显示面板及其制作方法、掩模版组技术

本申请提供了显示面板及其制作方法、掩模版组，显示面板包括显示区域和感光区域，该显示面板包括衬底、设于衬底一侧的阳极层、设于所述衬底远离所述阳极层的一侧的感光器件，阳极层中与显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层，感光器件设于感光区域；该方案可以提高OLED显示屏的屏下摄像头或者其它感光器件上方的膜层的透光率，以提高OLED显示屏的屏下摄像头或者其它感光器件的工作性能。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法、掩模版组
本申请涉及显示
，尤其涉及显示器件的制造，具体涉及显示面板及其制作方法、掩模版组。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示屏的柔性可弯折性质为其进军全面屏带来了巨大优势，其中屏下摄像头技术尤为重要。然而，现有的阳极层、发光层、阴极层等膜层的透光率较低，导致屏下摄像头或者其它感光器件无法捕捉到足够的光线，无法较好地实现相应的功能。因此，有必要提供显示面板及其制作方法、掩模版组，增加穿过屏下摄像头或者其它感光器件的光线，以提高OLED显示屏的屏下摄像头或者其它感光器件的工作性能。
技术实现思路
本申请的目的在于提供显示面板及其制作方法、掩模版组，通过将阳极层中与所述显示区域对应的部分设置为包括层叠设置的第一透光层和反射层，而将所述阳极层中与所述感光区域对应的部分设置为包括第二透光层，解决了现有的OLED显示屏中屏下摄像头或者其它感光器件的上方膜层较厚，从而导致的透光率较低，以至于屏下摄像头或者其它感光器件无法较好地实现相应的功能的问题。本申请实施例提供显示面板，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述显示面板包括：衬底；阳极层，所述阳极层设于所述衬底的一侧，所述阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层；感光器件，所述感光器件设于所述衬底远离所述阳极层的一侧，所述感光器件设于所述感光区域。在一实施例中，所述衬底包括：第一衬底，所述第一衬底设于所述感光区域；第二衬底，所述第二衬底设于所述显示区域，所述第一衬底的厚度小于所述第二衬底的厚度。在一实施例中，所述显示面板还包括：薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设于所述阳极层靠近所述衬底的一侧，所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管设于所述显示区域。在一实施例中，所述显示面板还包括：阴极层，所述阴极层设于所述阳极层远离所述衬底的一侧，所述阴极层设于所述显示区域。在一实施例中，当所述第一透光层和所述第二透光层同层设置时，所述阳极层还包括：第三透光层，所述第三透光层设于所述第二透光层和所述反射层远离所述感光器件的一侧。本申请实施例提供掩模版组，所述掩模版组用于制作如上任一所述的显示面板，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述掩模版组包括第一掩模版，用于处理与所述显示区域和所述感光区域对应的光阻层，所述第一掩模版包括：第一开口部，所述第一开口部与所述感光区域相对设置，用于曝光所述光阻层中位于所述感光区域中的部分；第一遮挡部，所述第一遮挡部与所述显示区域相对设置，所述光阻层位于反射膜上方，所述第一遮挡部用于遮挡所述光阻层中位于所述显示区域中的部分，进而保留所述光阻层中位于所述显示区域中的部分，进而保留所述反射膜中位于所述显示区域中的部分以形成反射层。在一实施例中，所述掩模版组还包括第二掩模版，所述第二掩模版包括：第二遮挡部，所述第二遮挡部与所述感光区域相对设置，在蒸镀时，用于阻挡蒸镀材料沉积在所述感光区域；第二开口部，所述第二开口部与所述显示区域相对设置，用于使所述蒸镀材料沉积在所述显示区域，以形成阴极层。本申请实施例提供显示面板的制作方法，所述方法用于制作如上任一所述的显示面板，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述方法包括：提供衬底；在所述衬底上形成阳极层，所述阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层；在所述衬底远离所述阳极层的一侧设置感光器件，所述感光器件与所述感光区域对应。在一实施例中，所述在所述衬底上形成阳极层，所述阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层的步骤，包括：在所述衬底上形成所述第一透光层和所述第二透光层，以及在所述第一透光层和所述第二透光层上依次形成反射膜、光阻层，其中所述第一透光层设于所述显示区域，所述第二透光层设于所述感光区域，所述反射膜和所述光阻层设于所述显示区域和所述感光区域；采用第一掩模版对所述光阻层进行曝光，所述第一掩模版包括第一开口部和第一遮挡部，所述第一开口部与所述感光区域相对设置，用于曝光所述光阻层中位于所述感光区域中的部分，所述第一遮挡部与所述显示区域相对设置，用于遮挡所述光阻层中位于所述显示区域中的部分；去除所述光阻层中位于所述感光区域中的部分，并保留所述光阻层中位于所述显示区域中的部分，以形成光阻图案；去除所述反射膜中未被所述光阻图案覆盖的部分，并保留所述反射膜中被所述光阻图案覆盖的部分，以形成所述反射层。在一实施例中，所述在所述衬底远离所述阳极层的一侧设置感光器件的步骤之前，包括：对所述衬底进行处理，以形成第一衬底和第二衬底，所述第一衬底的厚度小于所述第二衬底的厚度，所述第一衬底与所述感光区域对应，所述第二衬底与所述显示区域对应。本申请提供了显示面板及其制作方法、掩模版组，所述显示面板包括显示区域和感光区域，阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层，感光器件设于衬底远离所述阳极层的一侧中所述感光区域对应的区域。该方案中将阳极层中与感光器件对应区域仅设置第二透光层，而省去反射层，使得显示面板中感光器件上方的膜层的透光率较高，提高了显示面板中感光器件的工作性能。附图说明下面通过附图来对本申请进行进一步说明。需要说明的是，下面描述中的附图仅仅是用于解释说明本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的第一种显示面板的截面示意图。图2为本申请实施例提供的第二种显示面板的截面示意图。图3为本申请实施例提供的第三种显示面板的截面示意图。图4为本申请实施例提供的第四种显示面板的截面示意图。图5为本申请实施例提供的第五种显示面板的截面示意图。图6为本申请实施例提供的一种掩模版组的应用场景示意图。图7为本申请实施例提供的另一种掩模版组的应用场景示意图。图8为本申请实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。图9为本申请实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“远离”、“靠近”等指本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述显示面板包括：/n衬底；/n阳极层，所述阳极层设于所述衬底的一侧，所述阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层；/n感光器件，所述感光器件设于所述衬底远离所述阳极层的一侧，所述感光器件设于所述感光区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述显示面板包括：
衬底；
阳极层，所述阳极层设于所述衬底的一侧，所述阳极层中与所述显示区域对应的部分包括层叠设置的第一透光层和反射层，所述阳极层中与所述感光区域对应的部分包括第二透光层；
感光器件，所述感光器件设于所述衬底远离所述阳极层的一侧，所述感光器件设于所述感光区域。


