光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种即使光取向层的表面被摩擦，在光吸收各向异性层中也不易产生取向缺陷的光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置。本发明专利技术的光学层叠体的制造方法为制作具有光取向层及光吸收各向异性层且正面透射率为60％以下的光学层叠体的光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体的制造方法具有：光取向层形成工序，在聚合物薄膜上形成光取向层；及光吸收各向异性层形成工序，在光取向层上涂布含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置
本专利技术涉及一种光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置。
技术介绍
近年来，有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode：OLED)的开发正在进行中，并对所使用的各部件进行可挠化。其中，对为了防止外光的反射而使用的圆偏振片要求高偏振度和柔性。以往，在圆偏振片中使用碘偏振器，但碘偏振器是通过使碘溶解或吸附于如聚乙烯醇那样的高分子材料并将其膜沿一方向以高倍率拉伸为薄膜状而制作的，因此不具有充分的柔性。因此，正在研究在透明薄膜等基板上涂布二色性色素并利用分子间相互作用等使其取向的偏振器。例如，在专利文献1中提出有将二色性偶氮色素在具有高取向性的液晶基质中相溶而成的具有高二色性比的偏振元件。并且，在专利文献2中提出有使用二色性偶氮色素而高浓度且薄膜并且具有高偏振度的偏振器。另外，在专利文献3中记载有能够使用通过光照射限制取向的光取向层来控制二色性色素的取向。以往技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5923941号公报专利文献2：日本专利第5437744号公报专利文献3：日本专利第5300776号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术人等进行了如下研究：在支撑体上通过光照射使包含光活性化合物的光取向层取向之后，层叠含有二色性物质的光吸收各向异性层来制作偏振器。进行研究的结果，本专利技术人等发现了当光取向层的表面被输送辊等摩擦时在层叠的光吸收各向异性层中产生取向缺陷。因此，本专利技术的课题在于提供一种即使光取向层的表面被摩擦，在光吸收各向异性层中也不易产生取向缺陷的光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置。用于解决技术课题的手段本专利技术人等为了实现上述课题而进行了深入研究，其结果，发现通过在光取向层上涂布含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层，即使光取向层的表面被摩擦，在光吸收各向异性层中也不易产生取向缺陷，并完成了本专利技术。即，本专利技术人等发现了通过以下构成能够解决上述课题。[1]一种光学层叠体的制造方法，其为制作具有光取向层及光吸收各向异性层且正面透射率为60％以下的光学层叠体的光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体的制造方法具有：光取向层形成工序，在聚合物薄膜上形成光取向层；及光吸收各向异性层形成工序，在光取向层上涂布含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层。[2]根据[1]所述的光学层叠体的制造方法，其中，光取向层形成工序与光吸收各向异性层形成工序之间具有使光取向层的涂布液晶组合物的一侧的表面与输送辊接触的工序。[3]根据[1]或[2]所述的光学层叠体的制造方法，其中，光取向层形成工序与光吸收各向异性层形成工序之间具有卷取形成有光取向层的聚合物薄膜的工序。[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，光取向层形成工序具有：将含有具有光反应性基团的化合物的光取向层形成用组合物涂布于聚合物薄膜上而形成涂膜的工序；通过加热干燥涂膜的工序；及对干燥后的涂膜照射偏振光或对涂膜表面从倾斜方向照射非偏振光的工序。[5]根据[4]所述的光学层叠体的制造方法，其中，光取向层形成用组合物为含有具有光反应性基团及交联性基团的化合物且不含有自由基聚合引发剂的组合物。[6]根据[1]至[5]中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，光吸收各向异性层形成工序具有：将液晶组合物涂布于光取向层上而形成涂膜的工序；及使涂膜中所包含的液晶性成分取向的工序。[7]一种光学层叠体，其为具有光取向层及光吸收各向异性层且正面透射率为60％以下的光学层叠体，其中，光吸收各向异性层为由含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物形成的层。[8]根据[7]所述的光学层叠体，其中，液晶组合物中的高分子液晶性化合物的固体成分比例为55质量％以上且95质量％以下，二色性物质的固体成分比例为2质量％以上且35质量％以下。[9]根据[7]或[8]所述的光学层叠体，其中，液晶组合物中的高分子液晶性化合物的固体成分比例为75质量％以上且95质量％以下，二色性物质的固体成分比例为5质量％以上且25质量％以下。[10]根据[7]至[9]中任一项所述的光学层叠体，其中，液晶组合物含有具有下述式(1)所表示的重复单元的高分子液晶性化合物。[化学式1]其中，上述式(1)中，R表示氢原子或甲基。L表示单键或2价的连接基团。B表示氢原子、卤原子、氰基、烷基、烷氧基、氨基、氧羰基、酰氧基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰氨基、氨磺酰基、氨甲酰基、烷硫基、磺酰基、亚磺酰基、脲基或交联性基团。M表示下述式(1-1)所表示的介晶基团。[化学式2]其中，上述式(1-1)中，Ar11及Ar12分别独立地表示可以具有取代基的亚苯基或亚联苯基。L11及L12分别独立地表示单键或不包含偶氮基的2价的连接基团。Y表示亚氨基、-OCO-CH＝CH-基或-CH＝CH-CO2-基。m1及m2分别独立地表示1～3的整数。当m1为2～3的整数时，多个Ar11分别可以相同也可以不同，多个L11分别可以相同也可以不同。当m2为2～3的整数时，多个Ar12分别可以相同也可以不同，多个L12分别可以相同也可以不同。[11]根据[7]至[9]中任一项所述的光学层叠体，其中，液晶组合物含有具有下述式(2)所表示的重复单元的高分子液晶性化合物，下述式(2)中，P1、L1及SP1的logP值与M1的logP值之差为4以上。[化学式3]其中，上述式(2)中，P1表示重复单元的主链，L1表示单键或2价的连接基团，SP1表示间隔基团，M1表示介晶基团，T1表示末端基。其中，当M1具有连接基团时，不包含偶氮基作为连接基团。[12]根据[7]至[11]中任一项所述的光学层叠体，其中，液晶组合物含有具有自由基聚合性基团的高分子液晶性化合物。[13]根据[7]至[12]中任一项所述的光学层叠体，其中，液晶组合物含有具有自由基聚合性基团的低分子液晶性化合物。[14]根据[7]至[13]中任一项所述的光学层叠体，其中，光取向层为由含有具有肉桂酰基的化合物的组合物形成的层。[15]根据[7]至[14]中任一项所述的光学层叠体，其中，光取向层为由含有具有肉桂酰基及交联性基团的化合物的组合物形成的层。[16]根据[7]至[15]中任一项所述的光学层叠体，其中，光取向层为由含有具有肉桂酰基及自由基聚合性基团的化合物的组合物形成的层。[17]根据[7]至[13]中任一项所述的光学层叠体，其中，光取向层为包含具有偶氮基作为光活性基团的光活性化合物的光取向层，光活性化合物为分子量1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学层叠体的制造方法，其为制作具有光取向层及光吸收各向异性层、且正面透射率为60％以下的光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体的制造方法具有：/n光取向层形成工序，在聚合物薄膜上形成光取向层；及/n光吸收各向异性层形成工序，在所述光取向层上涂布含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171228 JP 2017-254390;20181213 JP 2018-2338121.一种光学层叠体的制造方法，其为制作具有光取向层及光吸收各向异性层、且正面透射率为60％以下的光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体的制造方法具有：
光取向层形成工序，在聚合物薄膜上形成光取向层；及
光吸收各向异性层形成工序，在所述光取向层上涂布含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层。


