一种水质化学需氧量检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种水质化学需氧量检测装置，属于环境水质在线检测技术领域，一种水质化学需氧量检测装置，包括底座、控制器、反应室、半导体加热丝、屏蔽膜、温度传感器、通风柜和排气扇，所述控制器和通风柜依次安装在底座上，所述排气扇安装在通风柜的顶部居中位置处，所述反应室设置在通风柜内，所述半导体加热丝围设在反应室外，所述温度传感器设置在反应室的内底部，所述屏蔽膜围设在反应室外且安装在底座的上表面上，所述通风柜内通过对位机构连接有水垢清洁机构。这样可以首先通过对位机构将水垢清洁机构移至反应室正上方后再移至反应室内方便后续的对反应室内壁上水垢的清洁工作，它可以实现对反应室内壁上水垢的有效清洁，从而保证该检测装置的正常检测活动，确保检测数据的准确性。

【技术实现步骤摘要】
一种水质化学需氧量检测装置
本技术涉及环境水质在线检测
，更具体地说，涉及一种水质化学需氧量检测装置。
技术介绍
水样在一定条件下，以氧化1升水样中还原性物质所消耗的氧化剂的量为指标，折算成每升水样全部被氧化后，需要的氧的毫克数，以mg/L表示。它反映了水中受还原性物质污染的程度。该指标也作为有机物相对含量的综合指标之一。化学需氧量表示在强酸性条件下重铬酸钾氧化一升污水中有机物所需的氧量，可大致表示污水中的有机物量。COD是指标水体有机污染的一项重要指标,能够反应出水体的污染程度。参照专利公开号为CN204989168U的授权文件，其“公开了一种水质化学需氧量自动在线检测装置，包括通风柜和设于通风柜内部的反应室，通风柜的内壁上设有隔热层，反应室用于放置反应试剂和测试水样，所述反应室的外围设有半导体加热丝，内底部的中心设有温度传感器，半导体加热丝和温度传感器均与控制器电连接；半导体加热丝缠绕在反应室周围，与反应室外壁之间间隔有一定距离。具有结构简单，设计合理，使用灵活、方便，低碳节能，能保持装置内部温度恒定在设定目标温度，保证水质氨氮检测的可靠性与稳定性的功能与特点”。但上述援引的对比文件中在数次的试验之后反应室的内壁上尤其是内底部可能会粘附上或多或少的水垢，这些水垢的存在会影响该检测装置的正常检测活动，从而导致检测数据的不准确。
技术实现思路
1.要解决的技术问题针对现有技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种水质化学需氧量检测装置，它可以实现对反应室内壁上水垢的有效清洁，从而保证该检测装置的正常检测活动，确保检测数据的准确性。2.技术方案为解决上述问题，本技术采用如下的技术方案。一种水质化学需氧量检测装置，包括底座、控制器、反应室、半导体加热丝、屏蔽膜、温度传感器、通风柜和排气扇，所述控制器和通风柜依次安装在底座上，所述排气扇安装在通风柜的顶部居中位置处，所述反应室设置在通风柜内，所述半导体加热丝围设在反应室外，所述温度传感器设置在反应室的内底部，所述屏蔽膜围设在反应室外且安装在底座的上表面上，所述通风柜内通过对位机构连接有水垢清洁机构。这样可以首先通过对位机构将水垢清洁机构移至反应室正上方后再移至反应室内方便后续的对反应室内壁上水垢的清洁工作。进一步的，所述对位机构包括横向设置在通风柜内的电动滑轨，所述电动滑轨的左右两端分别与通风柜内两相对的内侧壁固接，所述电动滑轨上滑动安装有电动滑块，所述电动滑块的底部安装有第一伸缩机构，且所述第一伸缩机构的输出端与水垢清洁机构相连接。通过电动滑块在电动滑轨上滑移至电动滑轨的中部之后第一伸缩机构输出端伸长促使水垢清洁机构被送至与反应室内部相贴合的位置处停止，方便后续对反应室内壁上水垢清洁工作顺利开展。进一步的，所述水垢清洁机构包括通过电机安装座固定安装在第一伸缩机构输出端上的驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴上通过支架对称安装有两个第一清洁部件，且两个所述第一清洁部件的下方均设置有第二清洁部件。通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室内壁上水垢的多方位清洁，效果更佳。进一步的，所述第一清洁部件包括安装在支架上的竖板，所述竖板远离转轴的一侧及其底部共同通过粘剂粘接有第一清洁刷。驱动电机带动转轴转动这样两个第一清洁部件可以在绕转轴轴心转动的过程中实现对反应室内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，针对性强。进一步的，所述第二清洁部件包括通过销轴活动连接在竖板下端上的偏转板，所述偏转板的底部通过粘剂粘接有第二清洁刷，且所述竖板靠近转轴的一侧铰接有第二伸缩机构，所述第二伸缩机构的输出端与偏转板的背部相铰接。控制两个第二伸缩机构输出端同步伸长可以促使两个偏转板绕两个销轴的轴心相对转动，最终达到两个第二清洁刷与反应室内底部贴合的状态，并且两个第二清洁刷之间的缝隙可以为凸出的温度传感器留出足够的空间，避免第二清洁部件在对反应室内底部上的水垢刮擦清洁时造成温度传感器的意外损坏，实用性强，针对性也进一步获得提升。进一步的，所述第一伸缩机构与第二伸缩机构均为电动伸缩杆。电动伸缩杆可以较为简单地实现对偏转板状态的调整，并且该伸缩机构相对来说简单易得，并且易于操作控制。3.有益效果相比于现有技术，本技术的优点在于：(1)本方案可以首先通过对位机构将水垢清洁机构移至反应室正上方后再移至反应室内方便后续的对反应室内壁上水垢的清洁工作，之后便可以实现对反应室内壁上水垢的有效清洁，从而保证该检测装置的正常检测活动，确保检测数据的准确性。(2)通过电动滑块在电动滑轨上滑移至电动滑轨的中部之后第一伸缩机构输出端伸长促使水垢清洁机构被送至与反应室内部相贴合的位置处停止，方便后续对反应室内壁上水垢清洁工作顺利开展。(3)通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室内壁上水垢的多方位清洁，效果更佳。(4)驱动电机带动转轴转动这样两个第一清洁部件可以在绕转轴轴心转动的过程中实现对反应室内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，针对性强。(5)控制两个第二伸缩机构输出端同步伸长可以促使两个偏转板绕两个销轴的轴心相对转动，最终达到两个第二清洁刷与反应室内底部贴合的状态，并且两个第二清洁刷之间的缝隙可以为凸出的温度传感器留出足够的空间，避免第二清洁部件在对反应室内底部上的水垢刮擦清洁时造成温度传感器的意外损坏，实用性强，针对性也进一步获得提升。(6)电动伸缩杆可以较为简单地实现对偏转板状态的调整，并且该伸缩机构相对来说简单易得，并且易于操作控制。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为本技术中转轴上第一、二清洁部件的结构放大图。图中标号说明：1底座、2控制器、3反应室、4半导体加热丝、5屏蔽膜、6温度传感器、7通风柜、8排气扇、9电动滑轨、10电动滑块、11第一伸缩机构、12驱动电机、13转轴、14支架、15竖板、16第一清洁刷、17第二伸缩机构、18偏转板、19第二清洁刷。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水质化学需氧量检测装置，包括底座(1)、控制器(2)、反应室(3)、半导体加热丝(4)、屏蔽膜(5)、温度传感器(6)、通风柜(7)和排气扇(8)，所述控制器(2)和通风柜(7)依次安装在底座(1)上，所述排气扇(8)安装在通风柜(7)的顶部居中位置处，所述反应室(3)设置在通风柜(7)内，所述半导体加热丝(4)围设在反应室(3)外，所述温度传感器(6)设置在反应室(3)的内底部，所述屏蔽膜(5)围设在反应室(3)外且安装在底座(1)的上表面上，其特征在于：所述通风柜(7)内通过对位机构连接有水垢清洁机构。/n

