技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀光组件,用于对一发光装置发出的光源进行调制,其特征在于,所述匀光组件包括一第一匀光结构和一第二匀光结构,所述第一匀光结构和所述第二匀光结构被设置于至少一匀光片,从而对所述发光装置发出的光源进行两次调制。/n

【技术特征摘要】
1.一种匀光组件,用于对一发光装置发出的光源进行调制,其特征在于,所述匀光组件包括一第一匀光结构和一第二匀光结构,所述第一匀光结构和所述第二匀光结构被设置于至少一匀光片,从而对所述发光装置发出的光源进行两次调制。


2.根据权利要求1所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构和所述第二匀光结构分别被设置于所述匀光片的相反两侧而形成一双面匀光片,从而通过所述第一匀光结构和所述第二匀光结构对所述发光装置发出的光源进行两次调制。


3.根据权利要求2所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构和所述第二匀光结构均通过随机规则化微透镜阵列设计而成。


4.根据权利要求3所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构和所述第二匀光结构中每个微透镜沿Z轴方向的偏移量范围为-0.1~0.1mm。


5.根据权利要求4所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构为折射型,所述第二匀光结构为衍射型。


6.根据权利要求1所述的匀光组件,其中所述匀光组件包括一第一匀光片和一第二匀光片,所述第一匀光结构被设置于所述第一匀光片的一侧,所述第二匀光结构被设置于所述第二匀光片的一侧,从而通过所述第一匀光结构和所述第二匀光结构对所述发光装置发出的光源进行两次调制。


7.根据权利要求6所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构和所述第二匀光结构分别被设置于所述第一匀光片和所述第二匀光片的同一侧,且均为朝向所述发光装置的一侧,其中所述第一匀光片位于所述发光装置和所述第二匀光片之间。


8.根据权利要求7所述的匀光组件,其中所述第一匀光结构中的每个微透镜沿Z轴方向的偏移量范围为-0.1~0.1mm。


9.根据权利要求7或8所述的匀光组件,其中所述第二匀光结构中的每个微透镜沿Z轴方向的偏移量范围为-0.1~0.1mm。


10.根据权利要求6所述的匀光组件,其中所述第一匀光片中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:楼歆晔孟玉凰林涛
申请(专利权)人:上海鲲游光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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