一种MEMS惯性传感器及其制造方法和控制系统技术方案

技术编号:25344200 阅读:35 留言:0更新日期:2020-08-21 17:02
本发明专利技术公开了一种MEMS惯性传感器及其制造方法和控制系统,其特征在于,MEMS惯性传感器包括密封盖,质量块,弹性粱,可动电极,固定电极和衬底,该MEMS惯性传感器通过光刻、电铸、溅射、键合等工艺完成制造,包含MEMS惯性传感器的控制系统还包括差分电容检测器,调制解调器和低通滤波器。本发明专利技术制造的MEMS惯性传感器具有低误差,高精准度,运行稳定的特点,包含MEMS惯性传感器的控制系统具有较高的信噪比和线性性能。

【技术实现步骤摘要】
一种MEMS惯性传感器及其制造方法和控制系统
本专利技术属于微机电系统(MEMS)领域,尤其涉及一种MEMS惯性传感器及其制造方法和控制系统。
技术介绍
MEMS器件具有体积小、成本低、性能可靠等优点,在汽车、医疗和军事等领域有着广泛的应用前景。现有技术中MEMS器件的制造存在很多问题,比如加工工艺的稳定性不足,生产出的MEMS器件结构和性能与预期值有较大的偏差,降低了MEMS器件的性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术中的不足,提供一种MEMS惯性传感器及其制造方法和控制系统,使制造的MEMS惯性传感器具有较低的误差,测得的数据有较高的精准度,并且运行稳定。为了达到上述目的,本专利技术采用的技术方案是:一种MEMS惯性传感器,其包括:密封盖,质量块,弹性粱,可动电极,固定电极,衬底;其中所述密封盖与所述衬底键合,构成传感器的密封结构,容纳传感器其他部件,至少两个弹性粱的一端通过固定端与所述衬底固定连接,所述至少两个弹性粱平行于所述衬底设置,其另一端固定于所述质量块,所述质量块的下部设置有所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种MEMS惯性传感器,其特征在于,包括:密封盖,质量块,弹性粱,可动电极,固定电极,衬底;其中所述密封盖与所述衬底键合,构成传感器的密封结构,容纳传感器其他部件,至少两个弹性粱的一端通过固定端与所述衬底固定连接,所述至少两个弹性粱平行于所述衬底设置,其另一端固定于所述质量块,所述质量块的下部设置有所述可动电极,所述衬底上与所述可动电极相对设置有至少两个所述固定电极,所述密封盖内部充有惰性气体。/n

【技术特征摘要】
1.一种MEMS惯性传感器,其特征在于,包括:密封盖,质量块,弹性粱,可动电极,固定电极,衬底;其中所述密封盖与所述衬底键合,构成传感器的密封结构,容纳传感器其他部件,至少两个弹性粱的一端通过固定端与所述衬底固定连接,所述至少两个弹性粱平行于所述衬底设置,其另一端固定于所述质量块,所述质量块的下部设置有所述可动电极,所述衬底上与所述可动电极相对设置有至少两个所述固定电极,所述密封盖内部充有惰性气体。


2.一种根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)对基片进行研磨、抛光,并使用溶液进行超声波清洗;
(2)对基片进行增沾处理;
(3)旋涂光刻胶;
(4)对光刻胶进行前烘,使胶膜干燥;
(5)对光刻胶进行曝光处理;
(6)后烘和超声处理;
(7)使用显影液进行显影;
(8)对基片进行坚膜处理;
(9)电铸第一层金属镍,并对电铸层进行研磨处理;
(10)溅射铜种子层;
(11)重复步骤(3)至(9),形成多层结构;
(12)使用有机溶液去除光刻胶,释放结构;
(13)键合密封盖与基片,完成MEMS惯性传感器。


3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,步骤(1)中首先用浓硫酸和过氧化氢溶液浸泡并超声波清洗,...

【专利技术属性】
技术研发人员:卞经纬
申请(专利权)人:无锡市伍豪机械设备有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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