【技术特征摘要】
1.一种水质化学需氧量检测装置，包括底座(1)、控制器(2)、反应室(3)、半导体加热丝(4)、屏蔽膜(5)、温度传感器(6)、通风柜(7)和排气扇(8)，所述控制器(2)和通风柜(7)依次安装在底座(1)上，所述排气扇(8)安装在通风柜(7)的顶部居中位置处，所述反应室(3)设置在通风柜(7)内，所述半导体加热丝(4)围设在反应室(3)外，所述温度传感器(6)设置在反应室(3)的内底部，所述屏蔽膜(5)围设在反应室(3)外且安装在底座(1)的上表面上，其特征在于：所述通风柜(7)内通过对位机构连接有水垢清洁机构。


2.根据权利要求1所述的一种水质化学需氧量检测装置，其特征在于：所述对位机构包括横向设置在通风柜(7)内的电动滑轨(9)，所述电动滑轨(9)的左右两端分别与通风柜(7)内两相对的内侧壁固接，所述电动滑轨(9)上滑动安装有电动滑块(10)，所述电动滑块(10)的底部安装有第一伸缩机构(11)，且所述第一伸缩机构(11)的输出端与水垢清洁机构相连接。


3.根据权利要求2所述的一种水质化学需氧量检测装置，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁洪丹，张景东，
申请(专利权)人：苏州源泓环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32