2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，
在所述光取向层形成工序与所述光吸收各向异性层形成工序之间，具有使所述光取向层的涂布所述液晶组合物的一侧的表面与输送辊接触的工序。


3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
在所述光取向层形成工序与所述光吸收各向异性层形成工序之间，具有卷取形成有所述光取向层的聚合物薄膜的工序。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述光取向层形成工序具有：将含有具有光反应性基团的化合物的光取向层形成用组合物涂布于所述聚合物薄膜上而形成涂膜的工序；通过加热使所述涂膜干燥的工序；及对干燥后的所述涂膜照射偏振光或对所述涂膜表面从倾斜方向照射非偏振光的工序。


5.根据权利要求4所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述光取向层形成用组合物为含有具有光反应性基团及交联性基团的化合物、且不含有自由基聚合引发剂的组合物。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述光吸收各向异性层形成工序具有：将所述液晶组合物涂布于所述光取向层上而形成涂膜的工序；及使所述涂膜中所包含的液晶性成分取向的工序。


7.一种光学层叠体，其为具有光取向层及光吸收各向异性层、且正面透射率为60％以下的光学层叠体，其中，
所述光吸收各向异性层为由含有二色性物质及高分子液晶性化合物的液晶组合物形成的层。


8.根据权利要求7所述的光学层叠体，其中，
所述液晶组合物中的所述高分子液晶性化合物的固体成分比例为55质量％以上且95质量％以下，所述二色性物质的固体成分比例为2质量％以上且35质量％以下。


9.根据权利要求7或8所述的光学层叠体，其中，
所述液晶组合物中的所述高分子液晶性化合物的固体成分比例为75质量％以上且95质量％以下，所述二色性物质的固体成分比例为5质量％以上且25质量％以下。


10.根据权利要求7至9中任一项所述的光学层叠体，其中，
所述液晶组合物含有具有下述式(1)所表示的重复单元的高分子液晶性化合物，



其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴田直也，西村直弥，星野涉，藤木优壮，米本隆，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP