薄膜沉积用前体溶液以及利用该前体溶液的薄膜形成方法技术

本发明专利技术涉及薄膜沉积用前体溶液，由选自能够在室温(room temperature)溶解金属卤化物的液相烯烃(alkene)或者液相炔烃(alkyne)的功能性溶剂以及溶于所述功能性溶剂而在室温下以液相存在的金属卤化物构成，从而在解决由于沉积工艺中在腔室内产生的卤素气体导致的问题的同时显示出能够提高薄膜的膜厚度均一性的效果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜沉积用前体溶液以及利用该前体溶液的薄膜形成方法
本专利技术涉及薄膜沉积用前体溶液以及利用该前体溶液的薄膜形成方法，涉及在原子层沉积(ALD)或者化学气相沉积(VCD)工艺中使用的包括金属卤化物(metalhalide)的前体溶液以及利用该前体溶液的薄膜形成方法。
技术介绍
有机金属化合物或者金属卤化物被广泛用作用于原子层沉积(ALD)或者化学气相沉积(VCD)工艺的前体。在将有机金属化合物用作前体的情况下，例如在沉积钛金属薄膜的情形下，可以使用四二甲氨基钛(tetradimethylaminotitanium)、四乙基甲基氨基钛(tetraethylmethylaminotitanium)、四二乙氨基钛(tetradiethylaminotitanium)等。在使用这些有机金属化合物作为前体的情形下，由于在沉积薄膜时台阶覆盖性(stepcoverage)优异，并且不会产生诸如卤素离子等杂质，因此在工艺上腐蚀风险低，并且由于大部分为液相前体，因此具有便于在工艺中使用的优点。然而，由于原料的价格高昂，经济性低，并且热稳定性低，因此要在1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜沉积用前体溶液，其特征在于，/n由选自能够在室温溶解金属卤化物的液相烯烃或者液相炔烃的功能性溶剂以及溶于所述功能性溶剂而在室温下以液相存在的金属卤化物构成。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171115 KR 10-2017-01523581.一种薄膜沉积用前体溶液，其特征在于，
由选自能够在室温溶解金属卤化物的液相烯烃或者液相炔烃的功能性溶剂以及溶于所述功能性溶剂而在室温下以液相存在的金属卤化物构成。


2.如权利要求1所述的薄膜沉积用前体溶液，其特征在于，
所述金属卤化物为氟化金属或者氯化金属。


3.如权利要求1所述的薄膜沉积用前体溶液，其特征在于，
所述烯烃为直线形烯烃、环形烯烃、分支形烯烃中的一个以上，
所述炔烃为直线形炔烃、分支形炔烃中的一个以上。


4.如权利要求1所述的薄膜沉积用前体溶液，其特征在于，
以1:0.01至1:20的摩尔比混合所述金属卤化物和功能性溶剂。


5.一种利用薄膜沉积用前体溶液的薄膜形成方法，利用权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴容主，吴瀚率，黃仁天，金相镐，洪畅成，李相京，
申请(专利权)人：思科特利肯株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR