一种传热均匀的真空烤箱制造技术

本发明专利技术公开了一种传热均匀的真空烤箱，其在前后面上均设置有均热组件，均热组件内设置有均匀加热组件，以便利用均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内，可以有效的保证对真空烤箱加热的均匀性，提高均匀烘烤干燥性能，保证对待烘烤干燥的产品的性能，防止对产品产生损坏，保证真空烘烤的均匀能力和稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种传热均匀的真空烤箱
本专利技术具体涉及一种传热均匀的真空烤箱，属于真空烤箱设备

技术介绍
对于生物医药、电子元件、电池制备等领域，往往需要利用真空烤箱来对一些产品进行真空干燥处理，而在真空干燥时，一般在真空下利用一定的温度进行干燥，由于温度不能太高，否则容易损坏这些产品，而且，温度也不能太低，否则无法实现快速干燥处理。这就对真空烤箱内的温度的均匀性提出较高的要求。目前的真空烤箱一般是依靠均匀布置加热元件的方式来实现均匀加热，但是，由于加热元件在布置时，依然是各个点布置的方式，即使均匀布置，也很难保证真空内温度的均匀性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种传热均匀的真空烤箱，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种传热均匀的真空烤箱，其包括真空烤箱本体、抽真空机组、干燥氮气供给组件和温控加热组件，其中，所述真空烤箱本体的腔体与所述抽真空机组连通，以便对所述腔体进行抽真空处理，所述真空烤箱本体的腔体还与所述干燥氮气供给组件连通，以便在干燥烘烤完毕后充入干燥氮气，所述真空烤箱本体的前后面为面积最大的面，其特征在于，所述前后面上均设置有均热组件，所述均热组件内设置有均匀加热组件，所述均匀加热组件与所述温控加热组件控制连接，以便利用所述均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，所述均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内。进一步，作为优选，所述均匀加热组件至少包括多个均匀阵列布置的加热棒，所述加热棒水平延伸的布置在与所述前后面平行的面上，且各个加热棒分别伸入所述均热组件内。进一步，作为优选，所述均热组件至少包括均匀导热组件，所述均匀导热组件内填充有低熔点物质，所述低熔点物质的熔点温度小于200℃，且所述低熔点物质在所述均匀加热组件的加热下能够融化为液体，以便实现均匀的导热，所述加热棒伸入所述低熔点物质处。进一步，作为优选，所述干燥氮气供给组件包括氮气瓶、控制气阀和供给管，其中，所述氮气瓶通过所述供给管连接至所述真空烤箱本体内的腔体，所述供给管上还设置有所述控制气阀。进一步，作为优选，所述温控加热组件包括温度控制器和控制线缆，其中，所述温度控制器固定在所述真空烤箱本体的一侧，所述温度控制器通过控制线缆连接至所述均匀加热组件，所述腔体内、均匀导热组件内均设置有与所述温度控制器反馈连接的温度传感器。进一步，作为优选，所述真空烤箱本体的前侧面上设置有与之可开合连接的密封门盖，所述密封门盖向上或者向下开合，所述密封门盖的外侧设置有可开合的保温门，所述均热组件和均匀加热组件均位于所述保温门与所述密封门盖构设的空间内，且所述保温门的内侧还设置有保温容纳腔，所述保温容纳腔内塞设有保温石棉板，所述保温石棉板采用固定架固定在所述密封门盖内。进一步，作为优选，所述均匀加热组件包括导热金属架、间隔焊接架、隔热绝缘筒和加热棒，其中，所述导热金属架的一侧固定在所述保温石棉板内侧面上，所述隔热绝缘筒为多个，且均匀的阵列设置，各个所述隔热绝缘筒采用所述间隔焊接架固定在所述导热金属架上，所述加热棒的一端固定在所述隔热绝缘筒的端部，所述加热棒的另一端伸入所述均热组件内，连接控制各个加热棒的电路板位于所述隔热绝缘筒内，且控制各个加热泵的线缆穿过所述隔热绝缘筒设置。进一步，作为优选，所述均热组件包括均热箱和导热与散热组件，其中，所述均热箱上设置有多个伸入孔，每个所述加热棒均伸入所述伸入孔内，且所述加热棒与所述伸入孔内壁之间密封设置，所述均热箱上固定连接设置有所述导热与散热组件，所述导热与散热组件与所述腔体临接，所述低熔点物质位于所述均热箱内。进一步，作为优选，所述均热箱包括密封连接在一起的金属导热箱体和金属导热箱盖，低熔点物质位于所述金属导热箱体和金属导热箱盖密封构设的空间内，所述导热与散热组件固定在所述金属导热箱盖上，所述金属导热箱盖上设置有伸入所述低熔点物质内的导热翅片。进一步，作为优选，所述导热与散热组件包括蜂窝导热块、薄壁导热板和导热柱，所述蜂窝导热块上密集的设置有蜂窝孔，所述蜂窝导热块的孔端一端与所述金属导热箱盖固定连接，所述蜂窝导热块的孔端另一端连接所述薄壁导热板，所述薄壁导热板上可滑动的设置有多个导柱热，所述导热柱能够伸入所述蜂窝孔内，且所述导热柱能够伸入所述真空烤箱本体的腔体内。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术提供的一种传热均匀的真空烤箱，其在前后面上均设置有均热组件，均热组件内设置有均匀加热组件，以便利用均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内，可以有效的保证对真空烤箱加热的均匀性，提高均匀烘烤干燥性能，保证对待烘烤干燥的产品的性能，防止对产品产生损坏，保证真空烘烤的均匀能力和稳定性。附图说明图1为一种传热均匀的真空烤箱的整体结构示意图；图2为一种传热均匀的真空烤箱中均匀加热组件的局部结构示意图。图3为图2中A-A处的剖面结构示意图；图4为一种传热均匀的真空烤箱的均热组件结构示意图；具体实施方式请参阅图1～4，本专利技术实施例中，一种传热均匀的真空烤箱，其包括真空烤箱本体1、抽真空机组2、干燥氮气供给组件和温控加热组件，其中，所述真空烤箱本体的腔体与所述抽真空机组连通，以便对所述腔体进行抽真空处理，所述真空烤箱本体的腔体还与所述干燥氮气供给组件连通，以便在干燥烘烤完毕后充入干燥氮气，所述真空烤箱本体的前后面10为面积最大的面，其特征在于，所述前后面上均设置有均热组件，所述均热组件内设置有均匀加热组件，所述均匀加热组件与所述温控加热组件控制连接，以便利用所述均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，所述均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内。在本实施例中，所述均匀加热组件至少包括多个均匀阵列布置的加热棒15，所述加热棒15水平延伸的布置在与所述前后面平行的面上，且各个加热棒分别伸入所述均热组件内。作为较佳的实施例，所述均热组件至少包括均匀导热组件，所述均匀导热组件内填充有低熔点物质，所述低熔点物质的熔点温度小于200℃，较佳的实施例为所述低熔点物质的熔点温度小于100℃，作为更佳的实施例，所述低熔点物质的熔点温度小于50℃，其一般根据真空烤箱的最大温度而设，一般可以设置为真空烤箱最大温度的百分之八十以下，且所述低熔点物质在所述均匀加热组件的加热下能够融化为液体，以便实现均匀的导热，所述加热棒伸入所述低熔点物质处。在本实施例中，所述干燥氮气供给组件包括氮气瓶12、控制气阀11和供给管9，其中，所述氮气瓶通过所述供给管连接至所述真空烤箱本体内的腔体，所述供给管上还设置有所述控制气阀。其中，所述温控加热组件包括温度控制器5和控制线缆6，其中，所述温度控制器固定在所述真空烤箱本体的一侧，所述温度控制器通过控制线缆连接至所述均匀加热组件，所述腔体内、均匀导热组件内均设置有与所述温度控制器反馈连接的温度传感器。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种传热均匀的真空烤箱，其包括真空烤箱本体(1)、抽真空机组(2)、干燥氮气供给组件和温控加热组件，其中，所述真空烤箱本体的腔体与所述抽真空机组连通，以便对所述腔体进行抽真空处理，所述真空烤箱本体的腔体还与所述干燥氮气供给组件连通，以便在干燥烘烤完毕后充入干燥氮气，所述真空烤箱本体的前后面(10)为面积最大的面，其特征在于，所述前后面上均设置有均热组件，所述均热组件内设置有均匀加热组件，所述均匀加热组件与所述温控加热组件控制连接，以便利用所述均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，所述均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内。/n

