【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于探测物体的平移的探测系统
本专利技术涉及用于探测物体的平移的系统。更具体地说,本专利技术涉及通过向衍射图案提供入射光来探测带有所述衍射图案的物体的平移的系统,具体而言,所述平移平行于带有所述衍射图案的平面的法线。本专利技术还涉及用于探测带有衍射图案的物体的平移的方法、重定向装置和频率复用系统。
技术介绍
在各种技术应用中都需要对运动物体的位置或位置变化进行精确测量。例如,在半导体工业中采用的光刻投影工具和晶片检验工具需要有关半导体晶片的位置变化的准确信息。另一应用领域涉及印刷电路板(PCB)工业,其中,在向PCB上安装部件,在PCB上印刷图案或对PCB进行检验时需要有关PCB的位置的信息。典型地,通过向所述物体提供入射光束对所述物体的平移进行光学测量。例如,US4710026公开了一种设备,其包括用于在两光束之间提供预定频率差的装置以及相对于从形成于衬底上的衍射光栅得到的第一和第二衍射光之间的干涉生成光学拍频的装置。所述设备还具有用于探测所述光学拍频与基准信号之间的相位差的装置,所述基准信号的频率对应于两光束之间的频率差,所述设备将根据光学外差干涉法以所述相位差为基础探测衬底的位置。现有技术中的位置探测设备适于测量衬底在衍射图案的平面内的平移。但是所述探测设备不能测量衬底的平面外平移。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种允许在光学系统中探测物体的平面外平移的系统。-->这一目的是通过提供一种用于探测物体的平移的系统实现的,所述物体具有施加于其上的衍射图案,所述系统包括:用于向所述衍射图案提供入射光束,从而从所述衍射图案获得衍射光束的装置;用于通过 ...
【技术保护点】
一种用于探测具有衍射图案(3)的物体(2)的平移(T)的系统(1),所述系统包括:用于向所述衍射图案提供入射光束(I),从而从所述衍射图案获得衍射光束(D)的装置(4);用于通过所述入射光束和所述衍射光束之间的干涉测量相位差的装置(4);用于基于所述的测得的相位差探测所述平移的装置(4)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2004-11-22 04105955.11、一种用于探测具有衍射图案(3)的物体(2)的平移(T)的系统(1),所述系统包括:用于向所述衍射图案提供入射光束(I),从而从所述衍射图案获得衍射光束(D)的装置(4);用于通过所述入射光束和所述衍射光束之间的干涉测量相位差的装置(4);用于基于所述的测得的相位差探测所述平移的装置(4)。2、根据权利要求1所述的系统(1),其中,将用于探测所述平移的所述装置设置为探测所述物体平行于具有衍射光栅的平面的法线的平移。3、根据权利要求1所述的系统(1),其中,所述衍射图案为二维衍射图案(3),且所述系统包括:用于从第一、第二和第三方向向所述衍射图案提供第一、第二和第三入射光束(I1,I2,I3),以获得第一、第二和第三衍射光束(D1,D2,D3)的装置(4),用于测量由所述第一入射光束和所述第一衍射光束、所述第二入射光束和所述第二衍射光束以及所述第三入射光束和所述第三衍射光束构成的对(I1,D1;I2,D2;I3,D3)中的至少一个对之间的相位差的装置。4、根据权利要求3所述的系统(1),其中,所述系统包括位置敏感探测器(5),其被设置为接收所述衍射光束(D1,D2,D3)的其他级(0,-1),以探测所述物体的旋转。5、根据权利要求3所述的系统(1),其中,所述系统还包括一个或多个重定向装置(6;23),其用于使所述第一、第二和第三衍射光束(D1,D2,D3)一次或多次朝向所述物体的所述衍射图案重新定向,以获得进一步衍射光束(Dx)。6、根据权利要求5所述的系统(1),其中,所述重定向装置之一(6)包括立体角(7)、偏振分束器(8)、半波板(9)和棱镜(10),其被设置为使所述第一、第二和第三衍射光束(D1,D2,D3)沿基本相同的光路朝向所述衍射图案重新定向。7、根据权利要求5所述的系统,其中,用于测量相位差的所述装置包括用于基准光束(RB)的输入、用于测量入射光束(I1,I2,I3)和所述基准光束(RB)之间的相位差的第一探测器(21)以及用于测量所述基准光束(RB)和所述进一步衍射光束(Dx)之间的相位差的第二探测器(22)。8、根据权利要求3所述的系统,其中,所述系统被设置为针对所述第一、第二和第三入射光束(I1,I2,I3)具有不同频率。9、根据权利要求8所述的系统,其中,所述系统包括用于提供具有预定频率的激光束的单个激光源(30),以及用于将所述激光束分为四个部分,并使三个部分发生频移,从而针对所述入射光束(I1,I2,I3)获得所述不同频率的装置(32,33),其中,将所述系统设置为将作为基准光束(RB)的第四部分与所述三个部分中的每一部分结合起来用于令所述装置(4)测量相位差。10、根据权利要求3所述的系统(1),其中,所述系统包括半导体激光器(40),其被设置为提供所述第一、第二或第三入射光束(I1,I2,I3)中的至少一个,接收所述第一、第二或第三衍射光束(D1,D2,D3)或进一步衍射光束(Dx),以及将所述入射光束(I1,I2,I3)和所述衍射光束(D1,D2,D3,Dx)的一部分输出至所述用于测量相位差的装置...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷纳图斯G克拉韦尔,约翰C康普特,皮特范德梅尔,
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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