显示基板及制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的防反射层光密度值较低，且防反射层与反射阳极对位困难的问题。本发明专利技术的显示基板，具有像素区和非像素区，包括：基底、位于基底上的反射阳极；还包括；位于反射阳极上且与非像素区对应设置的防反射层；防反射层包括：透明聚合物层和吸光材料；透明聚合物层远离基底的表面设置有多个微孔；吸光材料填充于微孔中。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及制备方法、显示装置
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板及制备方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示以其高亮度、高信赖性等优势，在显示领域中得到了有广泛地应用。OLED显示器件中一般采用具有反射功能的金属层作为其发射阳极，以对有机功能层产生的光线进行反射，从而将光线照射出去。但是在户外或者强光环境下，由于反射阳极对于外界环境光线的反射作用，容易造成显示面板显示对比度的下降，极大影响了显示效果，降低了用户在户外的使用体验。目前，为了降低反射阳极对外界环境光线的反射作用，一般采用黑色的材料形成像素限定层。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：目前使用的黑色材料光密度值较低，其防反射的效率有限。并且在形成显示器件过程中，需要对像素限定层限定的区域进行对位，由于采用黑色的材料形成像素限定层由于不透明，同时目前大部分的曝光机未安装红外对位装置，因此容易造成对位困难。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，具有像素区和非像素区，包括：基底、位于所述基底上的反射阳极；其特征在于，还包括；位于所述反射阳极上且与所述非像素区对应设置的防反射层；/n所述防反射层包括：透明聚合物层和吸光材料；/n所述透明聚合物层远离所述基底的表面设置有多个微孔；所述吸光材料填充于所述微孔中。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，具有像素区和非像素区，包括：基底、位于所述基底上的反射阳极；其特征在于，还包括；位于所述反射阳极上且与所述非像素区对应设置的防反射层；
所述防反射层包括：透明聚合物层和吸光材料；
所述透明聚合物层远离所述基底的表面设置有多个微孔；所述吸光材料填充于所述微孔中。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防反射层位于所述反射阳极远离所述基底的一侧。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述微孔的深度为350纳米至400纳米。


4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透明聚合物层的材料包括：光刻胶。


5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述吸光材料包括：钼、钛或铝。


6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：位于所述基底上的薄膜晶体管和平坦层；
所述薄膜晶体管包括：依次位于所述基底上的有源层、栅极绝缘层、栅极、层间介质层、源极和漏极；所述有源层包括：第一接触区、第二接触区及位于所述第一接触区和第二接触区之间的沟道区；所述源极和所述漏极同层设置，且分别通过贯穿所述层间介质层和所述栅极绝缘层的第一过孔和第二过孔与所述有源层的所述第一接触区和所述第二接触区连接；
所述平坦层位于在所述源极和所述漏极所在层与所述反射阳极之间，且在所述平坦层对应所述漏极...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭远征，王云浩，韩永占，李杰，王彦强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11