一种氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂及其制备方法和应用。将ZnSO4溶液和CDs溶液混合均匀，然后加入NaOH溶液搅拌得到沉淀，将沉淀干燥后加入到NaOH溶液水浴加热，最后洗涤、烘干，即得到氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂。氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂可用作在可见光条件下高效光催化降解四环素。本发明专利技术将氧缺陷ZnO与CDs结合，具有良好的比表面积，较强的光吸收能力，并且光生电子空穴复合率降低，光催化活性良好。本发明专利技术制备工艺简单、生产成本低、容易操作、原料来源充足，氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂在实际应用方面有很大的潜力。

【技术实现步骤摘要】
一种氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂及其制备方法
本专利技术涉及光催化剂领域，具体的说是一种氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂及其制备方法。
技术介绍
在最近的几十年中，由于人类的代谢排泄和工业废物的大量释放，由有机化合物引起的水污染被认为是环境中最具挑战性的问题之一。四环素(TC)是一种广泛存在于地表和地下水中的广谱抗生素，具有复杂的芳香环，高稳定性，生物毒性，可变的中间体和溶解度，使其不易被化学和生物过程降解。人体大量饮用的抗生素废水将导致人体遭受严重威胁人类健康的严重疾病。值得注意的是，污水中抗生素的去除已成为全球研究的热点，引起了研究人员的关注。因此，迫切需要开发一种有效而彻底的方法来解决该问题。光催化技术作为一种绿色、环保的高级氧化技术被广泛地降解诸如四环素等污染物。ZnO因其低成本，良好的稳定性和无毒性而成为重要的金属氧化物半导体。但是，由于宽带隙(约3.2eV)，ZnO只能吸收太阳光谱的紫外线区域(4％)，而在可见光区域没有约43％的特征吸收，这在很大程度上限制了其光催化作用。在ZnO中引入氧缺陷可以将其光吸收边缘本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂的制备方法，其特征在于：制备步骤如下：/n(1)：将ZnSO

【技术特征摘要】
1.一种氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂的制备方法，其特征在于：制备步骤如下：
(1)：将ZnSO4溶液与CDs溶液混合均匀，然后加入到NaOH溶液中搅拌，得到沉淀；
(2)：将沉淀用水洗涤后干燥；
(3)：将干燥后的沉淀加入到NaOH溶液中，在剧烈搅拌条件下加热；
(4)：将上述加热后的产物用水洗涤后干燥，即得到氧缺陷ZnO纳米片/CDs复合光催化剂；


2.根据权利要求1所述的氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所用的ZnSO4，CDs和NaOH的摩尔质量比为1∶(0.01％～0.3％)∶2。


3.根据权利要求1所述的氧缺陷ZnO纳米片CDs复合光催化剂的制备方法，其特征在于：步骤(3)中NaOH溶液浓度为4mol/L。


4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：施伟龙，郭峰，任红吉，孙浩然，
申请(专利权)人：江苏科技大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32