【技术实现步骤摘要】
一种双路四通道偏振干涉成像系统及方法
本专利技术属于光谱成像领域,涉及一种新型双路四通道偏振干涉成像系统。
技术介绍
成像遥感作为一种获取信息的重要手段,在军、民领域都得到了广泛的应用。现有的成像遥感器件主要通过目标辐射的光谱和强度信息获取目标的理化特性。而对于地球表面和大气中的任何目标,在反射、透射、散射和吸收太阳辐射的过程中,会产生由目标本身性质所决定的偏振光谱特征。通过获取目标的偏振光谱特征得到传统方法无法获取的观测目标的新信息,可有效的提高目标检测和识别的性能。偏振探测可以获得目标偏振信息,在诸多领域有着重要的应用。近几年来,随着光学探测技术要求的进一步发展,人们对光谱分辨率、空间分辨率以及微弱信号的探测能力等技术指标要求越来越高。干涉型成像光谱技术所具有的多通道、高通量和较大视场等显著优点,使它拥有无可比拟的发展前景。随着干涉成像光谱技术的不断发展和完善以及人们对获取光学信息的信息量要求的不断增加,因此各种信息获取的技术之间出现了融合,偏振技术与干涉成像光谱技术的结合,实现了目标多维信息的获取,能够得到其图像信息、光谱信息和图像信息。对该类技术学者们已进行了大量的研究,并研制出了多种形式的偏振干涉成像光谱仪。目前该类光谱仪已广泛应用于遥感、天文、环境监测、资源勘探和生物医学等各个领域。鉴于偏振干涉成像光谱仪在实现目标多维信息的获取方面的巨大潜力,本专利技术提出了一种新型双路四通道偏振干涉成像系统。传统偏振成像系统中,为获得四个斯托克斯分量,引入了相位延迟器件并使用旋转的偏振元件,机械旋转或者 ...
【技术保护点】
1.一种双路四通道偏振干涉成像系统,其特征在于:包括前置光学系统、共路型非对称Sagnac干涉仪以及偏振干涉探测系统;/n所述前置光学系统用于收集入射光并将其准直;/n所述共路型非对称Sagnac干涉仪包括沿光路依次设置的一个偏振分束器(4)、三个平面反射镜(5)和一个第一非偏分束器(6);还包括半波片(7)和光程差标准具(8);所述半波片(7)及光程差标准具(8)均位于偏振分束器(4)的出射光路中;/n所述偏振分束器(4)用于将经前置光学系统准直后的目标光源分成两路振动方向相互垂直的S光和P光;所述半波片(7)用于调节S光和/或P光的振动方向,使得S光和P光具有相同的振动方向;所述光程差标准具(8)用于调节S光和/或P光的光程,使得S光和P光之间产生固定的光程差;所述三个平面反射镜(5)用于将S光和P光反射,并最终将具有相同振动方向、固定光程差的S光和P光反射至第一非偏分束器(6);所述第一非偏分束器(6)用于将具有相同振动方向、固定光程差的S光和P光均反射和透射,形成两路干涉光;/n所述偏振干涉探测系统包括两个第二非偏分束器(10)、四个成像镜(13)、四个探测器(14)及不同相位 ...
【技术特征摘要】
1.一种双路四通道偏振干涉成像系统,其特征在于:包括前置光学系统、共路型非对称Sagnac干涉仪以及偏振干涉探测系统;
所述前置光学系统用于收集入射光并将其准直;
所述共路型非对称Sagnac干涉仪包括沿光路依次设置的一个偏振分束器(4)、三个平面反射镜(5)和一个第一非偏分束器(6);还包括半波片(7)和光程差标准具(8);所述半波片(7)及光程差标准具(8)均位于偏振分束器(4)的出射光路中;
所述偏振分束器(4)用于将经前置光学系统准直后的目标光源分成两路振动方向相互垂直的S光和P光;所述半波片(7)用于调节S光和/或P光的振动方向,使得S光和P光具有相同的振动方向;所述光程差标准具(8)用于调节S光和/或P光的光程,使得S光和P光之间产生固定的光程差;所述三个平面反射镜(5)用于将S光和P光反射,并最终将具有相同振动方向、固定光程差的S光和P光反射至第一非偏分束器(6);所述第一非偏分束器(6)用于将具有相同振动方向、固定光程差的S光和P光均反射和透射,形成两路干涉光;
所述偏振干涉探测系统包括两个第二非偏分束器(10)、四个成像镜(13)、四个探测器(14)及不同相位延迟的波片;所述两个第二非偏分束器(10)分别用于将两路干涉光分成两束,形成四束光束;所述不同相位延迟的波片分别用于调节四束光束的偏振态,形成四路偏振信息不同的偏振光;所述四个成像镜(13)分别用于将四路偏振信息不同的偏振光成像在四个探测器(14)。
2.根据权利要求1所述的双路四通道偏振干涉成像系统,其特征在于:所述前置光学系统与共路型非对称Sagnac干涉仪之间设置偏振片(3),所述偏振片(3)的偏振方向与S光的振动方向的夹角为45°,其中S光为偏振分束器的反射光。
3.根据权利要求2所述的双路四通道偏振干涉成像系统,其特征在于:所述三个平面反射镜(5)中至少有一个平面反射镜的倾斜角度可调。
4.根据权利要求3所述的双路四通道偏振干涉成像系统,其特征在于:所述光程差标准具(8)的材料为单轴晶体或非晶体材料,光垂直入射至光程差标准具表面。
5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈莎莎,魏儒义,王鹏冲,谢正茂,刘宏,刘斌,狄腊梅,严强强,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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