【技术特征摘要】
1.一种传热均匀的真空烤箱，其包括真空烤箱本体(1)、抽真空机组(2)、干燥氮气供给组件和温控加热组件，其中，所述真空烤箱本体的腔体与所述抽真空机组连通，以便对所述腔体进行抽真空处理，所述真空烤箱本体的腔体还与所述干燥氮气供给组件连通，以便在干燥烘烤完毕后充入干燥氮气，所述真空烤箱本体的前后面(10)为面积最大的面，其特征在于，所述前后面上均设置有均热组件，所述均热组件内设置有均匀加热组件，所述均匀加热组件与所述温控加热组件控制连接，以便利用所述均匀加热组件实现对所述均热组件均匀的加热，所述均热组件构设为能够均匀的将均匀加热组件的热量传送至所述腔体内。


2.如权利要求1所述的一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：所述均匀加热组件至少包括多个均匀阵列布置的加热棒(15)，所述加热棒(15)水平延伸的布置在与所述前后面平行的面上，且各个加热棒分别伸入所述均热组件内。


3.如权利要求2所述的一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：所述均热组件至少包括均匀导热组件，所述均匀导热组件内填充有低熔点物质，所述低熔点物质的熔点温度小于200℃，且所述低熔点物质在所述均匀加热组件的加热下能够融化为液体，以便实现均匀的导热，所述加热棒伸入所述低熔点物质处。


4.如权利要求2所述的一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：所述干燥氮气供给组件包括氮气瓶(12)、控制气阀(11)和供给管(9)，其中，所述氮气瓶通过所述供给管连接至所述真空烤箱本体内的腔体，所述供给管上还设置有所述控制气阀。


5.如权利要求2所述的一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：所述温控加热组件包括温度控制器(5)和控制线缆(6)，其中，所述温度控制器固定在所述真空烤箱本体的一侧，所述温度控制器通过控制线缆连接至所述均匀加热组件，所述腔体内、均匀导热组件内均设置有与所述温度控制器反馈连接的温度传感器。


6.如权利要求2所述的一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：所述真空烤箱本体的前侧面上设置有与之可开合连接的密封门盖(8)，所述密封门盖向上或者向下开合，所述密封门盖的外侧设置有可开合的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志坚，吴迪，郭加澄，马启远，
申请(专利权)人：华北电力大学保定，
类型：发明
国别省市：河北;13