一种用于插片机和清洗机的供水装置制造方法及图纸

技术编号:25436232 阅读:26 留言:0更新日期:2020-08-28 22:25
本实用新型专利技术涉及一种用于插片机和清洗机的供水装置;其特征在于:包括收集所述清洗机内清洗水的积液池、连接所述插片机出水口的混合装置和将所述积液池内清洗水送入所述混合装置内的抽水装置;所述积液池通过收集管道连接所述清洗机的清洗槽;所述混合装置连接冷水源。解决了现有方案造成的将清洗水直接排出造成清洗水的浪费和插片机采用冷水将硅片冲开容易造成硅片的崩边等问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于插片机和清洗机的供水装置
本技术涉及供水设备,具体涉及一种用于插片机和清洗机的供水装置。
技术介绍
一般的,光伏是太阳能光伏发电系统的简称,是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应,将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统。其中所使用的半导体器件生产中硅片必须严格清洗。微量的污染会导致器件失效,清洗的目的在于清洗表面的污染。需要通过插片机先将硅片插入片盒内,再通过清洗机移动片盒对硅片进行清洗。插片机中需要大量的清水将硅片冲开。清洗机需要大量的清洗水对硅片进行清洗。插片机和清洗机会造成水的浪费,如何解决这个问题变得至关重要。现有的方案,插片机和清洗机为两个独立工作的设备。插片机采用冷水将硅片冲开。清洗机的清洗槽的清洗水出现溢流,将清洗水收集后排出。这样的方案存在以下问题:(1)将清洗水直接排出,造成清洗水的浪费;(2)插片机采用冷水将硅片冲开,硅片很难分开,容易造成硅片的崩边。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术公开了一种用于插片机和清洗机的供水装置,以解决现有技术中将清洗水直接排出造成清洗水的浪费和插片本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于插片机和清洗机的供水装置,其特征在于:包括收集所述清洗机内清洗水的积液池(1)、连接所述插片机出水口的混合装置(2)和将所述积液池(1)内清洗水送入所述混合装置(2)内的抽水装置(3);所述积液池(1)通过收集管道(4)连接所述清洗机的清洗槽;所述混合装置(2)连接冷水源。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于插片机和清洗机的供水装置,其特征在于:包括收集所述清洗机内清洗水的积液池(1)、连接所述插片机出水口的混合装置(2)和将所述积液池(1)内清洗水送入所述混合装置(2)内的抽水装置(3);所述积液池(1)通过收集管道(4)连接所述清洗机的清洗槽;所述混合装置(2)连接冷水源。


2.根据权利要求1所述的用于插片机和清洗机的供水装置,其特征在于:所述收集管道(4)靠近所述清洗槽的一端嵌入所述清洗槽内;所述收集管道(4)靠近所述清洗槽的一端开口向上。


3.根据权利要求1所述的用于插片机和清洗机的供水装置,其特征在于:所述收集管道(4)上设置有控制清洗水流量的第一控制阀(41);所述第一控制阀(41)设置于所述收集管道(4)上靠近所述清洗槽的一端。


4.根据权利要求1所述的用于插片机和清洗机的供水装置,其特征在于:所述抽水装置(3)的进水口通过抽水管道(...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯震坤许春杰
申请(专利权)人:无锡京运通科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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