2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底包括：
第一衬底，所述第一衬底设于所述感光区域；
第二衬底，所述第二衬底设于所述显示区域，所述第一衬底的厚度小于所述第二衬底的厚度。


3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设于所述阳极层靠近所述衬底的一侧，所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管设于所述显示区域。


4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
阴极层，所述阴极层设于所述阳极层远离所述衬底的一侧，所述阴极层设于所述显示区域。


5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，当所述第一透光层和所述第二透光层同层设置时，所述阳极层还包括：
第三透光层，所述第三透光层设于所述第二透光层和所述反射层远离所述感光器件的一侧。


6.一种掩模版组，其特征在于，所述掩模版组用于制作如权利要求1-5任一所述的显示面板，所述显示面板包括显示区域和感光区域，所述掩模版组包括第一掩模版，用于处理与所述显示区域和所述感光区域对应的光阻层，所述第一掩模版包括：
第一开口部，所述第一开口部与所述感光区域相对设置，用于曝光所述光阻层中位于所述感光区域中的部分；
第一遮挡部，所述第一遮挡部与所述显示区域相对设置，所述光阻层位于反射膜上方，所述第一遮挡部用于遮挡所述光阻层中位于所述显示区域中的部分，进而保留所述光阻层中位于所述显示区域中的部分，进而保留所述反射膜中位于所述显示区域中的部分以形成反射层。


7.如权利要求6所述的掩模版组，其特征在于，所述掩模版组还包括第二掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭硕，王璟，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42